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最新专利技术
  • 一种TiNbNiCr合金靶材及其制备方法
    一种TiNbNiCr合金靶材及其制备方法_苏州六九新材料科技有限公司_202511779635.0
    本申请提供了一种制备TiNbNiCr合金靶材的方法以及使用该方法制备的TiNbNiCr合金靶材。所用原料按原子百分比的配比为：Ti：20‑50％，Nb：10‑30％，Ni：1‑30％，Cr：10‑60％，其采用等离子烧结法进行制备。该靶材制...
    2026-03-10
  • 一种适配耳机金属外壳的镀膜装置
    一种适配耳机金属外壳的镀膜装置_江西立讯智造有限公司_202511739853.1
    本发明公开了一种适配耳机金属外壳的镀膜装置，涉及耳机外壳镀膜技术领域，包括真空溅射镀膜箱，所述真空溅射镀膜箱的底部开设有料口；还包括真空过渡箱、辅助转料机构和联动封堵机构，所述真空过渡箱固定连接在所述真空溅射镀膜箱的底部，所述联动封堵机构配...
    2026-03-10
  • 工程机械传动齿轮的制备方法
    工程机械传动齿轮的制备方法_济宁学院_202511671571.2
    本发明公开了一种工程机械传动齿轮的制备方法，属于机械制造技术领域。其技术方案为：工程机械传动齿轮毛坯经过淬火、高温回火、粗加工、半精加工、去应力回火、精加工、去毛刺、清洗后，通过反应溅射和共溅射的复合方法制备CrTi/CrTiSiO/CrT...
    2026-03-10
  • 一种离子镀膜设备
    一种离子镀膜设备_陕西先锋东太钣金技术有限公司_202610081230.8
    本申请公开了一种离子镀膜设备，涉及镀膜设备的技术领域，可以解决现有技术中离子镀在降低放电功率时弧斑难以维持、放电不稳定甚至断弧的问题。离子镀膜设备包括：镀膜容器，镀膜容器形成有真空工作腔；阴极组件，阴极组件布置于真空工作腔的第一端，阴极靶材...
    2026-03-10
  • 一种管内壁电弧离子镀膜设备及镀膜方法
    一种管内壁电弧离子镀膜设备及镀膜方法_东北大学_202610076782.X
    本发明公开了一种管内壁电弧离子镀膜设备及镀膜方法，涉及管状构件内壁处理技术领域，包括上、下腔室组成的镀膜容器，下腔室移动对接上腔室形成密闭腔体，上腔室设装夹夹具定位待镀管状工件，引弧针位于工件轴心，与靶材引弧放电，外侧设阳极构成回路，靶材竖...
    2026-03-10
  • 一种环保的锌基防腐镀层及其制备方法
    一种环保的锌基防腐镀层及其制备方法_辽宁工程技术大学_202511778001.3
    本发明属于材料表面工程领域，公开了一种环保的锌基防腐镀层及其制备方法。通过采用Zn‑Al靶材并结合离子镀工艺原位引入氮气，成功制备出高性能的ZnAlN复合镀层。Zn的牺牲阳极保护作用与AlN的高稳定性相结合，防腐能力和力学性能明显高于现有的...
    2026-03-10
  • 一种航空钛合金加工用刀具硬质涂层及其制备方法
    一种航空钛合金加工用刀具硬质涂层及其制备方法_兰州空间技术物理研究所_202511634527.4
    本发明涉及一种航空钛合金加工用刀具硬质涂层及其制备方法，属于表面处理领域，具体涉及一种航空用刀具涂层的制备方法。本发明提供的一种航空钛合金加工用刀具硬质涂层，具有硬度高、结合力强、耐高温、摩擦系数低的优点。测试结果表明，该涂层显微硬度高于3...
    2026-03-10
  • 一种抗氧化涂层表面结构改性控制氧化膜生长的方法
    一种抗氧化涂层表面结构改性控制氧化膜生长的方法_中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司_202511588410.7
    本发明公开了一种抗氧化涂层表面结构改性控制氧化膜生长的方法，该方法首先对高温合金基体进行预处理，随后采用真空电弧镀、热喷涂或化学气相沉积工艺制备厚度为10~40μm的抗氧化涂层，并进行真空扩散热处理。核心步骤在于采用特定参数的喷丸处理对涂层...
    2026-03-10
  • 一种电子束物理气相沉积装置
    一种电子束物理气相沉积装置_攀枝花学院_202511553748.9
    本发明提供一种电子束物理气相沉积装置，包括第一坩埚和第二坩埚，分别放置在所述合金制备室中；第一电子枪及第二电子枪，安装在所述炉体上，所述第一电子枪与所述第一坩埚相对设置，所述第二电子枪与所述第二坩埚相对设置。通过设置第一电子枪和第二电子枪，...
    2026-03-10
  • 一种具有双负折射率的层状超材料及其制备方法
    一种具有双负折射率的层状超材料及其制备方法_贵州铂韬电子科技有限公司_202511424806.8
    本发明涉及超材料技术领域，且公开了一种具有双负折射率的层状超材料，包括基底以及周期性层组，所述周期性层组包括交替堆叠设置在基底上的金属层和介质层。一种具有双负折射率的层状超材料的制备方法，包括S5、对形成的基底及周期性层组进行退火处理，退火...
