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最新专利技术
  • 一种高真空密闭空间制备MoS2薄膜的方法
    一种高真空密闭空间制备MoS2薄膜的方法_兰州大学_202511153821.3
    本发明涉及二维半导体材料合成技术领域，具体涉及一种高真空密闭空间制备MoS2薄膜的方法。首先将作为MoS2薄膜前驱体的固态硫源、钼前驱体和卤素盐的混合物以及生长衬底置于密封真空容器的两端；其次，在双温区管式炉内，将真空容器中的混合物和生长衬...
    2026-02-21
  • 一种MOCVD设备维护后反应腔内生长环境恢复及验证方法
    一种MOCVD设备维护后反应腔内生长环境恢复及验证方法_山东华光光电子股份有限公司_202511162808.4
    本发明涉及一种MOCVD设备维护后反应腔内生长环境恢复及验证方法。该发明包括：通入氢气至MOCVD设备反应腔，分别进行低温、中温和高温烘烤，然后将三甲基铝和特种气体通入设备反应腔中，使得水氧分子和三甲基铝发生反应。再通入三甲基铝、三甲基镓和...
    2026-02-21
  • 一种用于微纳米颗粒连续原子层沉积的方法及装置
    一种用于微纳米颗粒连续原子层沉积的方法及装置_智覆纳米科技(泉州)有限公司_202511245772.6
    本发明涉及原子层沉积技术领域，尤其涉及一种用于微纳米颗粒连续原子层沉积装置，包括按特定模式布置的原子层沉积粉体腔，依次为第一粉体腔、吹扫区粉体腔、第二粉体腔，实现清洗和反应的空间隔离；所述原子层沉积粉体腔包括连通吹扫区粉体腔的加料斗、进气孔...
    2026-02-21
  • 半导体工艺腔室、器件加工方法及计算机可读存储介质
    半导体工艺腔室、器件加工方法及计算机可读存储介质_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511452524.9
    本发明提供了一种工艺腔室及一种半导体器件的加工方法。该工艺腔室包括，第一RPS入口、第二RPS入口、加热盘和升降机构。该第一RPS入口位于工艺腔室的顶部，至少用于提供第一清洁气体。该第二RPS入口位于工艺腔室的侧壁，至少用于提供第二清洁气体...
    2026-02-21
  • 应用于化学气相沉积的工装结构及其原位自清洁方法
    应用于化学气相沉积的工装结构及其原位自清洁方法_中国航发北京航空材料研究院_202511620911.9
    本发明涉及一种应用于化学气相沉积的工装结构及其原位自清洁方法，属于高温沉积装备技术领域，解决了现有清除工装表面有害涂层的方法效率低、易损伤工装、引入污染物、成本高的问题。所述方法包括：采用表面具有微结构的工装对基底进行固定，进行化学气相沉积...
    2026-02-21
  • 一种硫化锂制备用的气相沉积炉及生产系统
    一种硫化锂制备用的气相沉积炉及生产系统_四川省达科特能源科技股份有限公司_202511624642.3
    本发明公开一种硫化锂制备用的气相沉积炉及生产系统，涉及到气相沉积炉领域，其包括气相沉积炉，所述气相沉积炉上转动安装有炉盖，并且所述气相沉积炉内活动安装有基座，所述基座上安装有放置台，所述气相沉积炉的一侧连接有吸尘器；还包括转移封闭装置和随动...
    2026-02-21
  • 气体供应装置、薄膜生长设备及薄膜生长方法
    气体供应装置、薄膜生长设备及薄膜生长方法_中微半导体设备(广州)有限公司_202410705806.4
    本发明公开了一种气体供应装置、薄膜生长设备及薄膜生长方法。气体供应装置包括：远程等离子体源，用于将反应气体至少部分地解离为等离子体；磁偏转筛选器，其与所述远程等离子体源的出口连通，用于对所述等离子体进行筛选，输出选定元素的带电粒子。通过气体...
    2026-02-21
  • 一种甲基碘化胺薄膜的制备方法和MAPbI3钙钛矿薄膜的制备方法
    一种甲基碘化胺薄膜的制备方法和MAPbI3钙钛矿薄膜的制备方法_正泰新能科技股份有限公司_202410735174.6
    本发明公开了一种甲基碘化胺薄膜的制备方法和MAPbI3钙钛矿薄膜的制备方法，属于电池技术领域。所述甲基碘化胺薄膜的制备方法，包括以下步骤：依次将甲胺和氢碘酸进行原子层沉积并重复得到甲基碘化胺薄膜。所述制备方法首次通过原子层沉积(ALD)方法...
    2026-02-21
  • 一种喷淋盘冷却结构及半导体设备
    一种喷淋盘冷却结构及半导体设备_拓荆科技(上海)有限公司_202511233248.7
    本发明公开了一种喷淋盘冷却结构及半导体设备，喷淋盘冷却结构包括喷淋盘主体、连接件和接触面积调节组件，接触面积调节组件与连接件连接，用于通过调节与连接件的接触面积来动态调节喷淋盘主体的冷却效率。本发明通过引入接触面积调节组件，提供了一种动态调...
    2026-02-21
  • 一种喷淋板及薄膜沉积设备
    一种喷淋板及薄膜沉积设备_拓荆科技股份有限公司_202511250517.0
    本发明提供了一种喷淋板及一种薄膜沉积设备。所述喷淋板包括：喷淋板本体，由透明的耐高温材料制成，并包括中空的第一混气腔，其中，所述第一混气腔的下表面设有多个喷淋孔；以及热辐射光源，环绕所述喷淋板本体，并透过所述喷淋板本体向所述第一混气腔提供热...
