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五金工具产品及配附件制造技术
  • 超导材料镀膜区动态控温装置和控温方法
    超导材料镀膜区动态控温装置和控温方法_上海超导科技股份有限公司_202510818019.5
    本发明提供了一种超导材料镀膜区动态控温装置和控温方法，包括设置于镀膜区前侧的第一面激光；所述第一面激光用于通过直接照射方式加热进入镀膜区之前的超导带材，使所述超导带材到达第一预设温度。能够实现对动态高速运动超导带材的超快加热，能够实施高精细...
    2025-08-14
  • 一种环保型铜合金接触网零部件的防腐涂层制备方法
    一种环保型铜合金接触网零部件的防腐涂层制备方法_中铁第四勘察设计院集团有限公司_202510634141.7
    本发明属于防腐涂层技术领域，本发明公开了一种环保型铜合金接触网零部件的防腐涂层制备方法，具体流程包括：1)预腐蚀处理、2)一次铬酸盐钝化处理、3)二次铬酸盐钝化处理。其中各处理液中各组分及其所占质量百分比包括：1)预腐蚀处理液：冰醋酸0～5...
    2025-08-14
  • 一种用于气相沉积的匀流结构及镀膜设备
    一种用于气相沉积的匀流结构及镀膜设备_成都中科卓尔智能科技集团有限公司_202422403976.5
    本实用新型涉及一种用于气相沉积的匀流结构及镀膜设备，包括进气接头和进气管道，所述进气管道连接进气接头，所述进气接头包括顶盖、第一匀流板和第二匀流板，第一匀流板设置在顶盖和第二匀流板之间，顶盖的内壁设置有径向发散状的导流腔，进气管道与导流腔相...
    2025-08-14
  • 一种供气系统、薄膜沉积设备及其控制方法
    一种供气系统、薄膜沉积设备及其控制方法_拓荆科技(上海)有限公司_202510766664.7
    本发明提供了一种供气系统、薄膜沉积设备及其控制方法。所述供气系统包括：第一填充罐，其内部空间经由第一平衡阀片划分为第一区域及第二区域，其中，所述第一区域连接第一气源，所述第二区域的输入端连接第二气源，而其输出端连接工艺腔室；所述第一平衡阀片...
    2025-08-14
  • 一种薄膜设备加热基座的背部控温装置及控温方法
    一种薄膜设备加热基座的背部控温装置及控温方法_杭州星原驰半导体有限公司_202510696419.3
    本发明公开了一种薄膜设备加热基座的背部控温装置及控温方法，包括上腔、下腔、加热基座和背部控温装置，加热基座安装在下腔内，上腔连接在下腔上，上腔与下腔之间设置有抽气环，抽气环外接有真空泵，上腔上设置有喷淋盘，喷淋盘位于加热基座的正上方，上腔内...
    2025-08-14
  • 用于原子层沉积金属硫化物的反应残余物循环再利用方法及装置
    用于原子层沉积金属硫化物的反应残余物循环再利用方法及装置_南京工程学院_202310001770.7
    本发明实施例公开了一种用于原子层沉积金属硫化物的反应残余物循环再利用方法及装置，涉及微纳米制造技术领域，解决了原子层沉积金属硫化物过程中，有害反应残余物的循环再利用问题。本发明包括气动阀V3、冷凝吸收装置、溶解吸收装置Ⅰ、干燥装置Ⅰ、真空泵...
    2025-08-14
  • 一种长寿命双陶瓷层热障涂层及其制备方法
    一种长寿命双陶瓷层热障涂层及其制备方法_上海电机学院_202510607308.0
    本发明公开了一种长寿命双陶瓷层热障涂层及其制备方法，属于热障涂层技术领域。制备方法包括：先对基体进行预处理，再采用大气等离子喷涂工艺在处理后的基体上制备粘结层；采用大气等离子喷涂工艺在粘结层上制备中间陶瓷层；采用大气等离子喷涂工艺在中间陶瓷...
    2025-08-14
  • 一种电机铁芯用硅钢-非晶复合材料及其制备和应用
    一种电机铁芯用硅钢-非晶复合材料及其制备和应用_中车工业研究院有限公司_202211518044.4
    本发明涉及电机磁路零部件技术领域，提供一种电机铁芯用硅钢‑非晶复合材料及其制备和应用，包括：采用Fe70～90Si5～12B8～15系列靶材在预处理后的硅钢片表面进行磁控溅射...
    2025-08-14
  • 一种多弧磁控镀膜机的保护装置
    一种多弧磁控镀膜机的保护装置_温州驰诚真空机械有限公司_202321954453.9
    本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种多弧磁控镀膜机的保护装置，用于阻隔镀膜筒体和镀膜筒盖内部的元器件，包括挡板和滑动组件，所述滑动组件包括第一导轨，所述第一导轨设置在镀膜筒体顶部的内缘，所述挡板上设有连接件，所述连接件远离挡板的一...
    2025-08-14
  • 稀土掺杂的MX2异质结及其制备方法
    稀土掺杂的MX<Sub>2</Sub>异质结及其制备方法_天津理工大学_202510658787.9
    本发明公开了一种稀土掺杂的MX2异质结及其制备方法，对硅片基底进行清洗，用两种M金属的含氧酸盐、三价稀土氯化物和去离子水配制获得混合溶液并进行超声分散；称取胆酸钠加入到超声完成的混合溶液中，搅拌获得前驱体溶液，吸取前驱...
