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最新专利技术
  • 一种大面积气压式纳米压印装置及其压印方法
    一种大面积气压式纳米压印装置及其压印方法_璞璘科技(杭州)有限公司_202511407774.0
    本申请提供了一种大面积气压式纳米压印装置及其压印方法，包括包括：上腔整体、下腔体和连接两个腔体的上下腔体支撑柱，上腔整体设有紫外灯和密封可伸缩外壳，下腔体内设有微型伺服电机、保护外壳、可伸缩保护内壳，可伸缩保护内壳的顶端设有基体放置圆盘，基...
    2026-03-22
  • 一种基于纳米压印单元拼贴的大面积曲面微纳结构减反射表面制备方法
    一种基于纳米压印单元拼贴的大面积曲面微纳结构减反射表面制备方法_长春理工大学_202511538281.0
    本发明属于光学微纳制造技术领域，提供了一种基于纳米压印单元拼贴的大面积曲面微纳结构减反射表面制备方法，包括：机械减薄、单元边长设定、基材切割、基片清洗、压印模板制备、压印基片制备、粘接层喷涂、逐片贴合、压合处理以及紫外线照射；本发明通过将原...
    2026-03-22
  • 纳米压印模块、自由度调节方法及纳米压印机
    纳米压印模块、自由度调节方法及纳米压印机_普雨科技(苏州)有限公司_202511576815.9
    本申请提供了一种纳米压印模块、自由度调节方法及纳米压印机，可以应用于半导体设备技术领域。该纳米压印模块包括：促动器第一端连接件，包含相对的第一上端面和第一下端面，第一下端面上不共线的三个点分别与不同的促动器的第一端连接；三个促动器，每个促动...
    2026-03-22
  • 有机膜形成用苯磺酸盐化合物、有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法
    有机膜形成用苯磺酸盐化合物、有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510780113.6
    本发明涉及有机膜形成用苯磺酸盐化合物、有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法。本发明的课题为提供可形成使用作为多层抗蚀剂用的有机下层膜时涂布缺陷、成膜性、填埋性结果等涂布性优良的膜，且作为光致抗蚀剂材料亦为有用的使用了不属于全氟烷...
    2026-03-22
  • 负型感光性树脂组合物、固化膜及其制造方法、层叠体、半导体元件
    负型感光性树脂组合物、固化膜及其制造方法、层叠体、半导体元件_武汉柔显科技股份有限公司_202511213693.7
    本发明公开了一种负型感光性树脂组合物，该树脂组合物包括含有(甲基)丙烯酸基和脲键重复单元的聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体组成的组中的至少一种。本发明的负型感光性树脂组合物能够在180~250 ℃下实现11~25+微米厚的固化膜的低温固化，避免...
    2026-03-22
  • 一种通过配体交换使量子点与商用光刻胶兼容光刻的方法
    一种通过配体交换使量子点与商用光刻胶兼容光刻的方法_南京理工大学_202511217894.4
    本发明涉及光电材料技术领域，具体公开了一种通过配体交换提升钙钛矿量子点稳定性的方法，实现其与商用光刻胶AZ5214的直接混合及简便高效图案化，克服了兼容性问题。所述方法通过对CsPbBrI2量子点引入新配体正十二硫醇，硫醇配体可以通过形成S...
    2026-03-22
  • TPP弹性体光刻胶及其制备方法和应用
    TPP弹性体光刻胶及其制备方法和应用_甬江实验室_202511323834.0
    本申请属于新材料技术领域，提供了TPP弹性体光刻胶及其制备方法和应用。TPP(双光子聚合)弹性体光刻胶包括聚氨酯丙烯酸酯(PUA)、稀释剂、交联剂和引发剂；PUA的数均分子量为2000～9000；稀释剂为二官能团丙烯酸酯单体；交联剂为三官能...
    2026-03-22
  • 近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法
    近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法_江苏艾森半导体材料股份有限公司_202511392758.9
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法，旨在解决现有宽谱光刻胶的分辨率与对比度较低、图形轮廓控制能力不佳及工艺窗口较窄的问题。其技术方案要点是：包括如下重量比的原料：50‑70份溶剂、20‑40份...
    2026-03-22
  • 一种低固化温度的高灵敏度红色光刻胶组合物
    一种低固化温度的高灵敏度红色光刻胶组合物_深圳清荷科技有限公司_202511483964.0
    本发明提供了一种低固化温度的高灵敏度红色光刻胶组合物，属于光刻胶技术领域。包括以下组分制成：成膜树脂、光活性化合物、红色着色剂、活性稀释剂、光引发剂、纳米级氧化铈‑聚苯胺复合改性剂、附着力促进剂、消泡剂、溶剂；本发明技术方案中各组分间形成的...
