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最新专利技术
  • 宽带偏振旋转器和光开关
    宽带偏振旋转器和光开关_元平台技术有限公司_202480028320.X
    基于扭曲向列(TN)液晶(LC)配置的反射偏振旋转器可以通过由TN LC层补偿的偏振转换的波长依赖性来优化亮态和暗态下的消色差性能。在线性消色差输入偏振下，补偿的目的是在反射器处提供圆形消色差偏振，这保证了在两次通过时90度偏振旋转的消色差...
    2025-11-26
  • 显示基板和显示装置
    显示基板和显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202480000551.X
    一种显示基板和显示装置。显示基板包括：显示区域和位于显示区域周边的异形周边区域；显示基板还包括第一信号线和扫描线，第一信号线包括沿第一方向延伸的至少部分，扫描线包括沿第二方向延伸的至少部分，第一方向与所述第二方向相交；第一信号线包括传输部分...
    2025-11-26
  • 在液晶材料中创建径向折射率图案的技术
    在液晶材料中创建径向折射率图案的技术_弗莱克英纳宝技术有限公司_202480027746.3
    本发明揭露一种液晶装置，其包含至少一个液晶单元，该液晶单元包含第一半单元及第二半单元以及该第一半单元与该第二半单元之间所含有的液晶材料；该第一半单元及/或该第二半单元包含用于在该液晶材料的第一区中创建第一径向折射率图案的第一电极图案，及用于...
    2025-11-26
  • 沉浸式投影系统
    沉浸式投影系统_香港理工大学_202480023815.3
    本发明公开了一种用于安装在沉浸式房间(150)的沉浸式投影系统(130)。沉浸式房间(150)包括具有开口和地板的天花板。沉浸式投影系统(130)包括：图像生成器(110)，其被配置为渲染要显示的图像；投影扭曲系统(120)，其被配置为对从...
    2025-11-26
  • 投影设备和包括该投影设备的电子设备
    投影设备和包括该投影设备的电子设备_LG伊诺特有限公司_202480023771.4
    一实施例公开了一种投影设备，包括：壳体；光源单元，设置在壳体内；光调制器，设置在壳体的一侧；透镜单元，设置在光源单元后面；反射单元，设置在光源单元与光调制器之间；投影透镜单元；以及棱镜，设置在光调制器与投影透镜单元之间，其中投影透镜单元包括...
    2025-11-26
  • 投影器和包括该投影器的电子设备
    投影器和包括该投影器的电子设备_LG伊诺特有限公司_202480024005.X
    一实施例提供一种投影器，包括：壳体；光源单元，设置在壳体中；光调制器，设置在壳体的一个表面上；透镜单元，设置在光源单元的后方；反射单元，设置在光源单元与光调制器之间；投影透镜单元；以及棱镜，设置在光调制器与投影透镜单元之间。光源单元包括在不...
    2025-11-26
  • 防护膜及防护膜组件
    防护膜及防护膜组件_琳得科株式会社_202480022234.8
    一种防护膜(10)，其具有多孔结构，上述防护膜(10)包含碳纳米管，在上述多孔结构的表面测定的空隙的开口率为30%以下，波长550nm的光线透射率为50%以上。
    2025-11-26
  • 防护膜及防护膜组件
    防护膜及防护膜组件_琳得科株式会社_202480022236.7
    一种防护膜(10)，其具有多孔结构，上述防护膜(10)包含碳纳米管，在上述多孔结构的表面测定的空隙的平均空隙直径为60nm以下，且空隙间的平均最邻接重心间距离为70nm以下。
    2025-11-26
  • 衬底存储模块和方法
    衬底存储模块和方法_ASML荷兰有限公司_202480022365.6
    一种衬底存储模块，衬底存储模块用作光刻设备的组成部分，衬底存储模块包括：用于保护多个衬底免受环境空气的影响的可控环境。该衬底存储模块包括多个衬底支撑件，用于接收衬底；以及真空系统，真空系统流体联接到多个衬底支撑件。真空系统被配置为独立地夹持...
    2025-11-26
  • 盖环、衬底支撑件和光刻设备
    盖环、衬底支撑件和光刻设备_ASML荷兰有限公司_202480023082.3
    本文公开了一种用于衬底支撑件的盖环，所述盖环包括：柔性结构，具有用于容置衬底的开口；所述盖环内的封闭区域；以及流体导管，被配置为向所述封闭区域提供流体和/或从所述封闭区域接收流体；其中所述柔性结构被配置为响应于流入所述封闭区域的流体流或者流...
