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最新专利技术
  • 一种基于声光偏转器对的激光分合束装置及其应用
    一种基于声光偏转器对的激光分合束装置及其应用_华中科技大学_202511708265.1
    本发明属于激光技术领域，公开了一种基于声光偏转器对的激光分合束装置及其应用，包括依次放置的发射光纤模块、第一声光偏转器、光阑、第二声光偏转器以及接收光纤模块；所述第一声光偏转器与所述第二声光偏转器平行设置；所述发射光纤模块用于发射激光至所述...
    2026-05-07
  • 一种圆偏振光电逻辑门及其制备方法
    一种圆偏振光电逻辑门及其制备方法_中国科学技术大学_202511862013.4
    本发明公开一种圆偏振光电逻辑门及其制备方法，涉及圆偏振光电器件技术领域。所述圆偏振光电逻辑门包括手性液晶层、导电基底、电子传输层、量子点吸光层、空穴传输层和电极，其核心特征在于零偏置电压下，不同旋向的圆偏振光照射可产生差异化电信号，以光信号...
    2026-05-07
  • 基于二维材料紫磷的全光逻辑门及其验证方法、光计算芯片、系统
    基于二维材料紫磷的全光逻辑门及其验证方法、光计算芯片、系统_深圳大学_202511864647.3
    本发明涉及光子信息器件技术领域，尤其涉及一种基于二维材料紫磷的全光逻辑门及其验证方法、光计算芯片、系统，全光逻辑门包括：设有第一紫磷单元的第一光路；设有第二紫磷单元的第二光路；设有第三紫磷单元的信号接收模块；第三紫磷单元位于第一光路与第二光...
    2026-05-07
  • 一种防抖动去雾的水下拍摄设备
    一种防抖动去雾的水下拍摄设备_漳州职业技术学院_202310635239.5
    本发明涉及拍摄设备领域，具体为一种防抖动去雾的水下拍摄设备，包括防水罩以及防水盖构成的外部防水结构，通过外部防水结构进行摄像机的装载，防水罩以及防水盖通过铰接件进行连接，且两者通过锁定件进行组合固定，防水罩以及防水盖中均设置有内罩，且内罩上...
    2026-05-07
  • 一种镜头组件及成像模组
    一种镜头组件及成像模组_睿创微纳(无锡)技术有限公司苏州分公司_202511990219.5
    本发明公开了一种镜头组件及成像模组，涉及成像技术领域，镜头组件包括镜座；镜片组件，包括沿光路方向依次设置的第一镜片、至少一个第二镜片，第一镜片、第二镜片均设于镜座内；快门，设于镜座内，快门位于第一镜片靠近于第二镜片的一侧；加热件，加热件设于...
    2026-05-07
  • 显示装置
    显示装置_群创光电股份有限公司_202411045121.8
    本发明提供一种显示装置，用以投射光线至物件，显示装置包括基板、多个发光元件及光调整层。基板具有第一区重叠于物件的第一弯曲表面、第二区重叠于物件的第二弯曲表面。多个发光元件设置在基板上，多个发光元件包括第一发光元件设置在第一区、第二发光元件设...
    2026-05-07
  • 一种照明系统及照明设备
    一种照明系统及照明设备_宜宾市极米光电有限公司_202411049944.8
    本申请涉及显示技术领域，公开了一种照明系统及照明设备，该照明系统中受激发光和第二光源组件出射的基色光合光后出射，可以减弱散斑、彩边重影，和色不均的问题；进而合光时会有部分受激发光没有射入匀光元件，光再利用组件可以使这部分光在波长转换装置与分...
    2026-05-07
  • 光学引擎和投影装置
    光学引擎和投影装置_深圳市小象光影有限责任公司_202511849263.4
    本申请公开一种光学引擎和投影装置，该光学引擎包括激光器、第一光学组件、荧光轮、第二光学组件、DMD器件和成像镜头，成像镜头的入射端所在的一侧分别设置有第一光路空间和第二光路空间，且第一光路空间和第二光路空间在成像镜头的径向上并排设置，其中，...
    2026-05-07
  • 提高掩模版工艺均匀性的装置及方法
    提高掩模版工艺均匀性的装置及方法_上海稷以科技有限公司_202511538253.9
    本发明提出了一种提高掩模版工艺均匀性的装置及方法，该装置包括：盖环，用于包裹掩模版的四条侧边，掩模版为方形，盖环包括与工艺位置下的掩模版适配的方形槽，相邻侧边之间通过弧形槽连接，弧形槽与顶针适配；顶针，用于承接并包裹掩模版的一个顶角，其可沿...
    2026-05-07
  • 图形分组方法及系统、电子设备、计算机程序和存储介质
    图形分组方法及系统、电子设备、计算机程序和存储介质_中芯国际集成电路制造(北京)有限公司_202411060865.7
    一种图形分组方法及系统、电子设备、计算机程序和存储介质，图形分组方法包括：取掩膜版中待进行分组处理的掩膜图形，作为待分组图形；确定待分组图形所对应的沿预设搜索方向的搜索范围；沿预设搜索方向，在搜索范围中统计位于待分组图形的第一侧的其余掩膜图...
