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  • 本发明公开了一种常压介质阻挡放电装置(10)、其插入式安装用途及操作方法,其中所述装置(10)包括:至少一个中空圆柱形介电体(2),所述中空圆柱形介电体(2)具有内护套表面和外护套表面,且介电常数大于4;插入装置(3),所述插入装置(3)包...
  • 本发明的目的在于,提供一种对频率不同的多个高频电力进行控制的技术。本发明的等离子处理装置之一具备:处理室,对样品进行等离子处理;第一高频电源,将第一频率的高频电力经由第一阻抗匹配器和第一滤波器供给到第一电极;第二高频电源,将第二频率的第二高...
  • 根据本发明的一个实施例,一种电子装置包括:第一印刷电路板;以及面对所述第一印刷电路板且设置在所述第一印刷电路板上的第二印刷电路板。所述电子装置包括设置在所述第一印刷电路板的第一表面上的第一支撑构件。所述电子装置包括设置在所述第二印刷电路板的...
  • 根据实施例的柔性电路板包括:基板,包括第一表面和与第一表面相反的第二表面;第一电路图案,设置在第一表面上;第二电路图案,设置在第一表面和第二表面上;以及第三电路图案,设置在第一表面和第二表面上,其中,第一电路图案包括第一布线部、第一焊盘部和...
  • 线圈构件具有第1线圈电极和第2线圈电极。一个以上的电容器各自具有第1电容器电极和第2电容器电极。线圈构件的质量大于一个以上的电容器各自的质量。第1导电性构件、第2导电性构件以及第3导电性构件各自具有在上下方向上排列的第2上表面以及第2下表面...
  • 一种包括堆叠体的电子器件,该堆叠体的电路层(15)被至少一个脱离层(12)覆盖。在第一侧(S1)设置有图形层(13),该图形层(13)具有由一个或多个反光区域(13f)和一个或多个吸光区域(13s)构成的图案。一个或多个反光区域(13f)被...
  • 所公开的制造方法是部件安装基板的制造方法。该制造方法依次包含:焊料预涂层部形成工序,在电路基板的第1面的多个第1焊盘形成焊料预涂层部;第1配置工序,在焊料预涂层部上配置多个第1部件;第1回流焊工序,通过对配置有多个第1部件的电路基板进行加热...
  • 电路基板(1A)具备:绝缘层(10),具有在厚度方向上相对的第1主面(10a)以及第2主面(10b);第1层间连接导体(31)以及第2层间连接导体(32),设置为在厚度方向上贯通相同或不同的绝缘层(10);第1导体层(21),设置在绝缘层(...
  • 本发明涉及一种组件,所述组件包括至少一个导电条(4)、电气连接器(5)以及用于使所述导电条与电子装置电气联接的互连器(7)。所述互连器(7)包括第一端部(8)和第二端部(9),所述第一端部构造成借助于第一螺钉(10)与所述导电条(4)连接,...
  • 本公开的示例性实施例涉及一种接口模块(10)和一种散热系统(1)。该接口模块(10)包括:框架(12),围合出内部通道(13),用于沿插入方向(Li)容纳发热设备的至少一个发热部;至少一个热扩散件(14),邻近内部通道(13)的内壁设置,且...
  • 本发明描述了一种用于冷却功率电子构件(2)的冷却器(1)。冷却器包括第一板(3),该第一板设立用于接纳功率电子构件(2)。此外,冷却器包括深冲件(4),该深冲件通过连接区域(5)与第一板(3)连接,其中,在第一板(3)与深冲件(4)之间构造...
  • 保护元件(102),用于提高电磁兼容性,其中保护元件(102)包括:用于保护免受电场、磁场或电磁场的影响的屏蔽层(114)。
  • 一种内存装置,所述内存装置包括至少一个具有双栅极结构的晶体管,所述双栅极结构包括第一栅极金属及第二栅极金属,其中所述第一栅极金属具有小于4.55 eV的功函数,且所述第二栅极金属具有大于4.55 eV的功函数。亦提供了一种形成所述内存装置的...
  • 提供了具有改进的稳定性及字线电阻率的垂直单元动态随机存取内存(DRAM)数组及形成数组的方法。此等数组包括在第一水平方向上布置的复数个位线及在第二水平方向上布置的复数个字线。此等数组包括在与此第一方向及此第二水平方向大致上正交的垂直方向上延...
  • 本技术一般针对垂直动态随机存取存储器(DRAM)单元和阵列,以及形成这种单元和阵列的方法,它们包含两个相邻沟道之间的共享字线。单元包括沿第一水平方向布置的位线、第一沟道、第二沟道以及在第一沟道和第二沟道之间沿第二水平方向布置的共享字线。单元...
  • 本公开公开设备及方法,包含晶体管、半导体装置及系统。实例半导体装置及方法包含晶体管之间的隔离沟槽,所述隔离沟槽包含介电层,所述介电层包含固定电荷。固定电荷介电层实现缩放得比不包含固定电荷介电层的沟槽更小的沟槽宽度。这允许在不牺牲所展示装置的...
  • 一种处理衬底的方法,该方法包括:提供图案化的衬底,其具有在特征之间的一个或更多个间隙;在衬底上方沉积牺牲性材料,其中牺牲性材料沉积在一个或更多个间隙中的至少一者中;蚀刻牺牲性材料以暴露特征的表面;在衬底上方形成薄渗透层,其中薄渗透层沉积在牺...
  • 本文提供了制造存储器元件的方法。该方法包括:在基板上形成第一外延层;以及在第一外延层上形成存储器阵列,该存储器阵列包括第一外延层上的氧化物材料和金属材料的交替层的存储器堆叠,从第一外延层延伸穿过存储器堆叠的至少一个存储器单元,以及与至少一个...
  • 本发明的实施例提供一种MRAM结构。该结构包括:金属线,该金属线具有在第一侧和第二侧之间的宽度、在第一端和第二端之间的长度、以及纵向轴线,并且相对于所述纵向轴线对称;导电通孔,所述导电通孔接触所述金属线的第一区域;以及磁性隧道结(MTJ)堆...
  • 描述用于分裂支柱及支墩存储器架构的方法、系统及装置。存储器阵列可包含通过沟槽来与第二组字线板分离的第一组字线板及与所述第一及第二组字线板交互的一组支柱对(例如,其经配置为数字线)。此外,所述存储器阵列可包含定位于所述支柱对之间的一组介电支墩...
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