    2026-03-22
  • 一种化学放大型正性光刻胶及其制备方法和应用
    一种化学放大型正性光刻胶及其制备方法和应用_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511518163.3
    本申请提供一种化学放大型正性光刻胶及其制备方法和应用，涉及光刻胶技术领域。本申请提供的化学放大型正性光刻胶包括酸解离性(甲基)丙烯酸树脂、碱溶性树脂组成的混合树脂以及含巯基树脂；酸解离性(甲基)丙烯酸树脂的添加使得光刻胶表现出对电镀液出色的...
    2026-03-22
  • 一种显示用光刻胶组合物
    一种显示用光刻胶组合物_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511617446.3
    本申请提供一种显示用光刻胶组合物，涉及光刻胶领域。显示用光刻胶组合物包括：22‑25重量份的黄色颜料液、1‑3重量份的绿色颜料液、5‑8重量份的蓝色颜料液、0.1‑0.3重量份的黑色颜料液、10‑15重量份的碱溶性树脂、4‑8重量份的光聚合...
    2026-03-22
  • 一种用于黑色光刻胶的黑色色浆及其制备方法与应用
    一种用于黑色光刻胶的黑色色浆及其制备方法与应用_山东科莱福光电科技有限公司_202511644925.4
    本发明属于显示材料技术领域，具体涉及一种用于黑色光刻胶的黑色色浆及其制备方法与应用，所述的用于黑色光刻胶的黑色色浆，按重量份数计，包括以下组分：炭黑25份、Cardo树脂或丙烯酸树脂10~24份、分散剂为4~11份、溶剂47~57份和改性磷...
    2026-03-22
  • 量子点光刻胶及其制备方法、显示器
    量子点光刻胶及其制备方法、显示器_深圳市天诺通光电科技有限公司_202511469592.6
    本申请提供一种量子点光刻胶，所述光刻胶包括量子点、光引发剂、光刻胶单体、丙二醇甲醚醋酸酯溶剂、TiO2和粘合剂，量子点表面修饰有配体，配体通过化学键与粘合剂键接，配体包括硫醇配体和羧酸配体，硫醇配体：羧酸配体的配体比为3‑7：1，按重量份计...
    2026-03-22
  • 用于蓝色像素的低介电常数光刻胶树脂单体及其制备方法
    用于蓝色像素的低介电常数光刻胶树脂单体及其制备方法_深圳清荷科技有限公司_202511483435.0
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及用于蓝色像素的低介电常数光刻胶树脂单体及其制备方法，由以下重量份的成分组成：改性树脂基体、感光性单体、光引发剂、有机溶剂、交联剂、表面活性剂、纳米改性添加剂；本发明中的各组分间通过分子结构与性能的互补实现协...
    2026-03-22
  • 含有蒽甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用
    含有蒽甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用_湖南初源新材料股份有限公司_202511694956.0
    本发明提供了含有蒽甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用，该光敏剂的结构主体蒽环在10和/或9位上引入季铵基团取代的亚甲基，平衡阴离子采用的是酸根或卤素；相比于市售的蒽类光敏剂，该光敏剂在保留了光漂白性前提下，通过季铵盐的引入使其兼具优异...
    2026-03-22
  • 一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构
    一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511468823.1
    本发明提供一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构，涉及光刻技术领域。所述高分辨正性光刻胶组合物，包括酚醛树脂、光敏剂共聚物成膜树脂、重氮萘醌类光敏化合物和溶剂；光敏剂共聚物成膜树脂为第一光敏化合物、第二光敏化合物和第三光敏化合物中...
    2026-03-22
  • 图案生成方法、装置、设备、介质及产品
    图案生成方法、装置、设备、介质及产品_北京超弦存储器研究院_202410760609.2
    本申请涉及一种图案生成方法、装置、设备、介质及产品。方法包括：获取输入图案及其对应的输入光强图；采样处理目标图案的图像参数空间分布信息，得到标签信息；根据输入图案、输入光强图、标签信息以及训练好的目标机器学习模型，至少生成初始图案；根据初始...
    2026-03-22
  • 一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法
    一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法_杭州玉之泉精密仪器有限公司_202511235793.X
    本发明公开一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法包括：激光器；分束光路；刻写光路；还包括光束调制模块和振镜扫描模块，光束调制模块位于激光器和分束光路之间，振镜扫描模块位于分束光路和刻写光路之间；光束调制模块包括沿光束传播方向依次设置的...
    2026-03-22
  • 一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法
    一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法_三河建华高科有限责任公司_202511451621.6
    本发明公开了一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法，涉及半导体器件制造领域，包括：工作台，其上设有用于安装掩模版的掩模版安装面、可升降的接版柱以及用于对放置于掩模版安装面上的掩模版进行位置调节的调节机构，接版柱上设有第一真空吸附结构，第...
    2026-03-22
  • 光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法
    光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法_重庆芯联微电子有限公司_202511464772.5
    本发明提供了一种光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法，所述参数选取方法包括获取待OPC版图在建立光学模型时的初始光学参数；基于初始的光刻机最佳成像平面参数，以待OPC版图中的第一类图案作为锚点图案进行光学阈值优化，获得不同成像...
    2026-03-22
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