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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明提供能够使具有优异的图案尺寸的蒸镀膜成膜的蒸镀掩模以及使用了该蒸镀掩模的电子器件的制造方法。本发明的蒸镀掩模是具备半导体基板的蒸镀掩模,该半导体基板具有第1面和与所述第1面相反一侧的第2面、并且形成有贯通所述第1面与所述第2面之间的多...
  • 本实用新型涉及一种等离子喷涂用行星齿轮夹具,其特征在于,用于待喷涂的工件的装夹,所述行星齿轮夹具包括:第一固定支撑轴;能绕所述第一固定支撑轴转动的转盘,其表面等间距安装有若干第二固定支撑轴,所有第二固定支撑轴围成一个以所述第一固定支撑轴为中...
  • 本发明公开了一种高平整度化学锡镀液及其制备方法,所述化学锡镀液每升包括以下的组分,10~40g亚锡盐、40~70g络合剂、20~40g还原剂、2~10g光亮剂、1~3g表面活性剂、2~5g平整剂,余料为水和pH调节剂;所述平整剂包括柠檬醛和...
  • 本发明涉及一种用于电站锅炉深度调峰的稳燃系统,包括四角切圆锅炉(1),其特征在于,所述的四角切圆锅炉(1)包括上风室(1.1)和下风室(1.2),所述的上风室(1.1)内设有主煤粉燃烧器(1.3),所述主煤粉燃烧器(1.3)连接至炉前粉管,...
  • 本实用新型涉及沉没辊技术领域,尤其为一种具有急停功能的沉没辊,包括安装架,安装架的内侧转动连接有沉没辊,沉没辊内侧的顶部滑动连接有急停组件,急停组件的外侧设有防溅组件,急停组件包括施压板,施压板的顶端固定连接有导向杆,导向杆底端的两侧均固定...
  • 本实用新型公开了一种高效铣削用铣刀,涉及铣刀设备领域,包括刀柄、防护组件,所述刀柄的一端具有刀头,所述防护组件活动设置在刀柄上;所述防护组件包括旋转件、防护罩,所述旋转件的一端为圆盘形结构,且与刀柄的外壁转动连接,另一端为长方体块状结构,与...
  • 本发明提供一种PET铜箔制作用靶材溅射角度控制装置,用于解决现有技术中靶材利用率低、覆膜均匀性差、靶材寿命短且更换繁琐、工艺适应性有限以及生产效率受限的问题。为此,本发明提供一种PET铜箔制作用靶材溅射角度控制装置,包括:密封工作舱、放卷端...
  • 本发明涉及电子元器件镀膜技术领域,公开了一种电子元器件镀膜用冷喷设备,包括底座,底座顶端固定连接有保护罩,底座内腔底端中部固定连接有固定台,固定台顶端中部开设有方形槽,固定台均贯穿转动连接有驱动轴,驱动轴相对面均固定连接有偏心圆盘,偏心圆盘...
  • 本实用新型涉及冷却技术领域,具体为一种高效真空镀膜机用冷却机构,包括外壳、镀膜仓、水冷装置和风冷装置,所述外壳的内部安装有所述镀膜仓,所述镀膜仓的外壁安装有所述水冷装置,所述水冷装置包括冷却管、保温壳、冷却箱、进液管、出液管、循环泵和防护盖...
  • 本实用新型涉及一种新型蒸发源,包括:固定组件,所述固定组件用于支撑和固定所述蒸发源;降温组件,所述降温组件用于对所述蒸发源中的坩埚进行降温,所述降温组件包括液冷组件和安装座,所述液冷组件安装在所述固定组件上,所述液冷组件用于将冷却液输送至所...
  • 本实用新型公开了一种用于预置式激光熔覆的气体保护装置,本装置的法兰板和保护气喷嘴分别设于保护气筒体顶端和底端,保护气筒体顶端侧壁开有保护气输入孔,保护气筒体外壁自上向下设有螺旋形半圆凹槽,冷却管道呈螺旋形嵌设于螺旋形半圆凹槽,冷却管道两端分...
  • 本发明提供了一种点源坩埚取放装置,该取放装置与蒸发源装置上的壳体连接,取放装置包括有顶盖,顶盖的底部连接有内导向管,内导线管的长度延伸到蒸发源装置的内挡板处,使侧部上加热丝与坩埚本体被内导向管隔绝开,顶盖开设有使坩埚本体进出腔室的取放孔,内...
  • 本实用新型提供了一种磁控溅射载板、磁控溅射设备,涉及光伏技术领域,以解决现有磁控溅射载板难以在硅片形成面积小的镀膜的技术问题。该磁控溅射载板,用于光伏电池片的镀膜,载板包括基板和至少一个遮板,遮板上具有至少一个第一镂空结构;遮板的位于第一镂...
  • 本申请公开了一种化学气相沉积装置。本申请的化学气相沉积装置包括高温炉、样品管、真空法兰、引线电极法兰、电极和电极支架;高温炉具有容纳样品管的型腔;样品管具有容纳样品的空腔,样品管两端分别由真空法兰和引线电极法兰封闭;引线电极法兰外侧面具有连...
  • 一种工业镀膜技术领域的高产能薄膜沉积装置及薄膜批量化生产方法,包括:至少一个具有沉积源的沉积腔,其内设有沉积源;原始带卷盘腔,其内设有与走带系统相连的原始基带盘,且通过第一基带真空锁与沉积腔相连;以及产品带卷盘腔,其内设有与走带系统相连的产...
  • 本发明涉及一种涂覆的切削工具(1),包含:硬质合金的基体(5)、和涂层(6),其中所述硬质合金包含WC晶粒和η相晶粒以及金属粘结剂,其中所述金属粘结剂包含Co和Cr,所述硬质合金中Co含量为6‑14 wt%,所述硬质合金中所述η相含量为 1...
  • 本发明涉及一种基于磁控溅射技术的自支撑镍基析氧电极的制备方法,包括选择镍基多孔传输层作为基材,利用磁控溅射技术与腐蚀工艺,提升基材表面的粗糙度。本发明制备的自支撑镍基析氧电极,显著增强了催化层的活性面积与附着力;应用在阴离子交换膜电解槽中,...
  • 本实用新型属于半导体镀膜设备技术领域,尤其涉及一种新型磁控溅射靶材厚度检测设备,包括主腔室,主腔室内有背板、左挡板和右挡板,通过在溅射设备工艺腔中设置轨道传动件、导轨和红外测距传感器,轨道传动件驱动导轨移动,红外测距传感器沿着跟着导轨移动进...
  • 本发明公开了一种用于提升金刚石铜复合材料导热率的表面改性方法及其应用。金刚石铜制作结合MIM与热锻工艺,显着提升复合材料综合性能。在导热方面,通过PVD或CVD改性,金刚石与铜基体的界面结合力增强,界面热阻降低,并在锻造作用下使材料密度达9...
  • 本发明涉及一种高阻膜及其制备方法和触控显示面板。高阻膜的制备方法包括以下步骤:于真空条件下,向基板的表面提供工作气体,并施加磁场;施加电场使所述工作气体离化,利用所得离子轰击FTO靶材,使所述FTO靶材溅射出来的粒子沉积于所述基板的表面,制...
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