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最新专利技术
  • 镀膜材料的加热方法及加热设备
    镀膜材料的加热方法及加热设备_光驰科技(上海)有限公司_202510958172.8
    本发明属于蒸镀工艺技术领域， 公开了一种镀膜材料的加热方法及加热设备。镀膜材料的加热方法包括提供一膜料容器、一固定装置和一加热装置， 膜料容器用于盛放镀膜材料， 固定装置用于固定膜料容器， 加热装置用于加热固定装置；在加热装置的初始加热功率...
    2025-12-05
  • 超高真空转移装置
    超高真空转移装置_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202510042324.X
    本发明公开了一种超高真空转移装置， 其包括：真空转移腔体、第一磁力杆、第二磁力杆、第三磁力杆、样品台、样品压片和样品转移托， 第一磁力杆、第二磁力杆、第三磁力杆分别与样品台、样品压片、样品转移托固定连接， 样品台、样品压片、样品转移托设置在...
    2025-12-05
  • 一种基于CVD与热轧嵌入法的铜箔-石墨烯复合材料及其制备工艺
    一种基于CVD与热轧嵌入法的铜箔-石墨烯复合材料及其制备工艺_瓯锟科技(北京)有限公司_202510927316.3
    本发明公开一种基于CVD与热轧嵌入法的铜箔‑石墨烯复合材料及其制备工艺。以0.5mm铜箔为基底， 通过CVD法在1000‑1100℃下通入CH1/H2混合气(CH15‑15sccm， H2 30‑70sccm)生长双层石墨烯；随后在氩气保护...
    2025-12-05
  • 一种制备高电阻率碳化硅材料的方法及碳化硅材料
    一种制备高电阻率碳化硅材料的方法及碳化硅材料_湖南德智新材料股份有限公司_202511256014.4
    本发明涉及半导体刻蚀材料技术领域， 提供一种制备高电阻率碳化硅材料的方法及碳化硅材料。方法包括如下步骤：将基底放置于化学气相沉积设备中， 对所述化学气相沉积设备抽真空， 随后通入惰性气体；硅碳源气体和载气经第一进气通道注入化学气相沉积设备，...
    2025-12-05
  • 双向荷载下螺杆防滑纹路磨损摩擦退化控制方法
    双向荷载下螺杆防滑纹路磨损摩擦退化控制方法_嘉兴易达新材料科技股份有限公司_202510911378.5
    本发明公开了一种双向荷载下螺杆防滑纹路磨损摩擦退化控制方法， 涉及耐磨材料技术领域， 本通过制备芯部为形状记忆合金(SMA)与金属基复合材料、表层为耐磨陶瓷相的梯度结构螺杆， 并在螺纹牙侧加工填充磁流变液(MRF)的封闭沟槽及微型电磁线圈，...
    2025-12-05
  • 多元氧化物的原子层沉积制备方法、多元氧化物膜及多元氧化物膜制品
    多元氧化物的原子层沉积制备方法、多元氧化物膜及多元氧化物膜制品_江苏微导纳米科技股份有限公司_202510900297.5
    本申请提供了多元氧化物的制备方法， 包括以下步骤：a)向反应腔内通入第一金属前驱体进行沉积， 在基底上形成第一金属沉积层；b)向反应腔内通入第二金属前驱体进行沉积， 形成沉积层；c)向反应腔内通入氧源， 进行氧化反应；d)对所述步骤c)得到...
    2025-12-05
  • 一种雾化化学气相沉积反应腔、薄膜制备系统及方法
    一种雾化化学气相沉积反应腔、薄膜制备系统及方法_山东大学_202511001362.7
    本发明公开了一种雾化化学气相沉积反应腔、薄膜制备系统及方法， 涉及半导体薄膜生长技术领域。本发明的雾化化学气相沉积反应腔， 包括反应腔本体， 反应腔本体上设有微通道， 微通道用于供雾化气流流通， 反应腔本体上还设有第一凹槽， 第一凹槽位于微...
    2025-12-05
  • 折流旋转反应器原子层沉积设备
    折流旋转反应器原子层沉积设备_中国科学院山西煤炭化学研究所_202511133969.0
    本发明公开了一种折流旋转反应器原子层沉积设备， 涉及原子层沉积技术领域， 包括安装平台、保温外壳体、内筒体、折流挡板和旋转驱动机构， 保温外壳体和内筒体的轴线均与安装平台的顶面平行， 内筒体设置于保温外壳体内， 内筒体与旋转驱动机构的输出端...
    2025-12-05
  • 一种化学气相沉积喷淋头及其加工工艺
    一种化学气相沉积喷淋头及其加工工艺_北京子牛亦东科技有限公司_202511248829.8
    本申请涉及半导体技术领域的一种化学气相沉积喷淋头及其加工工艺， 化学气相沉积喷淋头包括：喷气盘， 所述喷气盘上设有多个气孔；顶盖， 所述顶盖设于所述喷气盘一侧并与所述喷气盘固定， 所述顶盖与所述喷气盘之间形成气腔， 所述顶盖上设有气道；中空...
    2025-12-05
  • 一种水平式等离子体增强低压Mist-CVD装置
    一种水平式等离子体增强低压Mist-CVD装置_苏州镓和半导体有限公司_202510668413.5
    本发明公开了一种水平式等离子体增强低压Mist‑CVD装置， 属于半导体装备技术领域， 所述装置包括：反应腔室4、真空控制和尾气处理模块7、雾化源供应模块21、混合气室26、气体供应模块28和等离子体激发模块36。本发明采用多个前驱体溶液独...
