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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种控片沉积工装
    一种控片沉积工装_河南锐瓷科技有限公司_202421296549.5
    本实用新型涉及涂层沉积的领域，具体是一种控片沉积工装，包括安装组件，安装组件包括安装板和设置在安装板上的多个卡接轴，多个卡接轴用于共同卡持工件且滑动连接在安装板上，安装板上设置有卡接件，卡接件用于将卡接轴固定在安装板上，卡接轴外表面上开设有...
    2025-08-01
  • 基片处理装置
    基片处理装置_盛美半导体设备(上海)股份有限公司_202410109256.X
    本发明公开了一种基片处理装置，包括至少一个工艺模组，每个工艺模组包括：至少两个反应腔室，每个反应腔室包括一晶舟，用于承载多个基片；晶舟转运装置，与至少两个晶舟连接，用于将各个晶舟移动到预设位置接收基片，并将各个晶舟移动至相应的反应腔室内。本...
    2025-08-01
  • 一种溅射镀膜机
    一种溅射镀膜机_上海新微技术研发中心有限公司_202410102807.X
    本申请提供一种溅射镀膜机，包括：溅射镀膜机本体4；底座8，其安装于溅射镀膜机本体4的内部，底座8用于安装靶材7；以及第一伺服电机1，其安装于溅射镀膜机本体4的内部，第一伺服电机1的顶部连接有安装杆2，安装杆2上设置活动机构；活动机构包括：与...
    2025-08-01
  • 一种玻璃通孔侧壁金属化的装置及方法
    一种玻璃通孔侧壁金属化的装置及方法_上海交通大学_202510496226.3
    本发明涉及一种玻璃通孔侧壁金属化的装置及方法。该装置包括：CVD反应腔室、与所述CVD反应腔室连通的铜前驱体气体预制室、为所述CVD反应腔室提供光源的光源系统、位于所述CVD反应腔室内的温度控制系统、气体输送系统、控制系统以及原位光学监测系...
    2025-08-01
  • 类金刚石碳膜的表面加工方法
    类金刚石碳膜的表面加工方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202410098863.0
    本发明的类金刚石碳膜的表面加工方法包括：在基体上沉积形成类金刚石碳膜；在所述类金刚石碳膜上沉积金属纳米颗粒层；以及利用电化学腐蚀法在所述金属纳米颗粒层上形成凹凸结构。该方法简单高效，能够有效改变类金刚石碳膜的表面延展性，避免出现裂纹和剥落等...
    2025-08-01
  • 用于原子层沉积设备的气体调节装置及原子层沉积设备
    用于原子层沉积设备的气体调节装置及原子层沉积设备_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202510668473.7
    本发明提供了一种用于原子层沉积设备的气体调节装置及原子层沉积设备，气体调节装置包括通气组件，通气组件包括第一通气结构和第二通气结构，第一通气结构和第二通气结构均至少包括对应的内层环形区域和外层环形区域，第一通气结构和第二通气结构的内层环形区...
    2025-08-01
  • 行星锅和镀膜装置
    行星锅和镀膜装置_浙江芯微泰克半导体有限公司_202422471835.7
    本申请涉及一种行星锅和镀膜装置，行星锅包括锅本体、盖板、底座和压接件，所述锅本体环绕所述盖板设置，所述底座位于在所述锅本体上，所述底座具有旋转轴。所述压接件包括固定部和压接部，所述固定部套设于所述旋转轴的外侧，所述压接部绕所述旋转轴的轴向转...
    2025-08-01
  • 一种TA15钛合金表面Ti-Zr-C/Ti-Zr耐磨共渗涂层及其制备方法
    一种TA15钛合金表面Ti-Zr-C/Ti-Zr耐磨共渗涂层及其制备方法_南京航空航天大学_202510382643.5
    一种TA15钛合金表面Ti‑Zr‑C/Ti‑Zr耐磨共渗涂层及其制备方法。将采用双层辉光等离子冶金技术在TA15合金表面制备Ti‑Zr‑C/Ti‑Zr耐磨改性层，所述涂层主要由外层的Ti‑Zr‑C沉积层与内层的Ti‑Zr过渡层组成，所述过渡...
    2025-08-01
  • 一种提高纳米金刚石薄膜中SiV色心光致发光强度的方法
    一种提高纳米金刚石薄膜中SiV色心光致发光强度的方法_浙江大学温州研究院_202311500808.1
    本发明公开了一种提高纳米金刚石薄膜中SiV色心光致发光强度的方法，可快速大幅提高纳米金刚石的光致发光强度。本发明的工艺简单、成本较低，对于提高纳米金刚石中SiV色心光致发光强度有重要价值。
    2025-08-01
  • 一种用于植入物的涂层沉积工艺
    一种用于植入物的涂层沉积工艺_青岛高泰新材料有限公司_202510786083.X
    本发明公开了一种用于植入物的涂层沉积工艺，涉及植入物涂层制备技术领域，沉积工艺包括以下步骤：S1、基材预处理，将基材置于去离子水混合溶液中超声清洗，采用低温等离子体纯化处理，利用等离子体的高能粒子轰击基材，去除表面及内部杂质并引入活性基团，...