    2026-05-07
  • 生成顶点辅助图形的方法和计算机程序产品
    生成顶点辅助图形的方法和计算机程序产品_东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司_202610008539.4
    本申请公开了一种生成顶点辅助图形的方法和计算机程序产品。该方法包括：获取芯片设计版图及其几何参数，所述芯片设计版图包括稀疏图形和密集图形，所述几何参数包括密集图形的最小间距、所述稀疏图形的边长以及所述稀疏图形的待配置顶点辅助图形的顶点的坐标...
    2026-05-07
  • 光学掩膜图案的修正方法、装置、设备及存储介质
    光学掩膜图案的修正方法、装置、设备及存储介质_华芯程(杭州)科技有限公司_202610014531.9
    本发明涉及半导体光刻加工技术领域，公开了一种光学掩膜图案的修正方法、装置、设备及存储介质，该修正方法包括获得初始掩膜图案，对初始掩膜图案的轮廓边缘线进行切分，获得切分边段；对切分边段上的评价点进行对应的EPE误差运算，获得各切分边段对应的E...
    2026-05-07
  • 一种保护膜支撑框架及其贴装方法
    一种保护膜支撑框架及其贴装方法_上海高光微半导体科技有限公司_202410998276.7
    本发明提供一种保护膜支撑框架及其贴装方法，保护膜支撑框架包括垂直于第一平面的内框表面和外框表面和平行于第一平面的第一表面和第二表面；第一表面或/和第二表面设置有定形槽，定形槽的轴线与对应外框表面平行，定形槽的开口与内框表面、外框表面之间均有...
    2026-05-07
  • 光刻图形补偿方法及其系统和半导体结构及形成方法
    光刻图形补偿方法及其系统和半导体结构及形成方法_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202411048234.3
    本发明实施例提供一种光刻图形补偿方法及其系统和半导体结构及形成方法，光刻图形补偿方法包括：提供半导体结构中预设的层结构图形分布，预设的层结构图形分布于不同层结构，至少包括对应第一层结构的第一图形和对应第二层结构的第二图形；进而确定用于光刻图...
    2026-05-07
  • 掩膜版图及其图形添加方法
    掩膜版图及其图形添加方法_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202411048249.X
    一种掩膜版图及其图形添加方法，掩膜版图包括：有效图形，位于所述图案区域中，且所述有效图形的延伸方向与最佳解析度方向相平行；虚拟图形，位于所述空白区域中，且所述虚拟图形的延伸方向与所述有效图形的延伸方向之间具有角度。能够让虚拟图形在其延伸方向...
    2026-05-07
  • 基于方向分组索引的掩膜规则检查快速查询方法、装置、介质、程序产品及终端
    基于方向分组索引的掩膜规则检查快速查询方法、装置、介质、程序产品及终端_华芯程(杭州)科技有限公司_202610014341.7
    本申请提供的基于方向分组索引的掩膜规则检查快速查询方法、装置、介质、程序产品及终端，包括：获取光学临近修正后的掩膜图形数据，对所述掩膜图形数据进行特征提取，以获得特征线段集；对所述特征线段集中的所有线段进行方向分组处理，获得不同方向的线段子...
    2026-05-07
  • 一种压印母模板及其制备方法
    一种压印母模板及其制备方法_广东中图半导体科技股份有限公司_202511918555.9
    本发明提供一种压印母模板及其制备方法。所述压印母模板包括依次层叠设置的基底层、图形层和等离子增强层；所述基底层的材料包括第一全氟烷氧基树脂，所述图形层的材料包括第二全氟烷氧基树脂和填料。本发明通过对压印母模板的结构以及图形层材料和基底层材料...
    2026-05-07
  • 抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法
    抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510419829.3
    提供了抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。所述抗蚀剂顶涂层组合物包括包含由化学式M‑1表示的第一结构单元和由化学式2表示的第二结构单元的聚合物以及溶剂。关于化学式的细节如说明书中所述。
    2026-05-07
  • 半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510731815.5
    一种半导体光刻胶组合物包括：有机金属化合物；包含至少一个羧基的直链羧酸化合物；由化学式1表示的环状羧酸化合物；以及溶剂。化学式1的细节在说明书中进行阐述。一种形成图案的方法使用所述半导体光刻胶组合物。
    2026-05-07
  • 半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202510877813.7
    提供一种半导体光刻胶组合物及使用所述半导体光刻胶组合物形成图案的方法，所述半导体光刻胶组合物包含：有机金属化合物；包含由化学式1表示的阴离子的盐化合物；以及溶剂。化学式1的细节如说明书中所述。化学式1
    2026-05-07
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