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最新专利技术
  • 光源装置以及投影仪
    光源装置以及投影仪_精工爱普生株式会社_202510889706.6
    光源装置以及投影仪。本发明提供能够生成沿一方向延伸的矩形状的照明光的光源装置以及投影仪。本发明的光源装置具备：光源部；第1光学元件，其使从光源部射出的光沿着与光的光轴垂直的第1轴扩散，生成沿着第1轴延伸的带状的照明光；以及第2光学元件，其使...
    2026-03-25
  • 一种用于医学扫描床的防眩光方法及其计算机程序产品
    一种用于医学扫描床的防眩光方法及其计算机程序产品_上海联影智能科技股份有限公司_202511308585.8
    本发明公开了一种用于医学扫描床的防眩光方法及其计算机程序产品，其方法包括：使用识别模型识别患者与着床相关的多个关节点，其中所述关节点包括脸部，臀部，或下肢的关节点，其中，所述脸部包括眼，嘴或鼻；所述臀部包括左髋和右髋；所述下肢包括左膝，左脚...
    2026-03-25
  • 光场投影装置及方法
    光场投影装置及方法_巴可伟视解决方案有限责任公司_202511377487.X
    公开了光场投影装置及方法。照明装置的不期望的高能耗可至少部分地由消耗的(衰减的)光引起。可以用于投射光(包括图像)的光学高效照明系统利用光重定向。可以应用相位调制装置以创建期望的光场。一些实施方式提供了两个或多个调制显示或投影系统，其中一些...
    2026-03-25
  • 基于Mini LED阵列与可变微结构光导的投影系统及方法
    基于Mini LED阵列与可变微结构光导的投影系统及方法_深圳市橙子数字科技有限公司_202511744285.4
    本发明属于投影显示技术领域，具体涉及一种基于Mini LED阵列与可变微结构光导的投影系统及方法，包括光源模块、可变微结构光导、投影镜头和驱动控制子系统；驱动控制子系统，其与光源模块和可变微结构光导电性连接，被配置为接收高分辨率图像信号并将...
    2026-03-25
  • 一种投影装置、投影屏幕及投影屏幕制作方法
    一种投影装置、投影屏幕及投影屏幕制作方法_青岛海信激光显示股份有限公司_202410890631.9
    本申请公开了一种投影装置、投影屏幕及投影屏幕制作方法，涉及投影显示技术领域，用于解决现有投影屏幕结构复杂，制作过程较长的问题。该投影屏幕包括多个交织条，多个交织条交织形成交织织物层。交织条的材料包括纺织纤维、反射材料以及海藻纤维。纺织纤维用...
    2026-03-25
  • 一种X射线条纹相机狭缝拼接装置及其使用方法
    一种X射线条纹相机狭缝拼接装置及其使用方法_中国科学院西安光学精密机械研究所_202511673779.8
    本申请属于一种拼接装置，针对现有X射线条纹相机阴极狭缝的制作方法存在狭缝宽度受限，特殊尺寸狭缝加工成本高，以及加工的狭缝成活率较低的技术问题，提供一种X射线条纹相机狭缝拼接装置及其使用方法，包括位移调节组件、狭缝刀片位移滑台和支撑架体，位移...
    2026-03-25
  • 用于防窥膜的乳剂胶片及其制备方法和用途
    用于防窥膜的乳剂胶片及其制备方法和用途_乐凯胶片股份有限公司_202511522763.7
    本发明公开了一种用于防窥膜的乳剂胶片及其制备方法和用途，所述乳剂胶片包括多个感光子层，多个所述感光子层分别感应不同波长范围的光，或者，多个所述感光子层均感应同一波长范围的光，并且沿着从所述基材到所述护膜层的方向，多个所述感光子层的感光度逐渐...
    2026-03-25
  • 掩模版的制备方法、掩膜基板、二元掩模版和相移掩模版
    掩模版的制备方法、掩膜基板、二元掩模版和相移掩模版_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511812777.2
    本发明涉及一种掩模版的制备方法、掩膜基板、二元掩模版和相移掩模版，掩模版的制备方法包括：提供掩膜基板，掩膜基板包括基板和位于基板上的硅层；在掩膜基板上布置光刻胶，并进行曝光、显影，形成图形化的光刻胶，露出部分硅层；以及刻蚀暴露的硅层，形成图...
