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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种球阀座加工生产用设备,包括底座,所述底座上端面的后侧固定有风干箱,所述风干箱的底部固定有旋转驱动机构,所述风干箱的两侧对称固定有通风通道,所述旋转驱动机构贯穿通风通道的底部并与扇叶相连接,所述底座上端面的另一侧固定有镀锌箱。...
  • 一种固形物,其特征在于,该固形物具有含有氧化硅的层、和在含有该氧化硅的层上的聚合物刷,该聚合物刷构成该固形物的表面,该聚合物刷具有碳数为14以上65以下的烷基的链段,并且具有该烷基的链段通过氧原子与该氧化硅结合。
  • 本发明公开了一种金属清洗剂及其制备方法和应用,属于清洗剂技术领域。本发明采用无机盐类和乙氧基丙氧基化‑C8‑10‑脂肪醇的非离子表面活性剂共同增强金属清洗剂的清洗效果和低泡效果,在较短的时间内将铁件表面的油污清洗干净,产生的泡沫较少且极快消...
  • 本发明涉及一种针对薄金焊接不良的补救工艺及处理药剂。本发明提供了一种组合物,包含以下重量份数的组分:还原剂3~5份;助焊润湿剂6~10份;清洗剂3~10份;水30~120份。该组合物形成的处理药剂用于薄金镀层焊锡组装不良品进行补救,与现有技...
  • 本发明公开了一种WO3‑ZnTCPP复合光电极材料及其制备方法和应用,制备方法包括如下步骤:将WC16粉末加到无水乙醇中,搅拌成澄清的黄色溶液,然后将黄色溶液转移到放有刻蚀钛片的反应釜中,反应20...
  • 本发明公开了一种合金钢的表面强化方法及应用。所述表面强化方法包括:对合金钢进行调质处理;对调质处理所获合金钢进行等离子体氧氮化处理,在合金钢的表面形成有效硬化层及氧氮化物层,从而实现合金钢的表面强化;其中,所述等离子体氧氮化处理包括:将调质...
  • 本发明涉及一种营养组合物的用途,更具体地涉及营养组合物用于促进肠道发育、改善肠道分泌和/或营养吸收的非治疗目的的用途。所述营养组合物包括中长链脂肪酸甘油三酯和母乳低聚糖,并且所述中长链脂肪酸甘油三酯对所述母乳低聚糖的重量比为0.1:1至10...
  • 本公开涉及通过循环沉积过程在衬底上沉积含元素金属或半金属的材料的方法,涉及含元素金属或半金属的层,涉及半导体结构和器件,以及涉及用于在衬底上沉积含元素金属或半金属的材料的沉积组件。根据本公开的方法包括在反应室中提供衬底,以气相向反应室提供金...
  • 提供了一种由生奶(RM)生产酸奶乳(YM)的方法(200)。该方法(200)包括将生奶(RM)分离(201)成脱脂奶(SM)和奶油(C),提供(203)包含至少80%固体的食品粉末(FP),混合(205)脱脂奶(SM)和食品粉末(FP)以形...
  • 本实用新型公开了一种用于不锈钢控制环液体氮化的装卸夹具,包括:底座;安装块,设于所述底座上;夹持机构,与所述安装块连接;所述夹持机构包括:底板,与所述安装块连接;转板,与所述底板连接;气缸,与所述安装块连接,与所述转板连接;固定块,设于所述...
  • 本实用新型涉及环形工件沉积的领域,具体是一种环形工件气相沉积用工装,包括沉积设备,还包括安装架和支撑杆,安装架包括安装杆和两个悬臂杆,安装杆安装在沉积设备内,两个悬臂杆沿沉积设备的深度方向安装在安装杆两端;悬臂杆上开设有安装孔,安装孔的数量...
  • 本发明公开一种薄膜沉积样品台及薄膜沉积腔室,涉及半导体工艺设备领域,以解决样品台上的样品在腔室内温度变化较慢、工艺时间长的问题。薄膜沉积样品台包括:用于承托放置样品的承托盘;制冷管设于承托盘内部,用于冷却承托盘;导热板设于承托盘底部;加热部...
  • 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备的靶材冷却背板,包括冷却背板本体,冷却背板本体的顶部固定连接有靶板本体,冷却背板本体的顶部设置有锁定组件,锁定组件用于锁定靶板本体,冷却背板本体的内部开设有冷却槽。本实用新型通过锁定组件将靶板本体牢固地锁...
  • 本发明涉及激光熔覆技术领域,具体涉及激光熔覆送粉器粉末均匀性调控装置,包括连接激光头的安装套,所述安装套上至少设置一组侧板;还包括送粉机构和振动驱动单元,所述送粉机构包括固定管及对称滑动连接在其两端的两组活动管,所述固定管通过转轴转动连接于...
  • 本发明涉及一种可调节长度的熔覆激光头结构,包括激光处理部、激光熔覆部及连接在激光处理部与激光熔覆部之间的连接杆组件,激光处理部包括光纤接头,连接杆组件包括至少两个可拆连接的连接杆,连接杆是中空杆,中空杆中心具有光通道;激光熔覆部,包括出光嘴...
  • 本发明公开一种蒸发源装置、真空蒸镀机和真空蒸镀方法,属于真空镀膜技术领域。其中,蒸发源装置包括旋转台和蒸发源单元,所述蒸发源单元设有多个并圆周设在所述旋转台上,所述蒸发源单元包括用于收容坩埚的壳体;所述蒸发源装置还包括遮挡件;所述遮挡件与所...
  • 本发明提出的气流调节结构,包括:环绕基板设置的第一调节环和环绕第一调节环设置的第二调节环,所述第一调节环的外圆与所述第二调节环的内圆重合,所述第一调节环和第二调节环的内圆和外圆均为偏心设置,且所述第一调节环和第二调节环的内圆圆心和外圆圆心之...
  • 本发明涉及一种磁场辅助阴极引弧装置及镀膜方法,装置包括引弧电极,包括有环形内侧面;引弧针,设置有若干个,若干引弧针均设置在所述引弧电极环形内侧面上;阴极靶,所述阴极靶包括圆台段,所述阴极靶设置在所述引弧电极内侧,且与所述引弧电极间隔设置,所...
  • 本实用新型涉及真空镀膜磁控溅射非平衡式平面阴极的技术领域,尤其是涉及一种磁场发生装置及非平衡式平面阴极。本实用新型提供的磁场发生装置包括:磁靴底板、隔块、第一磁极、第二磁极和调磁组件;隔块、第一磁极和第二磁极均设置于磁靴底板上,隔块位于第一...
  • 本实用新型涉及镀膜机技术领域,具体为一种振膜磁控溅射镀膜机,包括机体,所述机体的内侧安装有基板与加热板,且所述机体的外表面一侧开设有气窗与排气口,所述排气口的外表面一侧安装有真空泵,所述机体的内侧两端分别安装有电机与固定板,所述电机的输出端...
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