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最新专利技术
  • 一种针对厚光阻抗蚀剂的剥除液及制备方法
    一种针对厚光阻抗蚀剂的剥除液及制备方法_南通得安电子材料有限公司_202511266407.3
    本申请涉及光阻抗蚀剂技术领域， 特别涉及一种针对厚光阻抗蚀剂的剥除液及制备方法。按照质量份数， 所述针对厚光阻抗蚀剂的剥除液包括溶剂体系30~40份， 活性成分20~30份， 改性剂3~7份， 稳定剂0.5~1份， 所述稳定剂为羟乙基纤维素...
    2026-01-20
  • 一种高精度多区域半导体加热平台控制系统
    一种高精度多区域半导体加热平台控制系统_无锡展硕科技有限公司_202511237398.5
    本发明涉及应用于半导体相关技术领域的一种高精度多区域半导体加热平台控制系统， 通过分区加热单元以及局部加热单元的设置， 在后期出现局部溶剂未完全去除的情况时， 配合异常监测单元的设置， 可及时确定异常点的位置， 并通过热补偿盘进行针对性的加...
    2026-01-20
  • 一种显示屏生产用曝光设备
    一种显示屏生产用曝光设备_超越非凡光电(深圳)有限公司_202511256797.6
    本发明涉及显示屏生产技术领域， 尤其是一种显示屏生产用曝光设备， 包括有箱体和设置于箱体内部的自开合盛料组件， 所述自开合盛料组件包括有设置于所述箱体内部的盛料件和设置于盛料件端部的限位开合件， 所述箱体的端部设置有可调节夹持组件， 当需要...
    2026-01-20
  • 一种虚拟晶圆三维模型生成方法、设备、介质及程序产品
    一种虚拟晶圆三维模型生成方法、设备、介质及程序产品_上海朋熙半导体有限公司_202511242891.6
    本申请提供一种虚拟晶圆三维模型生成方法、设备、介质及程序产品， 通过构建目标晶圆的初始三维模型， 初始三维模型为薄圆柱体结构， 用于表示晶圆的基底形态；按照预设的工艺流程， 依次读取每一道工艺步骤， 并基于工艺步骤确定晶圆三维模型的调整方式...
    2026-01-20
  • 一种具有双面清理功能的掩模板处理装置
    一种具有双面清理功能的掩模板处理装置_江苏路芯半导体技术有限公司_202511190378.7
    本发明符合掩模板处理技术领域， 主要提及了一种具有双面清理功能的掩模板处理装置。包括有操作台， 操作台安装有呈矩阵分布的固定架， 呈矩阵分布的固定架转动连接有载物台， 载物台内放置有掩模板， 掩模板由石英板和上侧的金属层组成， 呈矩阵分布的...
    2026-01-20
  • 除尘装置及光刻系统
    除尘装置及光刻系统_滁州捷泰新能源科技有限公司_202511152963.8
    本申请涉及一种除尘装置及光刻系统， 除尘装置包括除尘模块、集尘模块、挡尘模块和清灰模块。除尘模块包括除尘室、设于除尘室内的滤筒、负压发生器、以及将负压发生器和滤筒连通的负压管路。集尘模块包括位于除尘室下方的集尘室， 挡尘模块分隔在除尘室和集...
    2026-01-20
  • 用于超高真空互联系统的图形转移装置
    用于超高真空互联系统的图形转移装置_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202510931539.7
    本发明公开提供了一种用于超高真空互联系统的图形转移装置， 包括：样品存放机构， 包括基座和盖板， 基座表面开设有凹陷设置的样品槽， 盖板层叠设置于基座表面上， 且通过转轴与基座转动连接， 盖板设置有开口， 开口的面积大于或等于样品槽在第一方...
    2026-01-20
  • 改善成像麻点的方法
    改善成像麻点的方法_安徽晶微科技有限公司_202510763404.4
    一种改善成像麻点的方法包括步骤：S1， 提供两张光刻流程前的产品片；S2， 涂胶， 采用相同涂胶条件涂胶， 获得两张涂胶片；S3， 曝光， 涂胶后的两张涂胶片采用多个分布的晶粒构成晶圆的版图曝光， 以得到两张曝光片， 其中， 针对两张涂胶片...
    2026-01-20
  • 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
    机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法_富士胶片株式会社_202510930644.9
    本发明提供一种机上显影型平版印刷版原版、以及使用了上述机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法或平版印刷方法， 该机上显影型平版印刷版原版具有支承体及在上述支承体上形成的图像记录层， 上述图像记录层包含引发剂、能够对上述引发剂供给电子...
    2026-01-20
  • 感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板
    感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板_太阳油墨(苏州)有限公司_202511135347.1
    印刷性优异、且能够形成具有优异的硬度和耐冷热冲击性的阻焊层的感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。感光热固化显影性树脂组合物含有(A)乙烯基酯树脂、(B)光聚合引发剂、(C)磷酸酯系分散剂、(D)在一分子...
