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最新专利技术
  • 排气通道板
    排气通道板_ASMIP私人控股有限公司_202511384715.6
    提供了一种喷淋头组件。喷淋头组件包括喷淋头板、气体通道板和喷淋头板与气体通道板之间的连接路径。气体通道板包括喷淋头分配集气室，其联接到喷淋头板的内通孔。气体通道还包括排气集气室，其联接到喷淋头板的外通孔。连接路径将喷淋头分配集气室连接到排气...
    2026-05-14
  • 真空系统及其控制方法、半导体生产设备
    真空系统及其控制方法、半导体生产设备_株洲中车时代半导体股份有限公司_202511637225.2
    本申请实施例涉及半导体设备技术领域，公开一种真空系统及其控制方法、半导体生产设备。该真空系统包括多组单生产单元真空子系统，每组单生产单元真空子系统包括通过中间管路连通的生产单元装置和真空装置；每组单生产单元真空子系统通过至少一个共用管路与其...
    2026-05-14
  • 一种CCP刻蚀设备上部电极的表面预处理方法
    一种CCP刻蚀设备上部电极的表面预处理方法_重庆芯联微电子有限公司_202511843617.4
    本发明提供一种CCP刻蚀设备上部电极的表面预处理方法，包括：提供刻蚀设备，其刻蚀腔体中安设有上部电极，电极为二氧化硅材质；向刻蚀腔体内传入晶圆；引入氩气，对上部电极表面进行轰击处理；引入第一工艺气体，对上部电极表面进行第一刻蚀处理，第一工艺...
    2026-05-14
  • 一种工艺腔室及控制方法
    一种工艺腔室及控制方法_北京北方华创微电子装备有限公司_202511948247.0
    本申请公开了一种工艺腔室及控制方法，工艺腔室包括：上电极组件；下电极组件，设置于上电极组件的下方；多个磁场检测元件，沿下电极组件的边缘间隔设置，磁场检测元件用于检测磁场强度；磁场控制部，设置于上电极组件上方，磁场控制部包括主区线圈组件和边缘...
    2026-05-14
  • 一种防离子溅射密封结构
    一种防离子溅射密封结构_合肥综合性国家科学中心能源研究院(安徽省能源实验室)_202511980802.8
    本发明提供一种防离子溅射密封结构，涉及等离子体技术应用领域，包括：金属盖板、真空腔体、密封圈、陶瓷环。所述金属盖板内开设有3个凹槽，分别用于放置并限位所述密封圈、陶瓷环和真空腔体。所述密封圈用于将金属盖板和真空腔体进行密封连接，所述陶瓷环放...
    2026-05-14
  • 刻蚀终点确定方法及相关设备
    刻蚀终点确定方法及相关设备_深圳市新凯来工业机器有限公司_202511993034.X
    本申请提供了一种刻蚀终点确定方法及相关设备，其中，方法包括：获取刻蚀处理过程中用于干涉测量的第一光谱数据和用于光学发射光谱测量的第二光谱数据；对所述第一光谱数据以及第二光谱数据分别进行特征提取，得到第一光谱数据的第一特征以及第二光谱数据的第...
    2026-05-14
  • 一种直流电弧等离子体电源的调控方法及系统
    一种直流电弧等离子体电源的调控方法及系统_夏维珞_202512046823.9
    发明属于电弧等离子体电源技术领域，具体涉及一种用于直流电弧等离子体电源的调控方法及系统，其包括提供一电源电路系统，电源电路系统包括依次连接的直流电源模块、逆变整流模块、电压补偿模块、稳流电感和电弧负载，以及电流负反馈驱动控制电路和电压正反馈...
    2026-05-14
  • 基于非晶硅材料的轴向非对称微通道板结构及其制备方法
    基于非晶硅材料的轴向非对称微通道板结构及其制备方法_北方夜视技术股份有限公司_202512046613.X
    本申请公开了一种基于非晶硅材料的轴向非对称微通道板结构及其制备方法，包括：沿器件厚度方向贯穿设置的多个微通道；每一微通道沿微通道板轴向方向上分别设置入口段和出口段；各微通道的通道几何参数在入口段与出口段上不同；或各微通道的等效电场分布在入口...
    2026-05-14
  • 用于处理气相离子的方法及组件
    用于处理气相离子的方法及组件_布鲁克瑞士股份公司_202511401116.0
    本发明尤其涉及射频(RF)离子导向装置的运行，该离子导向装置用于接收、暂时存储、按照物理化学特性进行分离、空间转移并最终输出气相离子。根据本发明的RF离子导向装置可以是质量分析器的一部分，或与其耦合。本发明旨在改善RF离子导向装置的空间电荷...
    2026-05-14
  • 用于将样品容纳元件装入和导出质谱仪的闸
    用于将样品容纳元件装入和导出质谱仪的闸_布鲁克·道尔顿有限及两合公司_202511396356.6
    本发明描述了一种用于将样品容纳元件装入和导出质谱仪的闸。此外，还描述了一种用于样品容纳元件的保持器。此外，还描述了一种套件，其包括用于样品容纳元件的保持器和能由保持器保持的样品容纳元件。以及，还描述了一种质谱仪、尤其是MALDI‑TOF质谱...
