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  • 本发明涉及硅片单插装置、硅片单插机器人,属于光伏电池制造技术领域,尤其是插取放片装置。本发明通过设置基座、导轨以及活动连接于导轨的两套吸附模组以形成硅片单插装置,通过两套吸盘组的错位设置实现同时吸附90片硅片且能够逐一单插于铝舟进行双面镀膜...
  • 本申请涉及定位结构技术领域,尤其是涉及OHB储位装配用定位结构,包括治具基准底板、C型钢和储位支撑板;所述C型钢的数量为两个,所述治具基准底板的一端上表面固设有两个对称第一限位销,所述治具基准底板的上表面设置有两组分别与两个C型钢相对应的第...
  • 本申请实施例公开了一种搬运装置。其中,包括行走主体、抓取机构和货盘组。通过本申请实施例,在抓取货盘的待抓取物时,根据待抓取物的种类和规格,通过移动相应的抓取部来调整相应的两个抓取部之间的距离,以适配当前的待抓取物,从而减少设备切换次数,大幅...
  • 示例性基板处理系统可包括传送区域壳体,所述传送区域壳体界定与多个处理区域流体耦接的传送区域。传送区域壳体的侧壁可界定用于提供和接收基板的可密封存取。系统可包括多个基板支撑件,所述多个基板支撑件设置在传送区域内。系统可还包括具有中央毂的传送设...
  • 本发明适用于半导体生产技术领域,提供了一种晶环供料装置及供料方法,上述晶环供料装置包括料仓、运送机构以及换环机构。料仓具有多个沿第一方向依次间隔设置的支撑结构。运送机构包括调节组件与取料组件,取料组件用于与晶环相互作用,以使晶环可与取料组件...
  • 本发明公开了一种晶圆检测自动上料装置,包括载台,载台的一端设有沿Z轴设置的升降机构,升降机构上定位有料仓,载台上设有沿X轴滑动设置的取料机构;还包括固定座,固定座上沿Y轴滑动安装有滑座,滑座上沿X轴滑动安装有载台,滑座和载台的滑动均由集成式...
  • 本发明涉及一种料盒提升机构,包括主体组件、转移组件、触动机构和闸刀机构,主体组件包括结构架、长板、L形抬升架、驱动机构和链条,结构架的顶端和底端都转动连接有两个对称配置的驱动机构,驱动机构包括传动轴一、大齿轮和牙盘,每个传动轴一上都设置有两...
  • 本申请涉及一种具有清洗机械臂功能的基板存储装置,包括底座、升降机构,固定板、清洗槽和基板支撑座,基板支撑座用于支撑基板,清洗槽受升降机构的驱动而升降,从而在清洗位置对机械臂进行清洗,在避让位置对机械臂的运行进行避让,不阻碍机械臂完成基板的取...
  • 本公开提供一种变刚度柔性结构及用于Micro LED灯板的线路板的微纳米定位平台。上述的变刚度柔性结构包括外框体、内框铰链组件及多个柔性连接铰链组件;外框体开设有容纳腔,容纳腔的内壁凸设有多个安装部,多个安装部间隔设置,每一安装部用于与运动...
  • 本发明公开了一种龙门纠偏视觉引导定位方法、装置及存储介质,包括:步骤1:龙门纠偏机构反示教,包括:获取龙门纠偏机构上吸盘吸持硅片的标准位置,通过取料反过程获取龙门纠偏机构对不同踏步带的取料坐标,同时通过相机分别拍摄龙门纠偏轴执行多组平移和多...
  • 本发明公开了一种用于晶圆测量的位姿调节装置,该装置用于对夹持有目标晶圆的治具进行调节,包括:第一支撑机构,包括第一V型结构件,用于对第一定位件进行定位与支撑,以确定半封闭治具的基准点;第二支撑机构,包括第一导向件及滑设于第一导向件内的第二V...
  • 本公开涉及显示技术领域,具体涉及一种电子元件的转移方法及系统、电子基板的制作方法、发光基板。本公开提供的一种电子元件的转移方法,包括:执行第一次转移,将M个第一电子元件从第一基板转移到第二基板;获得经过第一次转移后的第二基板的第一形貌信息,...
  • 本发明提供一种基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法,所述基板处理装置能够使用临时粘接材料来转移对象,可以包括:移送台,一侧面形成有容纳所述对象的容纳槽部,以便移送对象;以及粘接材料供给管线,形成于所述移送台上,将所述临时粘接材料供给至...
  • 本发明提供一种薄膜件装夹装置和方法,包括用于张拉薄膜件的张拉机构,以及用于支撑或者吸附薄膜件的支撑吸附机构,所述张拉机构张拉薄膜件时,所述薄膜件由所述支撑吸附机构支撑,所述张拉机构张拉薄膜件结束后,所述支撑吸附机构吸附所述薄膜件。本发明可以...
  • 本发明属于半导体器件制作工艺技术领域,涉及一种用于SiC晶圆快速退火的载片晶圆、制备方法及应用,包括在第一硅晶圆及第二硅晶圆上沉积二氧化硅膜层,形成刻蚀掩蔽层;移除所述第二硅晶圆,对所述第一硅晶圆进行干法刻蚀,在其表面形成与所述第二硅晶圆相...
  • 本发明提供一种载置台和基板处理装置,能够控制载置台内的流路中的除热均匀性。在静电吸盘上载置基板的载置台具有:基台;所述静电吸盘,其被载置于所述基台的载置面;以及流路,其沿所述载置面形成于所述载置台的内部,用于使热交换介质从热交换介质的供给口...
  • 本发明涉及一种晶圆支撑平台及其晶圆吸附方法,其中,晶圆支撑平台包括展平机构和用于对晶圆提供支撑的真空吸附台,所述真空吸附台通过真空泵提供真空吸附力;所述展平机构用于对所述真空吸附台上的晶圆进行展平处理。本发明通过在真空吸附台上增设展平机构,...
  • 本发明提供一种晶圆吸附装置,涉及晶圆加工领域,晶圆吸附装置包括装置主体、设于装置主体上的吸附机构及设于装置主体上且连通吸附机构的管道机构;吸附机构包括基体及设于基体下方的背板组件,基体靠近背板组件的一侧、且由基体的中心向外间距设有多个同心腔...
  • 本发明涉及升降机构、基板处理装置以及升降方法,提供一种能够降低装置的高度的技术。本公开的一个技术方案的升降机构使将多张基板保持为搁板状的基板保持件升降,其中,该升降机构具有:支承部,其支承所述基板保持件;第1升降部,其与所述支承部连接,使所...
  • 本发明涉及升降机构、基板处理装置以及升降方法,提供一种能够降低装置的高度的技术。本公开的一个技术方案的升降机构使将多张基板保持为搁板状的基板保持件升降,其中,该升降机构具有:支承部,其支承所述基板保持件;升降部,其与所述支承部连接,使所述支...
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