    2026-02-21
  • 镀膜设备
    镀膜设备_拉普拉斯新能源科技股份有限公司_202511431128.8
    本申请涉及光伏和半导体技术领域，尤其涉及一种镀膜设备，包括：反应腔体，具有反应腔室，反应腔室内设置有多个气氛区，多个气氛区绕所反应腔室的中心间隔布置；盖体，设置于反应腔体上方，用于闭合反应腔体以形成反应腔室，盖体设有多个进气孔；硅片载板，可...
    2026-02-21
  • 制备低介电常数薄膜的方法和半导体结构
    制备低介电常数薄膜的方法和半导体结构_研微(江苏)半导体科技有限公司_202511643047.4
    本申请提供了一种制备低介电常数薄膜的方法和半导体结构。该方法包括：在等离子体环境下向基板表面提供混合物，混合物包括烷基硅氧烷前驱体和致孔剂，混合物用于在基板表面生成薄膜，混合物具有第一供应参数；向基板表面提供含氧气体，含氧气体具有第二供应参...
    2026-02-21
  • 一种薄膜沉积设备及和一种调机方法
    一种薄膜沉积设备及和一种调机方法_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511288079.7
    本发明公开了一种薄膜沉积设备和调机方法。该薄膜沉积设备包括设于反应腔内的上电极和下电极，用于生成等离子体。所述薄膜沉积设备还包括：侧电极，设于所述反应腔内的晶圆的侧上方，且与所述上电极绝缘隔离，用于向所述晶圆上表面的边缘位置提供第一射频电压...
    2026-02-21
  • 用于CVD化学气相沉积设备的温度控制方法及系统
    用于CVD化学气相沉积设备的温度控制方法及系统_厦门宇电自动化科技有限公司_202511642922.7
    本发明提供用于CVD化学气相沉积设备的温度控制方法及系统，涉及温度控制技术领域，该方法在完成薄膜沉积后，采集并分析基底与薄膜的热动力学特征，确定并优化初始降温约束条件；其次，生成自适应的降温过渡曲线，指导CVD设备实现精准温度控制，并实时监...
    2026-02-21
  • 用于MOCVD设备的智能温度控制方法及系统
    用于MOCVD设备的智能温度控制方法及系统_厦门宇电自动化科技有限公司_202511642925.0
    本发明公开了用于MOCVD设备的智能温度控制方法及系统，属于温度控制技术领域，包括：获取MOCVD设备的反应室壁温辐射干扰判定指数，进行反应室壁温辐射干扰分析，判定反应室内壁辐射的慢耦合增热存在性，在存在反应室内壁辐射的慢耦合增热时，基于边...
    2026-02-21
  • 基于化学镀覆的金属表面聚瓷涂层一体化方法
    基于化学镀覆的金属表面聚瓷涂层一体化方法_深圳市深赛尔股份有限公司_202511631036.4
    本发明公开了基于化学镀覆的金属表面聚瓷涂层一体化方法，涉及化学镀覆技术领域；包括以下步骤：对金属基材依次进行碱性除油、针对性除锈处理；采用脉冲式氩气－氧气等离子体处理，其中气体体积比为3 : 1，脉冲频率为80kHz，占空比为40%，功率为...
    2026-02-21
  • 一种锌镍合金钝化液及其制备方法
    一种锌镍合金钝化液及其制备方法_太仓鑫天健环保科技有限公司_202511329159.2
    本发明公开了一种锌镍合金钝化液及其制备方法，包括如下步骤：将KCr(SO4)2和草酸在第一温度的去离子水中搅拌溶解，降温至第二温度后，加入Co(NO3)2搅拌溶解，得到A剂；将丙氨酸溶解于去离子水中，在搅拌条件下加入HNO3，然后加入NaN...
    2026-02-21
  • 一种镀锌钢材钝化液及其制备方法和应用
    一种镀锌钢材钝化液及其制备方法和应用_河北工程大学_202511215975.0
    本发明提供了一种镀锌钢材钝化液及其制备方法和应用，属于镀锌表面处理技术领域。镀锌钢材钝化液包括以下质量分数的组分：水性丙烯酸树脂35～50％、新癸酸10～15％、蜡乳液3～8％、助溶剂5～10％、表面活性剂0.5～2％、pH调节剂1～3％、...
    2026-02-21
  • 一种具备膜层自修复功能锈转化剂及其制备方法
    一种具备膜层自修复功能锈转化剂及其制备方法_北新嘉宝莉涂料集团股份有限公司_202511283897.8
    本发明的具备膜层自修复功能锈转化剂是由自组装微胶囊颗粒、磷酸、乙酸、乳液、水以及各助剂复配后纯化所得，所述自组装微胶囊颗粒由两亲性嵌段共聚物负载缓蚀剂，进行胶束自组装后，再经过交联固化得到，可以响应机械损伤或pH变化释放修复剂，从而延长产品...
    2026-02-21
  • 一种盾构滚刀涂层激光-超声复合强化机构及其连续成形方法
    一种盾构滚刀涂层激光-超声复合强化机构及其连续成形方法_深地科学与工程云龙湖实验室_202511248639.6
    本发明公开了一种盾构滚刀涂层激光‑超声复合强化机构及其连续成形方法，该复合强化机构包括盾构滚刀、微钉锤单元、浆料涂敷单元、预热固定单元、线激光烧结单元和超声滚压单元；该方法通过盾构滚刀的旋转，将其表面依次进行微钉锤、浆料涂敷、预热固定、激光...
    2026-02-21
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