    2025-11-26
  • 感光性树脂组合物、感光性树脂层叠体、以及抗蚀图案的形成方法等
    感光性树脂组合物、感光性树脂层叠体、以及抗蚀图案的形成方法等_旭化成株式会社_202480027864.4
    本发明涉及一种感光性树脂组合物，其包含以下成分：(A)碱溶性高分子、(B)具有烯属不饱和键的化合物、以及(C)光聚合引发剂，其中，所述(A)成分和所述(B)成分均含有芳香环，所述(A)成分中，所述芳香环的比例为0.0045mol/g以上，并...
    2025-11-26
  • 感光性树脂组合物、固化膜、电子装置和电子装置的制造方法
    感光性树脂组合物、固化膜、电子装置和电子装置的制造方法_住友电木株式会社_202480021805.6
    一种感光性树脂组合物，其含有碱溶性树脂(A)、聚醚改性聚二甲基硅氧烷(B)、溶剂(C)和感光剂(D)，聚醚改性聚二甲基硅氧烷(B)的通过凝胶渗透色谱测得的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)为1000以上5000以下。
    2025-11-26
  • 能够湿式去除的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物
    能够湿式去除的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物_日产化学株式会社_202480027028.6
    本发明提供一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有水解性硅烷混合物的水解缩合物和有机溶剂，在所述水解缩合物中，硅烷醇基的至少一部分被醇系化合物封端，所述含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物是用于形成在碱性药液中显示可溶性的含硅抗蚀剂下层膜的组合物。
    2025-11-26
  • 印刷配线基板用曝光装置、曝光方法、印刷配线基板的制造方法
    印刷配线基板用曝光装置、曝光方法、印刷配线基板的制造方法_信越工程株式会社_202380097259.X
    本发明为如下印刷配线基板用曝光装置，其用于通过利用激光光束的照射能量的对形成在基板的表面的抗蚀剂膜的曝光而形成印刷配线曝光图案，所述印刷配线基板用曝光装置构成为，在对基板的曝光时，在使基板照射区域的一部分重叠的同时对掩模与基板载台进行扫掠照...
    2025-11-26
  • 衬底支撑件和光刻设备
    衬底支撑件和光刻设备_ASML荷兰有限公司_202480018569.2
    一种被配置为支撑衬底的衬底支撑件，包括上部组件、芯组件和下部组件；其中：第一开口被形成在上部组件的上表面中；与第一开口连通的第一通路被限定在上部组件和芯组件中；与第一通路连通的第一提取通道由芯组件和下部组件限定；并且第一调节通道由芯组件和下...
    2025-11-26
  • 流体处理系统和方法以及制造器件的方法
    流体处理系统和方法以及制造器件的方法_ASML荷兰有限公司_202480022126.0
    一种用于光刻系统的流体处理系统，包括：液体供应件，所述液体供应件被配置成供应浸没液体以填充介于衬底与所述光刻系统的投影系统之间的浸没空间的至少一部分，其中所述投影系统被配置成将经图案化的辐射束投影到所述衬底上；气体供应件，所述气体供应件被配...
    2025-11-26
  • 投影曝光装置
    投影曝光装置_伯东株式会社_202380097397.8
    在不影响节拍时间的情况下高精度地测量投影透镜的性能变化。投影曝光装置具备：搬送控制部，控制基板载置台和像差/位置偏移测量载置台的搬送，使得在基板载置台位于基板更换位置的期间，像差/位置偏移测量载置台位于所述投影曝光位置；和拍摄控制部，控制对...
    2025-11-26
  • 聚酰亚胺管
    聚酰亚胺管_株式会社I.S.T_202380096451.7
    本发明的课题在于提供一种定影带，所述定影带的导热性优异且在发生卡纸时不易因纸张拉出而破损，可适用于定影带等。本发明的聚酰亚胺管含有聚酰亚胺树脂，该聚酰亚胺树脂中含有碳纳米管，该聚酰亚胺管的热导率为1.00W/mK以上，聚酰亚胺管的长度方向的...
    2025-11-26
  • 电子控制装置
    电子控制装置_三菱电机移动出行株式会社_202380096607.1
    本发明的电子控制装置(1)包括安装在控制基板(2)上的连接器(3)、安装在控制基板(2)上的信号处理单元(4)、以及对连接器(3)和信号处理单元(4)进行连接的信号布线(5)，信号布线(5)由多个单独信号布线(PTC1、PTC2、PTC3、...
    2025-11-26
  • 基板处理系统中的振动确定
    基板处理系统中的振动确定_应用材料公司_202480027346.2
    一种方法包括由处理装置接收来自处理腔室的一或更多个马达的位置误差数据。该方法进一步包括执行位置误差数据的预处理。该方法进一步包括将位置误差数据转换到频域。该方法进一步包括基于频域位置误差数据来确定与处理腔室相关的振动故障已经发生。该方法进一...
    2025-11-26
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