    2025-08-01
  • 化学气相沉积设备的供应系统与供应方法
    化学气相沉积设备的供应系统与供应方法_苏州精材半导体科技有限公司_202411540770.5
    本专利涉及化学气相沉积领域，特别地涉及一种化学气相沉积设备的供应系统与供应方法，化学气相沉积设备的供应系统包括：反应容器、至少一个连接组件、引导轨与平移装置。反应容器用于提供化学气相沉积反应的反应空间，至少一个连接组件设置在反应容器部的外表...
    2025-08-01
  • 一种超硬梯度TiN/TiAlN/TiAlZrN复合涂层的制备方法
    一种超硬梯度TiN/TiAlN/TiAlZrN复合涂层的制备方法_上海应用技术大学_202310412245.4
    本发明公开了一种超硬梯度TiN/TiAlN/TiAlZrN复合涂层的制备方法，包括以下步骤：S1：基体依次在丙酮、无水乙醇中超声振荡，去离子水清洗之后吹干，然后将基体固定在转炉架上，置于镀膜腔室内自转；S2：去除靶材表面的杂物；随后在‑70...
    2025-08-01
  • 镧系及类镧系过渡金属的络合物
    镧系及类镧系过渡金属的络合物_默克专利股份有限公司_202180078023.2
    所公开并要求保护的主题提供具有至少一个栓系环戊二烯基配体(“Cp配体”)、至少一个脒化物配体(“Ad配体”)及镧系及/或类镧系过渡金属(“M”)的前体，其具有通式(i)(Cp配体)2‑M‑(Ad配体)或(ii)(Cp配...
    2025-08-01
  • 一种射频电极耦合结构、腔室电极及镀膜设备
    一种射频电极耦合结构、腔室电极及镀膜设备_成都中科卓尔智能科技集团有限公司_202422403975.0
    本实用新型涉及一种射频电极耦合结构、腔室电极及镀膜设备，包括外部电流组件、弹性连接件、腔室和腔门，所述腔室与腔门进行活动连接，腔室设置外部连接组件，腔门设置弹性连接件，外部连接组件的设置位置适配弹性连接件，腔门与腔室之间的开合用于控制弹性连...
    2025-08-01
  • 一种半导体核心零部件镀膜均匀性提升装置
    一种半导体核心零部件镀膜均匀性提升装置_派镀科技(深圳)有限公司_202510513427.X
    本发明公开了一种半导体核心零部件镀膜均匀性提升装置，涉及镀膜均匀性提升装置技术领域，包括均匀性提升机构，所述均匀性提升机构上设置有清理机构，所述清理机构包括两个连接块、电磁离合器和安装孔，两个所述连接块的表面均加装有两个下刮刀，两个所述侧杆...
    2025-08-01
  • 类金刚石碳膜的形成方法
    类金刚石碳膜的形成方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202410098865.X
    本发明的类金刚石碳膜的形成方法包括：提供玻璃基片；以及在所述玻璃基片上沉积形成不含氢的氟化的类金刚石碳膜；所述沉积中，在反应腔室中引入含氟气体以及异丙醇或正丙醇进行化学气相沉积。该方法简单易行，能够形成不含氢的氟化的类金刚石碳膜，从而满足不...
    2025-08-01
  • 调控氮化铝薄膜极性的方法
    调控氮化铝薄膜极性的方法_中国科学院半导体研究所_202410095966.1
    本公开提供了一种调控氮化铝薄膜极性的方法，包括以下步骤：在衬底上沉积六方氮化硼缓冲层；采用氧气等离子体预处理所述六方氮化硼缓冲层，形成表面具有氧悬挂键的六方氮化硼缓冲层；以及采用金属有机化学气相沉积法在经所述预处理的六方氮化硼缓冲层上沉积氮...
    2025-08-01
  • 一种提高锡基镀层或锡基合金耐蚀性的表面处理装置与方法
    一种提高锡基镀层或锡基合金耐蚀性的表面处理装置与方法_中国科学院金属研究所_202211457789.4
    本发明涉及金属的腐蚀与表面处理技术领域，具体涉及一种提高锡基镀层或锡基合金耐蚀性的表面处理装置与方法。该表面处理装置包括舱室、控温部件、控湿部件、紫外线发生器、电源，舱室具有处理腔及传送通道。控温部件用于调节处理腔内温度；控湿部件用于调节处...
    2025-08-01
  • 一种高延展性的DLC膜的制备方法
    一种高延展性的DLC膜的制备方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202410096726.3
    本发明公开了一种高延展性的DLC膜的制备方法，包括：制备原始DLC膜；对所述原始DLC膜的表面进行清洗处理；在预设温度下对清洗后的DLC膜进行热处理，获得高延展性DLC膜。采用本发明的技术方案能够提高DLC膜的延展性，且效果较佳。
    2025-08-01
  • 用于物理气相沉积溅射应用的动态真空密封系统
    用于物理气相沉积溅射应用的动态真空密封系统_东曹SMD有限公司_202380057368.9
    提供了一种真空密封件和密封系统，该密封件和密封系统包括相应的隔离环和相应的溅射靶材。该密封件和密封系统可以用于PVD溅射应用中。所述密封件可以包括可压缩部分和刚性部分。可压缩部分可以包括两个以上的较高轮廓突起和两个以上的较低轮廓凹部，他们通...
    2025-08-01
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