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最新专利技术
  • 半导体结构的多遍次光学测量
    半导体结构的多遍次光学测量_科磊股份有限公司_202480044551.X
    本文中提出用于执行半导体结构的多遍次光学测量的方法及系统。测量光束多于一次地入射在半导体晶片的表面上。在一些实施例中，测量光束在照明源与检测器之间的光学路径中多次入射在半导体晶片上的相同测量位点处。在一些其它实施例中，测量光束在照明源与检测...
    2026-02-13
  • 用于确定光学透明对象的折光力的方法和设备
    用于确定光学透明对象的折光力的方法和设备_伊斯拉视像有限责任公司_202480031554.X
    本发明涉及一种用于确定光学透明对象(2)的折光力的方法和设备及其优选用途。借助于光学测量装置(4)测量对象(2)的测量区域(MB)中在第一偏转方向(AH)和至少一个另外偏转方向(AV)上的折光力，并且设定对象(2)的定向和定位、视点(42、...
    2026-02-13
  • 用于半导体结构的基于模型的测量的灵活测量模型
    用于半导体结构的基于模型的测量的灵活测量模型_科磊股份有限公司_202480043172.9
    本文中呈现用于基于可重用参数模型产生复杂半导体结构的测量模型的方法及系统。在一些实施例中，所述可重用参数模型实现具有复杂形状轮廓的大高宽比(HAR)结构的测量。在这些实施例中，可重用参数模型包含各自通过不同形状轮廓表征的多个几何区段。每一形...
    2026-02-13
  • 基于扫描电子显微镜的样本分析
    基于扫描电子显微镜的样本分析_英飞凌科技股份有限公司_202480046439.X
    提供了一种确定与样本相关联的样本信息的方法。在一个实施例中，当样本具有第一温度时，确定样本的第一电子度量。当样本具有不同于第一温度的第二温度时，确定样本的第二电子度量。基于第一电子度量和第二电子度量确定与样本相关联的样本信息。所述样本信息包...
    2026-02-13
  • 分形态大气汞监测系统及方法
    分形态大气汞监测系统及方法_清华大学_202480042314.X
    一种分形态大气汞监测系统及方法。该系统包括：两个测量通道(CH1、CH2)，用于采集环境大气样品中多种形态的汞；汞分析仪(10)，用于分析多种形态的汞的浓度并生成数据报文；PLC 控制器(20)，获取数据报文，并基于数据报文、预设的时间分辨...
    2026-02-13
  • 聚丙交酯树脂缩颈性能的预测方法
    聚丙交酯树脂缩颈性能的预测方法_株式会社LG化学_202480046693.X
    本发明提供了一种预测或评价由聚丙交酯树脂制造的膜的颈缩性能的方法，该方法简单且预测精度高，因此可以代替实际的测量方法，从而预先确定新结构的膜性能。
    2026-02-13
  • 即时检测设备、模块和即时检测设备的控制方法
    即时检测设备、模块和即时检测设备的控制方法_深圳迈瑞动物医疗科技股份有限公司_202480040370.X
    一种即时检测设备，包括控制模块(10)和至少一个即时检测模块(20)；控制模块(10)包括主控制单元(12)、第一通信接口(13)、第一匹配电路(14)；即时检测模块(20)包括检测组件(22)、第一接口组件(23)、第二接口组件(24)以...
    2026-02-13
  • 自动分析装置
    自动分析装置_株式会社日立高新技术_202480045760.6
    具备：第一送液泵(201)，其向试样用分注探针(207)输送用于清洗试样用分注探针(207)的第一清洗水；第一压力传感器(202)，其设置在连接试样用分注探针(207)和第一送液泵(201)的第一清洗流路(301)中，检测第一清洗流路(30...
    2026-02-13
  • 用于测量差分电流的磁场传感器
    用于测量差分电流的磁场传感器_索克迈克股份有限公司_202480041869.2
    本发明涉及用于测量差分电流的磁场传感器(15)，旨在承受由流经至少两个初级导体的电流感应产生的待测量磁场，所述初级导体的至少一部分根据轴线(Z)延伸，所述电流沿根据所述轴线(Z)的正向方向流经至少一个初级导体(4a)，并沿与正向方向相反的反...
    2026-02-13
  • 电源控制装置及过电流的检测方法
    电源控制装置及过电流的检测方法_阿尔卑斯阿尔派株式会社_202480045447.2
    本发明的电源控制装置(1)具备：电流传感器(2)，其具有利用磁阻效应元件检测被测定电流流过母线时产生的磁的磁传感器(4)，且能够测定被测定电流；以及判断部(7)，其判断母线中是否流过了过电流；其中，判断部(7)测定电流传感器(2)的输出电压...
