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最新专利技术
  • 一种用于产生EUV光的转动式锡丝靶及EUV光产生装置
    一种用于产生EUV光的转动式锡丝靶及EUV光产生装置_深圳市亿优威光科技有限公司_202511117851.9
    本申请公开一种用于产生EUV光的转动式锡丝靶及EUV光产生装置，其包括：锡丝卷定位机构，其上可转动地设置有锡丝卷；供料机构，位于锡丝卷定位机构的一侧，并具有锡丝容纳位；轰击定位机构，位于锡丝卷定位机构的一侧；锡丝缠绕布置于轰击定位机构上并穿...
    2026-04-13
  • 检查薄膜与微影系统组件的方法及其组件
    检查薄膜与微影系统组件的方法及其组件_台湾积体电路制造股份有限公司_202511149784.9
    一种检查薄膜与微影系统组件的方法及其组件。检查EUV薄膜的实施例方法包括以下步骤：通过使第一辐射照射该EUV薄膜来产生多个强度量测，这导致该EUV薄膜产生第二辐射；及量测该第二辐射的强度。该方法进一步包括以下步骤：根据所述多个强度量测判定时...
    2026-04-13
  • 一种基于纳米薄膜复合材料的柔性电子器件制造系统
    一种基于纳米薄膜复合材料的柔性电子器件制造系统_中企乐富(北京)科技有限公司_202511191910.7
    本申请公开了一种基于纳米薄膜复合材料的柔性电子器件制造系统，包括：双工位交替机构、翻转承载机构和曝光光源，其中，双工位交替机构的两个工位可交替移动至曝光光源正下方；两个翻转承载机构分别设置在两个工位上；每个翻转承载机构均包括有可横向滑动于工...
    2026-04-13
  • 一种复合型线路板的制作曝光检测方法及系统
    一种复合型线路板的制作曝光检测方法及系统_骏友电工电子制品(深圳)有限公司_202511234108.1
    本发明适用线路板检测技术领域，提供了一种复合型线路板的制作曝光检测方法及系统，方法包括：获取对线路板进行曝光的标准能量；对线路板进行多光谱扫描成像获得线路板的场均匀性因子和线路板的层间图像；计算曝光点的初始能量；获取线路板的层间图像并进行叠...
    2026-04-13
  • 一种降低对准误差的硅片对准标记结构设计方法
    一种降低对准误差的硅片对准标记结构设计方法_浙江大学_202511265488.5
    本发明公开了一种对准标记结构设计方法。包括：获取待优化的光栅对准标记结构的周期数值P，将每个周期内的刻线结构细分为2i‑1个子刻线；该2i‑1个子刻线关于中心垂线对称分布，子刻线包括关于待优化的光栅对准标记结构的中心垂线对称的第一子刻线以及...
    2026-04-13
  • 自动校平放料装置
    自动校平放料装置_广东华恒智能科技有限公司_202511312903.8
    本发明提供了一种自动校平放料装置，包括由上往下依次设置的校正机构、放料机构、调节定位机构、水平调整机构和升降调整机构。放料机构用于放置衬底。校正机构包括支撑架、吸附组件和校正组件。吸附组件呈滑动地设置于支撑架上并能滑动至放料机构的上方，吸附...
    2026-04-13
  • 超快激光高效图案化光刻系统及方法
    超快激光高效图案化光刻系统及方法_清华大学_202511330413.0
    本发明公开了一种超快激光高效图案化光刻系统及方法，超快激光高效图案化光刻系统包括超快激光器、激光调节组件、空间光场整形器件和加工平台；超快激光器适于发射超快激光束；激光调节组件适于调整超快激光束的参数；空间光场整形器件适于将超快激光束调整为...
    2026-04-13
  • 超分辨双重图形加工方法
    超分辨双重图形加工方法_中国科学院光电技术研究所_202511400771.4
    本公开提供一种超分辨双重图形加工方法，包括：在衬底上形成层叠的停止层、牺牲层、感光膜层和成像增强层；对准掩模与衬底，对感光膜层进行曝光，显影后形成光栅图形；在光栅图形线条的两侧沉积抗刻蚀层，刻蚀线条缝隙中的抗刻蚀层和感光膜层，形成线宽修饰后...
    2026-04-13
  • 将带电粒子束计量系统的充电效果和辐射损害最小化的扫描策略
    将带电粒子束计量系统的充电效果和辐射损害最小化的扫描策略_科磊股份有限公司_202511422236.9
    本申请涉及将带电粒子束计量系统的充电效果和辐射损害最小化的扫描策略。提供具有用于测量至少两个叠对方向上的叠对的多个周期性结构的目标。在第一方向上横跨该目标的多个扫描刈并且相对于该目标以第一倾斜角扫描带电粒子束，使得以一定角度扫描该周期性结构...
    2026-04-13
  • 光刻工艺中曝光能量的预测方法
    光刻工艺中曝光能量的预测方法_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202511534854.2
    本发明提供一种光刻工艺中曝光能量的预测方法，通过建立光刻制程中相应的光刻胶层涂覆/软烘步骤结束后到下一步骤开始之间的等待时长Q‑Time与PR光刻胶层关键尺寸CD之间的关系模型，然后将相应的光刻胶层超过安全Q‑Time时对应呈单调变化的PR...
