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  • 本发明涉及一种车载控制器的智能多模式低功耗切换电路及方法,本发明包括电池、3.3V电源芯片、5V电源芯片和MCU模块,电池接入板卡后分别接给3.3V电源芯片与5V电源芯片,3.3V电源芯片输出接MCU模块,5V电源芯片输出接CAN芯片,CA...
  • 本发明公开了一种多功能高精度时统设备,属于电信技术领域。本发明设计了一种时统设备,时统设备接收GNSS信号,然后将GNSS信号解析为卫星通信系统设备所需的多种数据时统信息格式(秒脉冲时间信号,时间信息B码、NTP协议和专用协议等)。然后通过...
  • 本申请公开了一种星载高精度测控终端星地时差的信号接收与同步方法及装置,包括:通过星载高精度测控终端接收卫星的同源同相的秒脉冲信号和伪码时钟信号,获取参考时钟;通过星载高精度测控终端使用参考时钟通过内部时钟管理模块生成系统工作时钟信号,对秒脉...
  • 本发明公开了一种换流站全景数据纳秒级对时方法、系统、产品及设备,涉及计算机技术领域,检测方法包括卫星授时误差建模、通信链路的不对称时延建模、双向加权Kalman融合、对本地高稳频率源进行偏移补偿与频率修正以及同步性能评估;对时系统包括多源授...
  • 本申请公开了一种基于宇宙线缪子的时间同步系统及同步方法,涉及数字信息传输领域,该系统包括与标准时钟对应设置的时间探测器和径迹探测器、与待校准时钟对应设置的事例匹配模块、时间差计算模块、时间调节模块、时间探测器和径迹探测器;事例匹配模块根据两...
  • 本发明涉及一种基于龙芯SOC的多时间源PTP授时电路,属于时统技术领域。本发明的授时电路包括:龙芯SOC、FPGA、高稳晶振、RS422收发器、网卡、交换机、计算刀片1‑6以及外部时钟源。本发明设计方案性能稳定可靠,方式新颖,解决了装备发展...
  • 本发明公开了一种多源融合抗干扰时间频率校准装置,涉及时间校准相关技术领域,包括框架,框架内安装有校准装置的主体,框架的上端滑动安装有多个信号盒,且信号盒与主体线路连接,信号盒的下端套接有用于屏蔽信号的屏蔽盒,框架内安装有用于控制信号盒上下滑...
  • 本发明公开了一种手持式时间同步测试仪,涉及信号处理技术领域。测试仪包括多源输入模块、晶振电路调频模块、被测时间同步信号模块和ZYNQ核心模块;多源输入模块接收北斗、PTP、IRIGB三类基准源信号,晶振电路调频模块提供本地时钟信号,被测时间...
  • 本发明涉及一种星载原子钟稳定性测量方法,包括:获取空间测站和地面测站的接收信号;分别确定空间测站和地面测站的接收信号的频率;确定目标的发射频率;基于目标的发射频率确定空间测站的模型信号和地面测站的模型信号;确定地面测站和空间测站的相关信号;...
  • 本发明涉及图像处理技术领域,公开了一种基于深度学习的激光全息像差补偿系统及方法,一种基于深度学习的激光全息像差补偿系统,包括:第一模块,确定相位到灰度查找表;第二模块,计算获得堆叠强度;第三模块,通过卷积神经网络回归器获得泽尼克多项式系数;...
  • 本发明公开了一种图像形成装置,所述图像形成装置具备:感光体,所述感光体进行旋转;曝光装置,所述曝光装置从沿着所述感光体的轴向配置的发光元件照射光来形成潜像;间隔维持部件,所述间隔维持部件维持所述感光体与所述曝光装置之间的间隔;以及支承部件,...
  • 本发明涉及打印机领域,具体是一种打印机硒鼓清理装置,包括清理座,还包括:夹持机构,夹持机构置于清理座的侧壁上;安装架,安装架滑动设置在清理座顶部;清理机构,清理机构包括:滑动套,滑动套上固定设置有螺纹连接件,吹风管,吹风管嵌入到滑动套内部,...
  • 本发明提供带电辊、处理插件、图像形成装置以及图像形成方法。带电辊包括:导电性轴;弹性体层,形成在所述导电性轴的外周;以及表层,形成在所述弹性体层的外周。所述表层含有粘合剂树脂以及导电性颗粒。所述粘合剂树脂仅包含热塑性树脂。所述热塑性树脂的水...
  • 本发明提供一种打印设备定影温度预控制方法、电子设备及存储介质,属于打印机技术领域。方法包括:实时采集打印设备的打印任务数据和打印设备的定影装置的定影温度,打印任务数据包括历史打印页数和待打印页数。根据历史打印页数和定影温度的关系,获取在多种...
  • 本发明涉及静电荷图像显影用磁性载体。一种静电荷图像显影用磁性载体,其中,磁性核颗粒是在表面上具有有机硅树脂的颗粒;涂覆树脂层是包含作为粘结剂树脂的乙烯基系树脂和二氧化硅颗粒的层;并且当将在温度为30℃且相对湿度为80%的第一环境中保持5小时...
  • 本发明提供了一种用于晶圆检测的光源集光调制系统及其方法,涉及晶圆检测技术领域,包括:沿光传播方向依次放置的光源模块、集光模块、滤光模块和收光端面;所述光源模块,提供检测光;所述集光模块,收集检测光,并将其导入滤光模块;所述滤光模块,对检测光...
  • 本发明公开了一种曝光剂量确定方法、装置、设备及存储介质,应用于光刻技术领域,包括:获取目标关键尺寸,以及光刻胶曝光后形成的曝光图案与刻蚀后的功能层图案之间的线宽漂移容忍极限;获取曝光剂量斜率;曝光剂量斜率为基于不同曝光剂量下对应曝光图案的关...
  • 本发明提供一种套刻标记、光罩组件及检测方法,具体涉及半导体领域。所述套刻标记包括第一标记图案和第二标记图案,其中,第一标记图案包括第一拼接图案和第一面内图案,第一面内图案设置在第一拼接图案的一侧;第二标记图案包括第二拼接图案和第二面内图案,...
  • 本公开的实施例涉及光刻补偿方法、设备和存储介质。在此提出的方法包括:通过对第一晶圆的多个套刻量测结果分别进行密集化处理,得到多个套刻量测结果的相应套刻密集化结果;基于相应套刻密集化结果中各个套刻密集化结果之间的差异,确定与蚀刻工艺有关的第一...
  • 本发明涉及一种专用于软板的防焊光刻设备,包括机架,机架上设置有大理石台面,大理石台面上设置有平台移动装置,平台移动装置上安装有曝光平台,所述大理石台面上设置有第一大理石架和第二大理石架,第一大理石架上设置有用于对曝光平台进行定位的CCD定位...
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