    2026-03-25
  • 光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质、计算机程序
    光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质、计算机程序_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410890596.0
    一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质、计算机程序，方法包括：提供初始版图，初始版图包括多个间隔相邻设置的金属线图形以及分布于金属线图形中的互连通孔图形；基于光刻工艺支持的临界间距，获取金属线图形的最大移动距离和移动方向；基于最...
    2026-03-25
  • 制造薄膜的方法和薄膜的膜
    制造薄膜的方法和薄膜的膜_台湾积体电路制造股份有限公司_202510924420.7
    制造EUV薄膜的方法包括以下步骤：在衬底上沉积第一绝缘层；部分地去除衬底以形成暴露第一绝缘层的开口；部分地去除第一绝缘层，同时留下与衬底接触的支撑部分；在绝缘层的支撑部分上形成核心层，其中核心层包括sp2和sp3碳原子；以及在核心层上形成氢...
    2026-03-25
  • 基片边缘的清洗装置及方法
    基片边缘的清洗装置及方法_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202410880222.0
    本发明提供了一种基片边缘的清洗装置及方法，涉及半导体光刻工艺技术领域，包括相对设置的第一移动臂和第二移动臂；第一移动臂上滑动连接有上清洗部，上清洗部沿着第一方向移动，第二移动臂上滑动连接有下清洗部，下清洗部沿着第一方向移动；工作状态，将第一...
    2026-03-25
  • 一种非制冷红外探测器制造方法
    一种非制冷红外探测器制造方法_上海新微技术研发中心有限公司_202410877018.3
    本发明提供一种非制冷红外探测器制造方法，包括：在电路片版图上预留光刻机对准标识；在处理后的电路片上沉积第一牺牲层并进行固化，第一牺牲层上设置有第一支撑层，通过光刻机进行光刻，完成桥腿层的制备；在形成桥腿层的晶圆表面沉积第二牺牲层并进行固化，...
    2026-03-25
  • 一种纳米压印设备及模板装载方法
    一种纳米压印设备及模板装载方法_普雨科技(苏州)有限公司_202511741555.6
    本申请提供了一种纳米压印设备及模板装载方法，可以应用于半导体制备技术领域。该纳米压印设备包括：载模台，用于放置掩模板；移动导轨，用于承载载模台，并使载模台能沿移动导轨移动至第一预设位置和第二预设位置；光学对准部件，设置于第一预设位置的正上方...
    2026-03-25
  • 化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
    化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510897756.9
    本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种能够提高图案形成时的分辨性且能够得到LER和图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、以及抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含：(A)光酸产...
    2026-03-25
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510899277.0
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：含有具有下式(1)表示的超...
    2026-03-25
  • 抗蚀剂组成物及图案形成方法
    抗蚀剂组成物及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510906467.0
    本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：含有下式(1)表示的具有超...
    2026-03-25
  • 一种高强度感光性阻焊干膜及其制备方法
    一种高强度感光性阻焊干膜及其制备方法_广东拓谱电子科技有限公司_202511402743.6
    本发明涉及一种高强度感光性阻焊干膜及其制备方法，高强度感光性阻焊干膜的成分包括丙烯酸树脂、活性单体、改性二氧化钛、环氧树脂、光引发剂、助剂、溶剂；其中，所述改性二氧化钛为羟基化二氧化钛先与异佛尔酮二异氰酸酯反应，然后和2‑乙烯基苯酚反应，最...
    2026-03-25
  • 化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
    化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510907076.0
    本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供含有可产生扩散小的酸的鎓盐的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。本发明的解决手段是一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含(A)光酸产生剂及...
    2026-03-25
  • 化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
    化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510908403.4
    本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性良好，分辨性、LER、图案形状等光刻性能优良，同时在微细图案形成中会抗图案崩塌，蚀刻耐性亦优良的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用...
    2026-03-25
  • 一种复合光刻工艺
    一种复合光刻工艺_上海新微技术研发中心有限公司_202410893047.9
    本发明提供一种复合光刻工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1.提供一基底，所述基底表面具有凹形结构；S2.在所述凹形结构内填充第一底部抗反射涂层，并进行平坦化处理；S3.在填充完所述第一底部抗反射涂层后，接着涂覆第二底部抗反射涂层；S4.在所...
    2026-03-25
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