    2026-04-13
  • 优化芯片光刻工艺窗口的方法
    优化芯片光刻工艺窗口的方法_上海华力集成电路制造有限公司_202511577214.X
    本发明公开了一种优化芯片光刻工艺窗口的方法，包括：提供定义出位于主图形外侧的亚分辨率辅助图形设置区域图形的第一掩模版。在底层结构上形成硬质掩膜层。采用第一掩模版进行第一次光刻加第一次刻蚀以对硬质掩膜层进行图形化。提供定义出主图形和亚分辨率辅...
    2026-04-13
  • 基于AI优化的Micro-LED无掩膜数字光刻方法、设备和存储介质
    基于AI优化的Micro-LED无掩膜数字光刻方法、设备和存储介质_上海大学_202511626497.2
    本申请公开了一种基于AI优化的Micro‑LED无掩膜数字光刻方法、设备和存储介质，涉及光刻领域，该方法包括获取目标光刻性能参数和双向神经网络，双向神经网络包括正向网络和反向网络，正向网络被训练为能够根据光刻工艺参数预测对应的光刻性能参数，...
    2026-04-13
  • 曝光辅助图形的确定方法、装置和计算机设备
    曝光辅助图形的确定方法、装置和计算机设备_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511649076.1
    本申请涉及一种曝光辅助图形的确定方法、装置和计算机设备，包括：获取锚图形的光强分布曲线，以及锚图形在目标曝光剂量下的目标关键尺寸；目标曝光剂量为标准曝光剂量范围的上限值或者下限值；根据目标关键尺寸和光强分布曲线，确定目标光强度阈值；对初始版...
    2026-04-13
  • 晶圆曝光系统及其补偿方法
    晶圆曝光系统及其补偿方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511666454.7
    本申请公开了一种晶圆曝光系统及其补偿方法，补偿方法包括：采用晶圆曝光系统进行曝光预处理；获取曝光预处理过程中透镜的第一补偿值；获取曝光预处理过程中的掩膜误差值；根据掩膜误差值获取透镜的第二补偿值；根据第一补偿值和第二补偿值产生第三补偿值。本...
    2026-04-13
  • 一种N+1束激光干涉光刻系统
    一种N+1束激光干涉光刻系统_长春理工大学_202511677896.1
    本申请提供了一种N+1束激光干涉光刻系统，包括：光源模块，利用电控时钟阀门装置控制激光器发射的激光束的曝光剂量，并控制其以45°入射至旋转分光模块；旋转分光模块，对激光束进行分振幅分光，得到能量相近的N+1束相干光束，并调制N束边缘相干光束...
    2026-04-13
  • 用于光刻材料在不同设备上运输的标准SMIF设备
    用于光刻材料在不同设备上运输的标准SMIF设备_北京锐洁机器人科技有限公司_202511678687.9
    本发明提供一种用于光刻材料在不同设备上运输的标准SMIF设备，包括：背板，其上设有取料口；升降模组，设置在背板的侧面上；盒盖支撑平台，设置在背板的侧面，与升降模组连接，沿背板升降设置；盒盖支撑平台的中部设有上料口；盒体支撑平台，设置在上料口...
    2026-04-13
  • 一种低COD低氨氮剥膜液及其制备方法
    一种低COD低氨氮剥膜液及其制备方法_深圳市天熙科技开发有限公司_202511559166.1
    本发明涉及剥膜技术领域，具体涉及一种低COD低氨氮剥膜液及其制备方法。所述低COD低氨氮剥膜液，其特征在于，由以下质量百分数原料组成：15‑30wt%脱膜剂、15‑28wt%复合碱、5‑10wt%渗透型复合助剂、0.5‑2wt%十二烷基二苯...
    2026-04-13
  • 一种激光打印机
    一种激光打印机_联想图像(山东)科技有限公司_202410749114.X
    本申请公开了一种激光打印机，属于激光打印领域，包括充电装置、感光鼓、激光装置、粉盒、转印装置、定影装置以及清洁装置。其中，充电装置的充电电压为标准电压的1/n，这样充电装置为感光鼓充电时，感光鼓上带电电压为以前的1/n，若再使用传统的碳粉，...
    2026-04-13
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510740964.8
    一种成像设备，包括：具有第一表面和第二表面的主体；第一感光构件，所述第一感光构件布置在主体的内部并且配置成承载第一调色剂图像；第一曝光部分，所述第一曝光部分布置在主体的内部并且配置成用光对第一感光构件进行曝光；第二感光构件，所述第二感光构件...
    2026-04-13
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202510740982.6
    一种成像设备包括：主体；第一感光部件，所述第一感光部件布置在所述主体的内部，并且被配置成承载第一调色剂图像；第一曝光单元，所述第一曝光单元布置在所述主体的内部，并且被配置成用光对所述第一感光部件进行曝光；控制器，所述控制器被配置成传输用于控...
    2026-04-13
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