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  • 本文提供了提高重组糖基化蛋白中的唾液酸水平的方法、通过这些方法产生的重组糖基化蛋白以及使用这些重组糖基化蛋白治疗有需要的受试者的方法。
  • 本发明的课题在于提供一种在基于细胞培养的生产物的生产方法中,能够防止培养过程中膜的堵塞,并且防止生产率降低的方法。根据本发明,提供一种生产物的制造方法,其包括在培养液中培养细胞的工序,在所述生产物的制造方法中,在将上述培养液中的泊洛沙姆浓度...
  • 本发明提供一种含有选自下述A群中的1种以上的聚合物的单链核酸吸附抑制剂:[A群]聚合物A1:含有源自2‑(甲基)丙烯酰氧基乙基磷酸胆碱的结构单元(a)和源自具有2个以上的羟基作为取代基的(甲基)丙烯酸C2~C6烷基酯的结构单元(b)的共聚物...
  • 本文提供了用于测序的系统、方法和组合物。
  • 描述了用于生成样品的靶标的分布的空间映射图的系统、方法和组合物。一种用于映射靶标的系统可以包括基底;以及与所述基底相关联的功能化特征的分布,其中功能化特征的所述分布的代表性特征包括:偶联至所述代表性特征的一个或多个功能化分子,所述一个或多个...
  • 本公开提供了治疗患有静脉曲张或处于发展为静脉曲张风险中的受试者的方法,鉴定发展为静脉曲张的风险增加的受试者的方法,以及检测压电式机械敏感离子通道组分1(PIEZO1)变体核酸分子和变体多肽的方法。
  • 在用于将重载装入到承载结构(15)中的方法中,至少一个重载在承载结构(15)中向上输送并且紧固,使得重载能够固定在运行位置中。待运送的重载尤其是在至少近乎准备就绪完成的状态中的用于金属提炼的反应器(20)。重载通过运输器具(11)沿着水平方...
  • 一种用于精炼液态金属(L)的设备(10),其包括:容纳所述液态金属(L)的钢包(11),所述钢包(11)设置有敞开的上部(12)和在其底壁(14)上的至少一个多孔塞(13),可拆卸的盖子(19, 23),连接到所述至少一个多孔塞(13)的气...
  • 本发明涉及金属矿石精矿的含水组合物的浓缩方法,特别是通过过滤进行浓缩。浓缩在含水浓缩剂的存在下通过从组合物部分分离水来进行,所述水性浓缩剂包含至少一种通过不饱和羧酸的自由基聚合制备的聚合物。本发明还涉及滤饼,其具有降低的含水量并且是在浓缩金...
  • 本发明涉及一种悬浮熔炼炉,包括反应炉身(5),沉降器(8),第一放出口(15)、第二放出口(17)和用于将熔融材料(31)供给到悬浮熔炼炉的供给装置(30)。
  • 本发明涉及一种镍基合金。更具体地,本发明涉及中熵至高熵镍基合金,所述中熵至高熵镍基合金以重量百分比(重量%)计具有以下组成:Cr 20.0至26.0;Fe小于8.5;Mn小于4.0;Si 0.5至2.0;Al 1.0至4.0;Ti 0.50...
  • 本发明涉及一种铝合金,其包含:0.50‑1.50重量百分比的Fe、0.45‑2.00重量百分比的Ni、0‑0.20重量百分比的Si、0‑0.20重量百分比的Mg、0‑0.20重量百分比的Cu、0‑0.20重量百分比的Mn、0‑0.20重量百...
  • 本发明涉及一种制造制动盘或制动鼓的方法,特别是用于机动车的制动盘或制动鼓,其至少部分由铝合金制成。该铝合金按质量百分比计由以下合金元素组成:硅:8.5%至19.5%;镍:0.7%至3.2%,铜:0.7%至5.2%,镁:0.5%至1.5%,锰...
  • 本发明的目的在于提供通过与现有技术不同的方法得到的耐LME特性优良、高强度并且具有良好的成形性的钢板及其制造方法。一种高强度钢板,其含有特定的成分且为特定的组织,关于Nb,固溶Nb量(Nbsol)、粒径小于20nm的Nb析出物中的Nb量(N...
  • 本发明涉及一种用于预测适合于对光学元件(8)进行涂覆的涂覆机(1)的真空腔室(2)中的真空的质量水平的计算机实施方法。根据本发明,该方法包括以下步骤:‑ 在光学元件的涂覆过程期间获取涂覆机的至少一个技术特征;以及 ‑ 通过载有机器学习模型的...
  • 一种AlCrN基涂层,包括:富铝AlCrN层(40),其所具有的化学元素组成对应于化学式AlxCr1‑xN,其中,x为仅以铝和铬为计算基准时对应于所述富铝AlCrN层中按原子浓度的铝浓度的系数;非富铝AlCrN层(20),其所具有的化学元素...
  • 一种选择性钝化衬底表面的方法,其中衬底表面包括包含氮化硅的至少第一表面和包含氮化硅以外的材料的至少第二表面。该方法包括将表面暴露于至少一种有机卤化物的步骤,其中有机卤化物选择性地与氮化硅反应以钝化第一表面,从而使第二表面基本上未反应。
  • 本发明属于金刚石合成领域及其应用,特别是其在包含纳米晶、微晶、多晶和单晶金刚石薄膜的防护涂层、生物相容性涂层和电子装置领域中的应用。本发明涉及通过分布式微波等离子体合成金刚石的方法,涉及用于实施该方法的反应室,涉及包含根据本发明的方法获得的...
  • 本发明提供了一种微波等离子体增强型化学气相沉积(MPCVD)装置。所述MPCVD装置包含反应室和气体发生器。所述反应室含有基底支架。所述气体发生器向所述反应室提供氢气。所述氢气的纯度高于4N。所述反应室被配置成促进MPCVD工艺,并且所述气...
  • 提供用任选地经掺杂的硅氧化物膜以填充具有中等深宽比且大关键尺寸的半导体衬底特征的低压化学气相沉积方法和装置。用于沉积的前体包括具有至少一个大体积取代基的硅前体和氨基硅烷。该方法可额外包括周期性等离子体处理和/或蚀刻。
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