    2026-05-14
  • 用于将样品容纳元件装入和导出质谱仪的闸
    用于将样品容纳元件装入和导出质谱仪的闸_布鲁克·道尔顿有限及两合公司_202511398298.0
    本发明描述了一种用于将样品容纳元件装入和导出质谱仪的闸。此外，还描述了一种用于样品容纳元件的保持器。此外，还描述了一种套件，其包括用于样品容纳元件的保持器和能由保持器保持的样品容纳元件。以及，还描述了一种质谱仪、尤其是MALDI‑TOF质谱...
    2026-05-14
  • 质谱仪的进样组件和质谱仪总成
    质谱仪的进样组件和质谱仪总成_深圳华大基因生物医学工程有限公司_202511628128.7
    本发明公开了一种质谱仪的进样组件和质谱仪总成，所述进样组件包括：取样管路和进样管路，所述取样管路设有取样针，所述进样管路用于与质谱仪相连；洗针管路、清洗管路和控制阀，所述控制阀具有第一连通状态和第二连通状态，所述控制阀在所述第一连通状态时将...
    2026-05-14
  • 一种水产品鉴定的便携式蒸发电离质谱装置及方法
    一种水产品鉴定的便携式蒸发电离质谱装置及方法_浙江工商大学_202511634436.0
    本发明涉及水产品鉴定技术领域，具体的说是一种水产品鉴定的便携式蒸发电离质谱装置，包括底板，所述底板上表面安装有真空腔体，所述真空腔体一面安装有进样件，所述真空腔体一面安装有真空规，所述真空腔体背离真空规的一侧设有膈膜泵，所述膈膜泵与底板相连...
    2026-05-14
  • 一种可切换内外离子源的离子阱质谱装置及方法
    一种可切换内外离子源的离子阱质谱装置及方法_宁波大学_202512003990.5
    本发明公开一种可切换内外离子源的离子阱质谱装置及方法，包括：离子源腔体，离子源腔体外部安装有加热模块，离子源腔体侧壁开设有进样孔，进样孔内安装有色谱柱Ⅰ；电子束发生系统，电子束发生系统安装在离子源腔体的前侧位置；绝缘连接件，绝缘连接件与离子...
    2026-05-14
  • 一种用于飞行时间质谱仪的电子碰撞离子源
    一种用于飞行时间质谱仪的电子碰撞离子源_中国科学院国家空间科学中心_202511863079.5
    本申请提供了一种用于飞行时间质谱仪的电子碰撞离子源，包括：电子枪，用于生成并发射电子；加速电极，中心具有贯通的开孔，用于加速电子；调制电极，中心具有贯通的开孔，用于调节电子束的发散度；电离室，一侧具有接收电子的开孔，用于限制高能电子束的束流...
    2026-05-14
  • 一种激光溅射电离源装置
    一种激光溅射电离源装置_中国科学院大连化学物理研究所_202511887958.1
    本发明属于质谱分析仪技术领域，具体地说是一种激光溅射电离源装置，推斥电极及聚焦电极分别安装在电离源腔体内，带有样品的三轴位移台位于推斥电极与聚焦电极之间，激光从电离源腔体的底板射入，在推斥电极与聚焦电极之间穿过照射在样品上；电离源腔体后面板...
    2026-05-14
  • 一种便携式微波驱动紫外激发头
    一种便携式微波驱动紫外激发头_重庆电子科技职业大学_202511877302.1
    本发明提供一种便携式微波驱动紫外激发头，包括N型接头、由其中心插针延伸构成的内导体、同轴设置且开有缝隙的外导体、容纳于内导体与外导体之间的无极紫外灯管，以及可调节位置的短路帽。本发明采用同轴结构防止微波泄漏，同时利用外导体上的缝隙使内部产生...
    2026-05-14
  • 一种锌负极及其制备方法和应用
    一种锌负极及其制备方法和应用_中山大学_202610261399.1
    本发明涉及一种锌负极及其制备方法和应用。该锌负极包括锌箔和所述锌箔表面的涂层，所述涂层包括金属单原子掺杂碳基材料、导电剂和粘结剂。本发明的锌负极的涂层中的金属单原子掺杂碳基材料具有高的金属单原子负载量，不仅能有效提升锌负极的涂层的亲锌能力，...
    2026-05-14
  • 一种涂布设备
    一种涂布设备_深圳市三智汇通科技有限公司_202511897883.5
    本发明涉及电池生产技术领域，本发明公开了一种涂布设备，包括依次放置的放卷机构、第一涂布机构、第一粉末喷涂机构、第一烘箱机构、第二涂布机构、第二粉末喷涂机构、第二烘箱机构和收卷机构。在涂布机构后设置粉末喷涂机构，在未烘干之前的极片上喷涂电解质...
    2026-05-14
  • 极片厚度控制方法
    极片厚度控制方法_惠州亿纬锂能股份有限公司_202511920231.9
    本发明公开了一种极片厚度控制方法，通过实时检测极片厚度并实时计算厚度偏差，构建了动态调控机制，一旦厚度偏差大于预设阈值，系统会实时发出指令，驱动辊压机构调节辊缝，确保后续极片的辊压厚度稳定且一致，满足对极片厚度一致性和稳定性的要求，从而减少...
    2026-05-14
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