    2025-08-14
  • 一种靶材旋转与磁场耦合的电弧离子镀装置
    一种靶材旋转与磁场耦合的电弧离子镀装置_苏州工业职业技术学院_202510430491.1
    本公开提供了一种靶材旋转与磁场耦合的电弧离子镀装置，通过靶材高速旋转与静态永磁体的磁场动态耦合设计，配合磁流体多级密封和双循环水冷系统，系统性解决了传统电弧离子镀工艺中的大颗粒污染、靶材利用率低及高温工况稳定性差等核心难题。结合内外独立水冷...
    2025-08-14
  • 一种石英晶片镀膜用夹取装置
    一种石英晶片镀膜用夹取装置_湖南科鑫泰电子有限公司_202422476590.7
    本实用新型属于石英晶片加工设备技术领域，具体的说是一种石英晶片镀膜用夹取装置，包括固定箱；所述固定箱顶部固定安装有安装件，所述固定箱内垂直设置有丝杆，所述丝杆下方水平设置有限位杆，所述限位杆两端均滑动安装有滑块，所述固定箱底部两侧均开设有滑...
    2025-08-14
  • 一种溅射镀膜机的修正板及修正系统
    一种溅射镀膜机的修正板及修正系统_湖南普照信息材料有限公司_202510869431.X
    本发明涉及一种溅射镀膜机的修正板及修正系统，包括修正板、镀膜均匀性检测装置和处理器。修正板的中心沿长度方向具有一原子通过口，原子通过口的宽度沿修正板长度方向呈现两边宽，中间窄的特点。修正板包括若干个活动挡条，活动挡条可向内伸入原子通过口中以...
    2025-08-14
  • 一种挡板机构及真空处理室
    一种挡板机构及真空处理室_光驰科技(上海)有限公司_202410174460.X
    本发明涉及真空处理技术领域，具体公开了一种挡板机构及真空处理室。挡板机构包括支撑部、驱动部和遮挡部，真空处理源与基板沿第三方向间隔设置，挡板机构设于真空处理源与基板之间；当遮挡部处于遮挡状态时，在第三方向上，遮挡部与基板之间的距离小于真空处...
    2025-08-14
  • 一种沉积镀膜系统
    一种沉积镀膜系统_杭州思密得科技有限公司_202422795452.5
    本实用新型属于沉积镀膜设备技术领域，涉及一种沉积镀膜系统，包括壳体以及设置壳体内的蒸气发生装置、喷头腔、喷嘴腔和蒸气输送管路，在喷头腔与喷嘴腔之间设置喷头孔相互连通，在喷嘴腔上设置喷嘴孔，基片的待沉积区域位于喷嘴孔外所在的镀膜区域内。在喷头...
    2025-08-14
  • 一种玻璃杯自动化真空镀膜设备
    一种玻璃杯自动化真空镀膜设备_江苏那美实业有限公司_202422529162.6
    本申请公开了一种玻璃杯自动化真空镀膜设备，属于真空镀膜领域，包括壳体，所述壳体的表面铰链连接有密封门，所述壳体与密封门的连接处设有锁紧机构，所述壳体远离密封门的一侧固定连接有离子源，所述密封门的表面固定连接有真空管，所述壳体的顶部设有转动机...
    2025-08-14
  • 一种应用于等离子化学气象沉积炉中的热场部件
    一种应用于等离子化学气象沉积炉中的热场部件_广东福雪莱电气有限公司_202422513819.X
    本实用新型公开了一种应用于等离子化学气象沉积炉中的热场部件，包括外壳体和加热室，所述加热室环形分布于外壳体内形成炉胆，所述外壳体与加热室之间还设有恒温保护层，所述加热室上设有发热单元并嵌入于加热室中；本实用新型结构简单，使用方便快捷，通过在...
    2025-08-14
  • 一种激光器放电腔内表面镀层及其制备方法
    一种激光器放电腔内表面镀层及其制备方法_陕西澳威激光科技有限公司_202510963915.0
    本发明提供一种激光器放电腔内表面镀层及其制备方法，属于镀覆技术领域，包括以下步骤：步骤S1、采用NiCrAlHf合金靶材对预处理放电腔基材进行高功率脉冲磁控溅射沉积镀覆，得到底层镀覆后的放电腔基材；步骤S2、向底层镀覆后的放电腔基材表面喷涂...
    2025-08-14
  • 一种新型传片装置位置矫正方法及新型传片装置
    一种新型传片装置位置矫正方法及新型传片装置_青岛思锐智能科技股份有限公司_202510580049.7
    本申请提供一种新型传片装置位置矫正方法及新型传片装置，属于一般的控制或调节系统领域，方法包括在机械臂中设置两个孔洞，在机械臂向真空腔室移动的过程中利用传感器检测孔洞位置，并基于两孔洞之间的距离及对应的电机脉冲数量，得到机械臂实际的平均脉冲距...
    2025-08-14
  • 一种MOCVD设备的喷淋装置
    一种MOCVD设备的喷淋装置_立潮半导体科技(江苏无锡)有限公司_202421719327.X
    本实用新型公开了一种MOCVD设备的喷淋装置，包括反应腔室和喷淋装置，所述喷淋装置包括喷淋装置本体，所述喷淋装置本体安装于反应腔室内，所述喷淋装置本体的内侧壁上一体成型有分隔板，所述分隔板将喷淋装置本体分隔为第一均流腔室和第二均流腔室，所述...
    2025-08-14
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