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多元金属中心-有机化合物光刻胶薄膜及其制备方法、器件
本申请实施例提供一种多元金属中心‑有机化合物光刻胶薄膜及其制备方法、器件。所述方法包括以下步骤:利用载气引入第一金属前驱体,使其吸附在衬底一侧表面,并通入惰性吹扫气体,移除未吸附的所述第一金属前驱体;利用所述载气引入有机前驱体,使其与所述第...
光刻方法
本发明提供一种光刻方法,该方法包括:通过第一光刻胶将待光刻的目标样片和衬底进行粘接;目标样片的尺寸小于阈值;通过第二光刻胶对粘接在衬底上的目标样片进行光刻胶匀胶,形成覆盖目标样片的光刻胶膜层;基于光刻胶膜层对目标样品进行光刻。本申请实施的方...
光阻结构、包含该光阻结构的半导体元件及其制造方法
本公开提供一种光阻结构、包括该光阻结构的半导体元件、以及包括该光阻结构的该半导体元件的制备方法。该光阻结构包括一下光阻层;以及位在该下光阻层上的一上光阻层。该上光阻层的一热膨胀系数大于该下光阻层的一热膨胀系数。
化学放大负性光刻胶组合物及应用
本发明提供了一种化学放大负性光刻胶组合物及应用。以重量份数计,该化学放大负性光刻胶组合物包括:5~25份的第一酚醛树脂、5~25份的第二酚醛树脂、3~8份的交联剂、0.5~1.5份的光致产酸剂、0.1~1.0份的碱性添加剂、0.5~1.5份...
一种交联密度梯度变化的光刻胶组合物及其图案化的方法
本发明提供一种交联密度梯度变化的光刻胶组合物及其图案化的方法,通过在光刻胶组合物中引入低分子量第一交联剂和高分子量第二交联剂,使得光刻胶组合物在形成光刻图案的曝光后烘烤过程中发生交联反应,由于第一交联剂的扩散速率大于第二交联剂,能够实现光刻...
感光性树脂组合物、遮光膜及显示装置
本发明的课题是提供可兼具高遮光性与降低玻璃基板面侧及膜面侧双方的反射率而且氟的使用量极少而也可对应PFAS的规范等的要求而环境友善的感光性树脂组合物、遮光膜及显示装置。本发明的感光性树脂组合物含有(A)至(F)成分且同时满足下述(i)及(i...
感光性树脂组合物、转印膜、树脂图案的制造方法、导电图案的制造方法及聚合物
本发明提供一种感光性树脂组合物等,该感光性树脂组合物能够形成密合性优异的树脂图案。本发明提供一种感光性树脂组合物等,该感光性树脂组合物含有:聚合物,其包含具有由下述式(1)表示的基团的结构单元和具有选自由甲硅烷基及氟基组成的组中的至少1种的...
转印膜、树脂图案的制造方法及导电图案的制造方法
本发明提供一种转印膜等,该转印膜具有比以往更高的灵敏度,在通过使用直接描绘法的曝光在基板上形成树脂图案时,能够形成高分辨率的树脂图案。本发明提供一种转印膜及其应用,该转印膜具备临时支承体及配置于临时支承体上的感光性树脂层,感光性树脂层包含碱...
一种光刻胶组成物、光刻胶和图案的形成方法
本申请公开了一种光刻胶组成物、光刻胶和图案的形成方法。该光刻胶组成物包括第一共聚物,第一共聚物包括第一重复单元和第二重复单元。光刻胶组成物还包括第二共聚物,第二共聚物包括第三重复单元。第一共聚物和第二共聚物均还包括第四重复单元和第五重复单元...
抗电镀组合物及其干膜、固化物和太阳能电池的电极
提供曝光能量低且感光度高的抗电镀组合物和干膜、以及由其形成的具有优异的耐电镀性能、分辨率高、且无侧蚀、无渗镀现象产生的固化物和使用其的太阳能电池的电极。该抗电镀组合物包含(A)含羧基树脂、(B)感光性单体以及(C)光聚合引发剂,所述(C)光...
抗电镀组合物及其干膜、固化物和太阳能电池的电极
提供具有优异的抗电镀性能和去膜性能的抗电镀组合物及其干膜、固化物和太阳能电池的电极。该抗电镀组合物包含(A)含羧基树脂、(B)感光性单体和(C)光聚合引发剂,所述(A)含羧基树脂包含酸改性甲酚酚醛清漆型环氧丙烯酸酯树脂,所述(C)光聚合引发...