    2025-12-05
  • 一种用于薄膜沉积的远程等离子体源装置
    一种用于薄膜沉积的远程等离子体源装置_珠海宝丰堂半导体股份有限公司_202511194841.5
    本发明涉及材料表面处理技术技术领域， 且公开了一种用于薄膜沉积的远程等离子体源装置， 包括等离子发生腔、PECVD工艺腔与微波磁控管， PECVD工艺腔连通在等离子发生腔的下方， 微波磁控管设置在等离子发生腔的外侧， 等离子发生腔的外侧设置...
    2025-12-05
  • 一种半导体晶圆的高精度真空反应腔室温度补偿装置
    一种半导体晶圆的高精度真空反应腔室温度补偿装置_无锡展硕科技有限公司_202511183129.5
    本发明涉及应用于半导体器件领域的一种半导体晶圆的高精度真空反应腔室温度补偿装置， 包括有真空反应腔室和搭载在真空反应腔室控制箱内的温度补偿系统， 通过预热感应组件、换热感应组件和温度补偿系统的协同配合， 实现对前置预热温度数据和后续工艺气体...
    2025-12-05
  • 一种冷拔钢管表面处理方法
    一种冷拔钢管表面处理方法_燕山大学_202510915156.0
    本发明涉及钢铁制品表面处理技术领域， 特别是涉及一种冷拔钢管表面处理方法。该冷拔钢管表面处理方法， 包括以下步骤：步骤S1， 钢管表面除油；步骤S2， 钢管表面酸洗处理；步骤S3， 钢管表面磷化处理：利用磷化液在步骤S2处理后的钢管表面形成...
    2025-12-05
  • 一种环保型铝材表面处理液及其处理方法
    一种环保型铝材表面处理液及其处理方法_晋西工业集团有限责任公司_202510848054.1
    本发明公开了一种环保型铝材表面处理液及其处理方法， 该处理液的制备方法为：依次将植酸、硝酸钠、氟化铵加入去离子水中， 搅拌至完全溶解；然后加入硅酸钠搅拌至均相溶液；再采用柠檬酸或氨水将混合液调节pH至2.5‑4.5；最后加入去离子水， 使混...
    2025-12-05
  • 一种镀锌管表面钝化设备
    一种镀锌管表面钝化设备_张家港市银坤泰金属制品有限公司_202511269571.X
    本申请涉及镀锌管加工技术领域， 且公开了一种镀锌管表面钝化设备， 包括转动机构， 所述连接机构的底端设置有转动机构， 所述转动机构的中部活动卡接有管件， 且转动机构包括转动件、固定件和夹持组件， 且转动件通过转动孔与夹持组件的前端活动套接，...
    2025-12-05
  • 一种涂装生产线前处理用磷化装置
    一种涂装生产线前处理用磷化装置_盐城市银剑涂装机械有限公司_202510912043.5
    本发明属于涂装设备技术领域， 具体涉及一种涂装生产线前处理用磷化装置， 包括室体、水盘、第一水洗槽、第二水洗槽、纯水洗槽、磷化槽。所述室体为半封闭式结构， 两端开口便于工件进出， 工件通过输送装置送至往复机构上， 往复机构位于室体内， 室体...
    2025-12-05
  • 一种金属材料表面处理设备及表面处理方法
    一种金属材料表面处理设备及表面处理方法_广东宝通维新科技有限公司_202510880744.5
    本发明公开了一种金属材料表面处理设备及表面处理方法， 包括对金属基体进行表面预处理形成目标表面粗糙度的活化基体；在活化基体表面通过喷涂系统将金属陶瓷粉末定向沉积， 生成具有均匀微孔通道的多孔基底层；在多孔基底层上沉积梯度功能涂层， 动态调节...
    2025-12-05
  • 一种适用于激光熔覆的送粉器
    一种适用于激光熔覆的送粉器_重庆电子科技职业大学_202510970270.3
    本发明属于激光熔覆技术领域， 且公开了一种适用于激光熔覆的送粉器， 包括送粉器主体， 所述送粉器主体顶端的中部固定安装有圆盘， 所述圆盘顶端中部的左侧固定安装有出料管， 所述圆盘顶端中部的右侧固定安装有料筒。本发明通过设置敲打块、竖向块、第...
    2025-12-05
  • 一种挖掘机斗齿涂层及其制备方法和挖掘机
    一种挖掘机斗齿涂层及其制备方法和挖掘机_北矿新材科技有限公司_202510982332.2
    本申请提供一种挖掘机斗齿涂层及其制备方法和挖掘机， 涉及涂层技术领域。按质量比为100%计， 包括：碳2%‑2.5%、铬30%‑35%、镍4%‑5%、硼0.5%‑1%、硅0.5%‑1%、钒1%‑2%、钛0.5%‑1%、钼1%‑2%、铝0.5...
    2025-12-05
  • 用于激光沉积增材制造的保护气区域构建方法及装置
    用于激光沉积增材制造的保护气区域构建方法及装置_湖北三江航天红阳机电有限公司_202510991043.9
    本申请公开一种用于激光沉积增材制造的保护气区域构建方法及装置， 涉及增材制造技术领域。保护气区域构建装置包括第一封膜件和第二封膜件， 其中第一封膜件包括夹持组件、转接盘和压盘， 第二封膜件包括刚性底板和围板。方法包括：识别刚性底板上的通孔，...
    2025-12-05
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