    2026-03-10
  • 一种用于光学玻璃生产的表面防护膜镀膜装置
    一种用于光学玻璃生产的表面防护膜镀膜装置_湖南群策光电科技有限公司_202610082479.0
    本发明公开了一种用于光学玻璃生产的表面防护膜镀膜装置，涉及玻璃表面处理技术领域，包括两个对称转动连接在腔体两侧的密封门，还包括分设于两个密封门内的工件架，其包括转动连接于各密封门内的笼架，以环形阵列对应开设于笼架上下的两组圆孔，转动配合于各...
    2026-03-10
  • 一种确定蒸发舟熔池尺寸的方法、设备及介质
    一种确定蒸发舟熔池尺寸的方法、设备及介质_安迈特科技(北京)有限公司_202511788282.0
    本发明公开了一种确定蒸发舟熔池尺寸的方法、设备及介质，涉及镀膜技术领域，该方法包括确定蒸发舟的干烧电压和干烧电流；获取蒸发舟的送丝参数，按照送丝参数向蒸发舟输送金属丝，送入蒸发舟的金属丝在蒸发舟产生的热量的作用下进入熔融状态，形成含熔池的蒸...
    2026-03-10
  • 半球谐振陀螺电极检测基座金属化膜层蒸镀工装、系统及方法
    半球谐振陀螺电极检测基座金属化膜层蒸镀工装、系统及方法_西安航天精密机电研究所_202511839847.3
    本发明公开了一种半球谐振陀螺电极检测基座金属化膜层蒸镀工装、系统及方法，解决了现有技术中存在电极检测基座表面蒸镀的金属化膜层粗糙且均匀性较差的问题，具体包括真空腔、设置在真空腔内的蒸镀设备，以及设置在蒸镀设备上经过优化的半球谐振陀螺电极检测...
    2026-03-10
  • 一种用于光学元器件的真空镀膜机
    一种用于光学元器件的真空镀膜机_陈本富_202511777050.5
    本发明公开了一种用于光学元器件的真空镀膜机，涉及真空镀膜机技术领域，包括镀膜机主体和镀膜架体，镀膜机主体内设有真空室，镀膜架体设置在真空室内，镀膜架体包括滑动安装组件、旋转安装组件、旋转驱动组件和翻转固定组件，滑动安装组件与真空室滑动连接，...
    2026-03-10
  • 氧化层的生成方法、半导体结构的制备方法及半导体结构
    氧化层的生成方法、半导体结构的制备方法及半导体结构_无锡芯卓湖光半导体有限公司_202511765311.1
    本发明涉及半导体制造技术领域，公开了一种氧化层的生成方法、半导体结构的制备方法及半导体结构，氧化层的生成方法包括：在第一工艺参数下，通过原位蒸汽生成工艺在初始半导体结构的一侧形成第一氧化层；在第二工艺参数下，通过原位蒸汽生成工艺在第一氧化层...
    2026-03-10
  • 一种水晶玻璃制品的表面镀膜工艺
    一种水晶玻璃制品的表面镀膜工艺_浙江聚泰工贸有限公司_202511720026.8
    本申请公开了一种水晶玻璃制品的表面镀膜工艺，属于镀膜工艺的技术领域，其技术方案要点是具体步骤包括：S1，将水晶玻璃制品表面清洁，再进行干燥；S2，然后将水晶玻璃制品通过夹持装置进行夹持，将夹持装置置于真空镀膜装置中；S3，通过真空镀膜装置对...
    2026-03-10
  • 一种晶面取向、元素含量差异的复合金属氮化物涂层及其制备方法
    一种晶面取向、元素含量差异的复合金属氮化物涂层及其制备方法_兰州空间技术物理研究所_202511754745.1
    本发明涉及一种晶面取向、元素含量差异的复合金属氮化物涂层及其制备方法，属于表面工程技术领域。包括依次附着在金属基体表面的金属过渡层、第一TiN层和第二TiN层；第一TiN层中，Ti与N的原子百分比≤1.2，以(111)晶面取向优势生长；第二...
    2026-03-10
  • 一种用于MCrAlY涂层的金属-陶瓷-MAX相三元协同扩散阻挡结构及其制备方法
    一种用于MCrAlY涂层的金属-陶瓷-MAX相三元协同扩散阻挡结构及其制备方法_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202511752051.4
    本发明公开了一种用于MCrAlY涂层的金属‑陶瓷‑MAX相三元协同扩散阻挡结构及其制备方法。该扩散阻挡结构包括在其厚度方向上依次层叠的金属层、陶瓷层和MAX相层，MCrAlY层叠设于金属‑陶瓷‑MAX相三元协同扩散阻挡结构的顶端，M包括Ni...
    2026-03-10
  • 一种超薄磁性掩模版的制作工艺方法
    一种超薄磁性掩模版的制作工艺方法_上海澜矽昌科技有限公司_202511707454.7
    本发明公开了一种超薄磁性掩模版的制作工艺方法，属于半导体制造技术领域。该工艺包括在硅基晶圆表面形成氧化层并光刻刻蚀得到硬掩模层，经热氧化及周边氧化层去除后，通过PVD或电镀沉积NiFe磁性薄膜；对NiFe薄膜研磨除杂后形成氧化膜正面保护层；...
    2026-03-10
  • 一种多段式降温退火调控氧化物薄膜应力的方法
    一种多段式降温退火调控氧化物薄膜应力的方法_中国科学院大连化学物理研究所_202511615820.6
    本发明公开了一种基于多段式降温退火的氧化物薄膜后处理方法，旨在通过精确设计的热处理工艺，在修复氧空位的同时主动调控薄膜应力。该方法解决了退火过程中应力控制与缺陷修复难以兼顾的难题，为制备低吸收、高稳定性的氧化物强激光薄膜器件奠定了坚实的理论...
    2026-03-10
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