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  • 本发明涉及显示技术领域,提供了一种掩膜版,包括:像素区、净空区及标识区,净空区包围标识区,净空区的外部被多个像素通孔包围;包括沿厚度方向相对的玻璃面和蒸镀面,净空区的蒸镀面设置多个凹槽,净空区的平均单位体积剩余占比的取值区间随着像素区的平均...
  • 本申请公开了一种AlTiMoVN多元自润滑涂层及制备方法和应用,制备方法包括如下工艺步骤:S1,超声波清洗基体;S2,基体装载至样品架并放入镀膜腔室内,镀膜腔室设置温度为25至500℃,真空度设置为1.0*10‑3至1.0*10‑4Pa;S...
  • 本申请公开了一种AlTiSiMoVN多元纳米复合涂层及制备方法和应用,制备方法包括如下工艺步骤:S1,超声波清洗基体;S2,基体装载至样品架并放入镀膜腔室,镀膜腔室的温度设置为25至500℃,真空度设置为1.0*10‑3至1.0*10‑4P...
  • 本申请公开了一种微观DIC用的非晶纳米碳颗粒人工散斑制备方法和装置,该方法使用高纯度碳材料作为碳靶,通过合理调控等离子物理气相沉积设备的运行参数,能够制备出粘附力强、均匀且弥散分布、分辨率高并且可与电子背散射衍射(EBSD)技术联用的人工散...
  • 本申请涉及激光雷达技术领域,特别是涉及激光雷达窗口片的制备方法、激光雷达。制备方法包括以下步骤:提供基板;采用一体化镀膜工艺在基板的背面连续沉积第一黑膜层、透明导电膜以及AR镀层,制备中间件;其中,第一黑膜层用于调控透过的光波波段;对中间件...
  • 本发明提供了一种具有非晶金属‑纳米晶陶瓷层状结构的PVD涂层及其制备方法,属于金属材料表面处理技术领域。该涂层包括至少一层非晶金属层和至少一层纳米晶陶瓷层,非晶金属层和纳米晶陶瓷层交替设置;非晶金属层的材质为掺杂了Ta和Si的钛铝合金,非晶...
  • 本发明提供一种VMoSiN强韧耐磨涂层及其制备方法和应用,具体涉及功能涂层材料技术领域。本发明VMoSiN强韧耐磨涂层呈均匀的纳米晶结构,且所述VMoSiN强韧耐磨涂层包括VMoSiN相、VN相、V2N相和MoN相。与现有技术相比,本发明通...
  • 本发明属于涂层刀具技术领域,具体涉及一种用于刀具的复合自润滑涂层及其制备方法,一种用于刀具的复合自润滑涂层包括:WS2界面适配层、WS2/MoS2缓冲过渡层、TiAlMoN主承载耐磨层、TiAlMoN/Ni润滑相复合层、W‑C‑N表界面功能...
  • 本发明涉及钙钛矿电池技术领域,具体涉及一种无机电子传输层及其制备方法和钙钛矿电池。无机电子传输层的制备方法,包括以下步骤:将基片置于热蒸发设备的镀膜区域;加热所述热蒸发设备中的无机电子传输原料,同时,根据所述无机电子传输原料中含有的非金属元...
  • 本发明属于薄膜材料技术领域,公开了一种用于超高密度磁记录介质的氧化物薄膜材料及其制备方法和应用。该制备方法,包括以下步骤:(1)取原材料钙钛矿氧化物材料、反铁磁氧化物材料和亚铁或铁磁氧化物材料,混合,研磨,得到颗粒混合物;(2)将步骤(1)...
  • 本发明属于火电机组受热面治理技术领域,针对火电机组热障涂层使用单一相变材料时,存在导热率低,循环稳定性差,以及与基体结合力弱的技术问题,提供一种基于相变材料的火电机组动态热缓冲涂层及其制备方法。包括由内至外覆盖于火电机组金属基体上的中间缓冲...
  • 本发明公开了一种高温下抗氧化耐磨损多元碳化物涂层及其制备方法。所述涂层由CrY/CrYTiAl复合过渡层和(TiCrNbAlY)C功能层组成,其中功能层中C元素的原子百分比为40%~60%,Ti、Cr、Nb、Al、Y五种金属元素的原子百分比...
  • 本发明公开了一种Ga2O3/GaN异质结及其制备方法和应用,属于半导体材料制备技术领域。一种Ga2O3/GaN异质结的制备方法包括以下步骤:将Sn金属蒸镀在部分GaN薄膜上,得到镀Sn的GaN;在空气气氛下,将镀Sn的GaN与Ga单质在85...
  • 公开沉积源和电子装置。该沉积源可包括:外壳;喷嘴部件,设置在外壳上,并且包括第一喷嘴和与第一喷嘴相邻的第二喷嘴;第一储存器,设置在外壳中并且被配置以容纳第一沉积材料;第二储存器,设置在外壳中并且被配置以容纳第二沉积材料;以及盖,设置在外壳与...
  • 本发明属于薄膜制备技术领域,公开了一种蒸镀设备。该蒸镀设备包括本体、盖体、驱动件、限位件和检测件。本体设有腔室;盖体具有打开腔室的第一状态和关闭腔室的第二状态,盖体设有安装位;驱动件与盖体传动连接,用于带动盖体在第一状态和第二状态之间切换;...
  • 本发明公开了一种坩埚回转机构的冷却结构,涉及真空蒸镀机技术领域,包括安装架,所述安装架上转动连接有旋转轴,且旋转轴的上端设置有坩埚本体,且坩埚本体的边侧连通设置有进水管与排水管,且进水管位于排水管的下侧,所述旋转轴的内部与坩埚本体之间设置有...
  • 本申请提供了一种蒸镀设备及其控制方法,该蒸镀设备包括冷水机、吹扫气源、切换阀和至少一个待冷却单元,冷水机具有出水口,切换阀具有第一开口、第二开口和第三开口,第一开口与出水口连通,第二开口与至少一个待冷却单元连通,第三开口与吹扫气源连通,切换...
  • 本发明公开了一种蒸镀机自动化工艺控制方法及系统,适用于多种材料和多工艺条件下的薄膜沉积过程。该系统包括工艺初始化模块、镀膜控制执行模块和后处理与数据反馈模块。工艺初始化模块用于完成蒸镀任务前的参数配置、环境准备与启动条件确认,确保系统具备进...
  • 本发明涉及晶片镀膜领域,且公开了一种具有晶片防护机构的半导体镀膜设备,包括柜体和设置在柜体内的放置机构,所述放置机构包括设置在柜体内部的放置组件,所述放置组件上方设置有防护盖板组件,所述防护盖板组件上方设置有连接组件,本发明通过氩气气幕系统...
  • 本发明提供了一种基于不同厚度纳米材料涂层提升盾构机刀具性能的方法,属于隧道工程施工装备技术领域。本发明先对盾构机刀具基体进行表面清洁和喷砂粗化处理,然后在处理后的刀具基体表面依次制备底层为厚度2‑3μm的纳米钴‑镍合金涂层,中间层为厚度5‑...
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