多结构拼版纳米压印模具及其制作方法
本发明提供一种多结构拼版纳米压印模具及其制作方法,模具,包括:承载基板,承载基板上开设有按预设阵列排布的定位槽;压印模板,设置于定位槽内,压印模板上形成有预设微纳结构;固定系统,固定系统设置于承载基板上,用于将各压印模板一一固定于对应定位槽...
调整芯片不同结构层图形密度的方法及系统、版图、芯片
本发明提供了一种调整芯片不同结构层图形密度的方法及系统、版图、芯片,属于半导体领域。该调整芯片不同结构层图形密度的方法包括提供一版图,所述版图中包括芯片不同结构层图形,在所述目标图层填充矩阵单元图形,所述矩阵单元图形包括多个子单元图形,所述...
光刻遮罩及制造光刻遮罩的方法
本揭露的一实施方式涉及一种光刻遮罩及制造光刻遮罩的方法。此方法包括在基板上形成多层反射结构。在多层反射结构上方形成盖层。在盖层上方形成缓冲层,并在缓冲层上方形成吸收层。吸收层至少包括第一吸收层及第二吸收层,各吸收层均包括非合金元素,且第一吸...
掩模版图修复方法、装置及产品
本申请公开了一种掩模版图修复方法、装置及产品,涉及半导体集成电路技术领域。掩模版图修复方法包括:采用光刻模型对掩模版图进行光刻模拟,获得掩模版图对应的预测图形;对预测图形进行光刻规则检查,获取预测图形中违反光刻规则的缺陷点的位置及其类型;根...
提高OPC运算效率的方法及系统、电子设备、计算机可读存储介质
本发明提供了一种提高OPC运算效率的方法及系统、电子设备、计算机可读存储介质,属于半导体领域。该提高OPC运算效率的方法包括提供一版图,将所述图形模块至少划分成高密度图形模块和低密度图形模块;将所述高密度图形模块进行划分,形成分割区域,将所...
车辆投影幕布装置及车辆
本申请涉及车辆投影技术领域,特别是涉及一种车辆投影幕布装置及车辆。车辆投影幕布装置包括盒体、卷管、幕布、传动机构以及离合器,卷管安装于盒体内,幕布卷收于卷管,离合器安装于盒体内并与卷管通过传动机构传动连接;离合器包括刹车盘、第一磁体、电磁体...
投影屏幕及投影系统
本申请提供一种投影屏幕及投影系统,投影屏幕包括:显示膜片,显示膜片具有投影受光面;屏幕框架,屏幕框架包括两个边框架,边框架为一体式边框架,两个边框架相连,以围设在显示膜片的外周,边框架包括第一边框和第二边框,第一边框和第二边框转动连接,第二...
光源装置
本申请公开了一种光源装置,包括光源模组及色轮模组。光源模组用于产生第一激光。色轮模组包括色轮,色轮包括依次环绕排列设置的N个色轮区组。色轮区组包括第一区域和第二区域,第一激光经由第一区域后产生第一光线,第一激光经由第二区域后产生第二光线,第...
投影镜头
本发明提供了一种投影镜头,沿光轴从投影面到像源面依次包括:具有正光焦度的第一透镜,其投影侧表面为凸面,其像源侧表面为凹面;具有正光焦度的第二透镜,其投影侧表面为凸面,其像源侧表面为凸面;具有负光焦度的第三透镜,其投影侧表面为凹面,其像源侧表...
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家居日用产品装置的制造及产品制作技术
休闲,运动,玩具,娱乐用品的装置及其制品制造技术
木材加工工具,设备的制造及其制品制作技术
纺织,织造,皮革制品制作工具,设备的制造及其制品技术处理方法
建筑材料工具的制造及其制品处理技术
家具;门窗制品及其配附件制造技术
水利;给水;排水工程装置的制造及其处理技术
道路,铁路或桥梁建设机械的制造及建造技术
五金工具产品及配附件制造技术
安全;消防;救生装置及其产品制造技术
造纸;纤维素;纸品设备的制造及其加工制造技术
印刷排版;打字模印装置的制造及其产品制作工艺
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乐器;声学设备的制造及制作,分析技术
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工程元件,部件;绝热;紧固件装置的制造及其应用技术
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