    2026-01-20
  • 色阻组合物、彩色滤光层及显示面板
    色阻组合物、彩色滤光层及显示面板_TCL华星光电技术有限公司_202510963107.4
    本申请涉及一种色阻组合物、彩色滤光层及显示面板；色阻组合物包括着色材料以及功能组分， 着色材料包括第一色材， 且第一色材的结构式如下式(1)所示：本申请可以使得第一色材具有较好的耐候性， 提高了色阻组合物的耐候性；此外， 在第一色材中引入X...
    2026-01-20
  • 一种正负反转光致抗蚀剂组合物及其应用
    一种正负反转光致抗蚀剂组合物及其应用_武汉市太紫微光电科技有限公司_202510950795.0
    本申请属于精细图案加工领域， 更具体地， 涉及一种正负反转光致抗蚀剂组合物及其应用。所述正负反转光致抗蚀剂组合物包括质量分数为1wt%~10wt%的PDHF、质量为所述PDHF的质量的10wt%~40wt%的光致产酸剂以及溶剂；所述PDHF...
    2026-01-20
  • 一种光刻胶的配方及其应用
    一种光刻胶的配方及其应用_中山市鸿冠胶业有限公司_202510821118.9
    本发明公开了一种光刻胶的配方及其应用， 各组分按其重量份计为：酚醛树脂30‑60份、丙烯酸酯类树脂20‑45份、硅基树脂10‑25份、光敏剂5‑12份、丙二醇甲醚醋酸酯15‑30份、乙酸乙酯10‑20份、附着剂3‑8份， 本发明的有益效果是...
    2026-01-20
  • 使用印模的传送方法以及印模的应用
    使用印模的传送方法以及印模的应用_SCIVAX株式会社_202511239338.7
    本发明提供一种使用印模的传送方法以及印模的应用， 可对与微小零件的附着力进行控制。所述传送方法包括：使用印模拾取微小零件， 并将所述微小零件进行传送。所述印模具有：形成在基板上的树脂成型品， 所述基板支撑所述树脂成型品。所述树脂成型品具有：...
    2026-01-20
  • 压印模板的制备方法及应用
    压印模板的制备方法及应用_联合微电子中心有限责任公司_202511185008.4
    本发明提供了一种压印模板的制备方法及应用， 首先提供透明衬底， 通过离子束铣削工艺于所述透明衬底中形成图案化的2D微纳目标图形或3D微纳目标图形；在工艺优化方面， 可在刻蚀前形成导电薄膜以提升图形化精度， 同时该方法还包括凸台加工、背孔加工...
    2026-01-20
  • 光刻机添加氘介质改变光波波长的方法
    光刻机添加氘介质改变光波波长的方法_苗春才_202410412233.6
    本发明涉及光刻机制作芯片技术领域。光刻机添加氘介质改变光波波长的方法， 其特征主要包括璃容器(1)， 氘(2)。让激光等光源通过璃容器(1)内氘(2)， 氘(2)与激光等光源产生谐振， 谐振产生更短波长光。
    2026-01-20
  • 标记单元设置方法、光罩排版设计方法、装置及电子设备
    标记单元设置方法、光罩排版设计方法、装置及电子设备_广州增芯科技有限公司_202511164009.0
    本发明提供了一种标记单元设置方法、光罩排版设计方法、装置及电子设备， 标记单元设置方法在确定光罩排版中的目标标记单元以及目标主芯片版图后， 根据目标主芯片版图的空置区域， 调整目标标记单元， 形成满足预设规则的第二标记单元， 并将第二标记单...
    2026-01-20
  • 一种掩膜板和显示基板
    一种掩膜板和显示基板_北京京东方传感技术有限公司_202511179088.2
    本发明公开了一种掩膜板和显示基板， 以改善窄边框显示产品的信号走线存在的断线或短路不良问题。所述掩膜板包括：第一相移掩膜区；所述第一相移掩膜区包括：第一遮光部， 第二遮光部， 位于所述第一遮光部与所述第二遮光部之间的第一透光部；所述第一遮光...
    2026-01-20
  • 防闪烁传感器的功能测试方法、电路及电子设备
    防闪烁传感器的功能测试方法、电路及电子设备_荣耀终端股份有限公司_202410777695.8
    本申请公开了一种防闪烁传感器的功能测试方法、电路及电子设备， 涉及功能测试技术领域， 该防闪烁传感器的功能测试方法包括：控制防闪烁传感器获取光照强度。根据光照强度获得光照频率和光照幅值。当光照频率满足光照频率阈值范围， 且光照幅值满足光照幅...
    2026-01-20
  • 一种X射线条纹相机诊断系统瞄准装置及瞄准方法
    一种X射线条纹相机诊断系统瞄准装置及瞄准方法_中国工程物理研究院激光聚变研究中心_202511220962.2
    本发明属于光学元件领域， 涉及一种X射线条纹相机诊断系统瞄准装置及瞄准方法， 包括长聚焦显微镜、模拟靶、模拟阴极装置、支撑平台、第一调节台和第二调节台；所述瞄准方法包括：将针孔相机安装于模拟阴极装置的安装法兰上；调整所述针孔相机的针孔头， ...
    2026-01-20
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