    2026-02-13
  • 测定装置、安装机
    测定装置、安装机_株式会社富士_202380100241.0
    缩短测定装置的轴线方向上的长度。在本测定装置中，在由一对第一相向面把持着测定对象物的状态下，对测定对象物的电气特性进行测定，并且基于一对第二相向面之间的电流的导通状态而取得一对第一相向面对测定对象物的把持状态。另外，一对第一相向面与一对第二...
    2026-02-13
  • 自动测试设备、测试装置和在联合操作模式下进行个体感测测试的方法以及具有布线的电源连接结构的器件
    自动测试设备、测试装置和在联合操作模式下进行个体感测测试的方法以及具有布线的电源连接结构的器件_爱德万测试公司_202480045502.8
    根据本发明的实施例包括一种用于测试被测器件的自动测试设备，其中该自动测试设备包括多个器件电源，其中这些器件电源被配置为能够在联合操作模式下操作。该自动测试设备被配置为当一组器件电源中的个体器件电源被联合时，提供与该一组器件电源中的个体器件电...
    2026-02-13
  • 光扫描装置、物体检测装置
    光扫描装置、物体检测装置_斯坦雷电气株式会社_202480046676.6
    本发明提供一种能够大幅地变更光扫描时的视场角的光扫描装置以及具备该光扫描装置的物体检测装置。一种光扫描装置，用于通过照射光并接收其反射光来进行物体检测的装置，所述光扫描装置包括：偏转器；至少一个光源；偏振可变元件，其配置成供由所述光源生成的...
    2026-02-13
  • 光源装置和测距系统
    光源装置和测距系统_索尼半导体解决方案公司_202480042939.6
    本公开提供了一种可以精确地检测异常的光源装置。根据本公开的光源装置(1)包括：至少在第一方向上排列的多个发光元件(30)；选择部(MP11~MPjj、MN11~MNii)，其选择所述多个发光元件(30)中的一些作为发光对象；和异常检测部(4...
    2026-02-13
  • 感测节点切换过程
    感测节点切换过程_联想(新加坡)私人有限公司_202380100262.2
    本公开的各个方面涉及一种用于无线通信的网络实体，该网络实体包括至少一个存储器和至少一个处理器，该至少一个处理器与至少一个存储器耦合并且被配置为使得网络实体：从第一实体接收执行感测任务的请求，确定用于执行感测任务的至少一个感测节点的第一集合，...
    2026-02-13
  • 一种控制方法、装置及系统
    一种控制方法、装置及系统_深圳引望智能技术有限公司_202480025719.2
    一种控制方法、装置及系统，该方法中，第一控制装置可以获取第二传感模块的工作参数；根据所述第二传感模块的工作参数，控制第一传感模块，以实现所述第一传感模块与所述第二传感模块的扫描时序配准，其中，所述第二传感模块与所述第一传感模块共用同一接收光...
    2026-02-13
  • LIDAR输出信号中的信号啁啾
    LIDAR输出信号中的信号啁啾_硅光芯片技术公司_202480042263.0
    一种LIDAR系统发射系统输出信号以照射样本区域。其包括第一光信号组合器以将来自系统输出信号的返回到系统的光与来自参考信号的光组合，从而生成以复合拍频拍振的复合信号。其还配置成将第一本地信号与第二本地信号组合，从而生成以本地拍频拍振的本地拍...
    2026-02-13
  • 基于时间相关性生成不同数据流
    基于时间相关性生成不同数据流_艾迪凯有限责任公司贸易用名因迪半导体_202480046336.3
    描述了一种执行多种单独类型的测量的集成电路。这种集成电路可以包括测量电路。另外，集成电路可以包括或可以电耦合到至少一个传感器。在操作期间，集成电路可以在视觉频带中的信息减少或被遮蔽的环境中执行对物体的或与该物体相关联的单独类型的测量。例如，...
    2026-02-13
  • 导航卫星信号接收器中的多径引起的误差影响的抑制
    导航卫星信号接收器中的多径引起的误差影响的抑制_迪尔公司_202380099371.7
    全球导航卫星系统(GNSS)接收器接收对应于所述GNSS中相应卫星的带限复合信号。所述复合信号由直达路径信号和多径信号组成。针对伪随机码的码片边沿跳变，所述接收器获得所述复合信号的相关性样本(I(t)样本和Q(t)样本)，并且将它们与对应于...
    2026-02-13
  • 光控膜及其制备方法
    光控膜及其制备方法_3M创新有限公司_202480046660.5
    一种光控膜包括结构化的第一主表面和与其相对的第二主表面。结构化的第一主表面包括交替的第一刻面和第二刻面。第一刻面中的每个第一刻面与第二主表面形成小于90度的平均第一角度。第二刻面中的每个第二刻面与第二主表面形成大于60度的平均第二角度。刻面...
    2026-02-13
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