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用于SOI晶圆的离子注入方法、SOI晶圆及其制造方法
本发明提供一种用于SOI晶圆的离子注入方法、SOI晶圆及其制造方法,先执行第一离子注入工艺,在器件衬底的第一深度注入第一离子,形成初步的氢聚集点、缺陷和气泡种子层;再执行第二离子注入工艺,在器件衬底的第二深度注入第二离子,形成气泡核,第二深...
绝缘体上硅及其制造方法
本发明提供一种绝缘体上硅及其制造方法,绝缘体上硅的制造方法包括:提供一器件衬底,器件衬底上形成有埋氧层;执行多次离子注入工艺,以在目标剥离深度形成脆化层;离子注入工艺为单氢离子注入工艺且多次离子注入工艺中的注入能量依次增加。多次离子注入工艺...
一种层间介质层的制备方法、层间介质层及功率半导体器件
本发明公开了一种层间介质层的制备方法、层间介质层及功率半导体器件,其中层间介质层的制备方法包括:在半导体有源区的上表面沉积第一介质层材料;对第一介质层进行平坦化处理;对平坦化后的第一介质层进行湿法处理;在第一介质层表面沉积第二介质层。本发明...
氮化物半导体材料及其退火方法
本发明公开一种氮化物半导体材料及其退火方法,其中,氮化物半导体材料的退火方法以下步骤S10:在对氮化物半导体材料进行升温热处理前,先在需要进行热处理的氮化物层的表面覆盖同种氮化物粉末。由于需要进行热处理的氮化物层的表面覆盖同种氮化物粉末,能...
半导体器件的制造方法和半导体器件
本公开涉及一种半导体器件的制造方法和半导体器件,本半导体器件的制造方法包括激光退火工艺;所述激光退火工艺包括:在半导体器件的表面形成反射光吸收层;将激光照射在所述反射光吸收层上,激光的光线穿过所述反射光吸收层对所述半导体器件加热退火,所述反...
一种二维半导体薄膜的转移方法
本发明公开一种二维半导体薄膜的转移方法,包括如下步骤:步骤01,在生长基底上的二维半导体薄膜的外侧面上,涂布形成光解层;步骤02,在光解层的外侧面上,涂布形成支撑层;步骤03,使用刻蚀液去除二维半导体薄膜的内侧面上的生长基底,并清洗吹干,得...
一种芯片载带缺陷检测与分拣方法、系统、终端及存储介质
本发明涉及芯片检测领域,公开了一种芯片载带缺陷检测与分拣方法、系统、终端及存储介质,所述方法包括:接收语音指令,识别芯片型号并加载对应的检测参数,据以控制载带匀速前进;基于编码器监测的载带节距脉冲,同步触发高速相机获取芯片图像;基于所述图像...
一种基于边缘等效遮挡转换的光伏电池性能预测方法
一种基于边缘等效遮挡转换的光伏电池性能预测方法,步骤如下:建立光伏电池的双二极管七参数模型;遮挡参数获取与分类;边缘等效遮挡转换;遮挡条件下模型参数修正;性能参数预测计算;预测精度验证与误差评估,该方法基于建立的光伏电池双二极管七参数模型;...
基板处理设备与方法
一种基板处理设备与方法,所述基板处理设备具有计算单元、电性连接计算单元的基板处理装置和检测装置,其可以在初次或需要时对特定处理后的基板检测,并在通过检测后,以通过检测时对应的累积处理时间对后续其他基板进行特定处理,其中特定处理可以是改质处理...
一种电子元件封装装置及其封装方法
一种电子元件封装装置及其封装方法,涉及电子元件封装技术领域,该装置包括电子元件、基座、滑架、夹爪和检测盒,本发明通过主动输送并抓取的方式可实现电子元件成测过程中的独立性,并可根据检测结果对电子元件进行分类归放,降低工作人员的干预及作业强度,...
一种芯片表面检测的双工位协同检测系统及检测方法
本发明公开了一种芯片表面检测的双工位协同检测系统及检测方法,涉及芯片质量协同检测领域,包括检测平台、针脚拨动装置、双工位检测装置和悬空工装机构,封装芯片呈引脚朝上的倒放状态上料在检测平台上,悬空工装机构将倒放的封装芯片悬空工装在检测平台的上...
晶圆检测方法及装置
本公开提供了一种晶圆检测方法及装置。所述方法包括:分别在背光源和轴向光源下对晶圆的各个晶粒进行裂纹检测;在所述晶圆的晶粒分布图上,将检测到具有裂纹的晶粒标注为不合格晶粒;根据所述晶粒分布图中所述具有裂纹的晶粒的位置,确定裂纹图案;将位于所述...
一种半导体基板检测光源及检测装置
本发明涉及光源结构技术领域,公开了一种半导体基板检测光源,包括开设有出光口的壳体、安装在所述壳体中的发光灯板和安装在所述扩散板远离所述发光灯板一侧的玻璃载台,且所述玻璃载台上阵列设置有用于吸附半导体基板的吸附孔组;所述发光灯板和所述玻璃载台...
电子束量测设备的校准方法、介质、产品及设备
本发明提供了一种电子束量测设备的校准方法、介质、产品及设备。其中上述方法包括:获取校准配方;根据校准配方确定电镜扫描图像的图像采集位置;通过电子束量测设备在检测晶圆的图像采集位置上生成电镜扫描图像;根据校准配方在电镜扫描图像中确定多个待测特...
测试结构和半导体器件
本公开实施例提供一种测试结构和半导体器件。其中,上述测试结构包括:第一待测结构;多个第一测试焊盘,第一测试焊盘位于第一待测结构沿第一方向一侧,第一待测结构和多个第一测试焊盘电性连接;其中,在垂直于第一方向的平面中,第一待测结构电性连接的多个...
基板处理装置
提供一种能够实现测定工序的最优化的基板处理装置。基板处理装置具备:装卸部,该装卸部与壳体的正面侧外壁相邻地横向排列配置多个装载端口;以及上层测定组件和下层测定组件,该上层测定组件和下层测定组件与正面侧外壁连接,与壳体的侧面侧外壁相邻且沿铅垂...
半导体裸片和半导体晶片
提供半导体裸片和半导体晶片。第一半导体裸片、第二半导体裸片和检测器被配置为在第一半导体裸片结合到第二半导体裸片的情况下确定对准准确度。第一半导体裸片的第一测试垫组中的每个的第一测试垫通过在第一方向上延伸的线彼此电连接,并且第二半导体裸片的第...
可多点施压和多点温控的下压模组及具备该下压模组的半导体封装构件测试装置
公开一种可多点施压和多点温控的下压模组及具备该下压模组的半导体封装构件测试装置,其可对半导体封装构件上多个芯片同时施加多个大小相同或不同下压力,并且对该至少两个芯片同时产生相同或不同的温度控制效果。其中,利用多个下压力产生单元来驱使多个压接...
半导体量测参数的修正方法、装置、计算机设备和存储介质
本申请涉及一种半导体量测参数的修正方法、装置、计算机设备和存储介质,涉及半导体量测技术领域。所述方法包括:获取待修正量测参数和基准量测参数范围;在待修正量测参数不在基准量测参数范围内的情况下,对待修正量测参数进行参数修正,得到修正量测参数;...
测试结构及其制造方法、测试方法
本申请实施例提供一种测试结构及其制造方法、测试方法。该测试结构包括第一焊盘、第二焊盘以及位于第一焊盘和第二焊盘之间的至少一个结构单元;其中,结构单元包括沿第一方向延伸且间隔的第一连接结构和第二连接结构;第一连接结构与第一焊盘连接,包括交替连...
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