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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明提供一种横流式原子层沉积设备。设备包括外腔、内反应腔、横流进气装置、底部加热器及支撑夹具;横流进气装置位于内反应腔的一侧,且与内反应腔连通;内反应腔的底面部分向上凸起而形成凹槽,底部加热器至少部分位于凹槽内,且与内反应腔的底面贴合;支...
  • 本实用新型属于远程等离子体技术领域,具体为一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置。本匀气装置采用双层匀气盘结构,包括上层匀气盘、下层匀气盘;上层匀气盘安装在等离子体内腔桶口,通过上层外侧边缘的螺丝孔与外腔其他零件连接;下层匀气盘安装在上...
  • 本实用新型的一种用于液压泵活塞PVD涂层涂覆的装夹装置,包括:箱体;伸缩电机,设于所述箱体外侧壁上;控制杆,与所述箱体连接,与所述伸缩电机连接;控制块,设于所述控制杆上;第一支撑杆,与所述控制块铰接;固定块,设于所述箱体内壁上,所述第一支撑...
  • 一种基于双气流的高效掺杂HFCVD设备,包括反应腔、气体导入结构,气体导入结构包括四路气体管道,上、下两个进气口;第一路气体管道通入的是反应气体,第二路气体管道通入的是载气,第一、第二两路气体管道的气体混合后从第一进气管通过上进气口即导入到...
  • 本发明提供了在多种金属基材上沉积铋转化涂层的铋转化涂料组合物、制备铋转化涂料组合物的方法、在金属基材上沉积铋转化涂层的方法以及具有包含铋转化涂层的金属表面的制品。
  • 本实用新型快速切换的真空镀膜箱,包括真空箱主体,真空箱主体上设置有镀膜原料输入模组,镀膜原料输入模组包括若干镀膜原料输入装置,镀膜原料输入装置包括输入装置圆柱体,输入装置圆柱体一端开设有输入槽,输入槽内设置有输入口,输入口上设置有密封开关板...
  • 本发明属于镀膜技术领域,尤其是一种用于纺织钩针的低温氮化钛涂层制备装置,针对现有的放置架放入与取出过程中,大多需要人工干预或搬运以及钩针与放置架的接触面无法均匀被涂层的问题,现提出如下方案,包括设备主体,设备主体的底部内壁转动连接有转动盘,...
  • 本申请涉及电池加工技术领域,尤其涉及极片蒸镀设备,极片蒸镀设备包括箱体和蒸镀组件,箱体内形成有真空室,蒸镀组件设置于真空室内,蒸镀组件包括蒸发盘、膜厚检测装置和调节机构,蒸发盘内设置有蒸发物,蒸发盘用于将蒸发物蒸镀到极片上;膜厚检测装置为多...
  • 本实用新型涉及电镀技术领域,尤其涉及一种无水电镀装置。其技术方案包括:外壳、活动槽、转轴、挂钩和支撑杆,所述外壳内部开设有电镀腔,所述电镀腔内壁下端转动安装有等距平行分布的转轴,所述转轴上端外壁开设有活动槽,所述活动槽内部活动安装有连接杆,...
  • 本发明公开了一种聚四氟乙烯表面镀铜的预处理方法,涉及激光表面处理技术领域。该方法包括步骤:取聚四氟乙烯基板,进行第一次清洗,晾干;将金属离子混合溶液预置在聚四氟乙烯基板表面,进行激光网格扫描刻蚀,第二次清洗,得到刻蚀区域吸附金属离子的聚四氟...
  • 本公开涉及沉积镀膜技术领域,具体涉及一种镀膜装置,解决了镀膜装置的镀膜均匀性差的问题。该镀膜装置包括腔体、多组远程等离子体源、支撑组件、主动齿轮、驱动组件、多个从动齿轮和多个承载组件。多组远程等离子体源绕腔体的延伸方向的周向均布,并向腔体的...
  • 本发明公开了一种RPD镀膜装置,包括镀膜室、炉膛、等离子体发生器、传送机构与输气机构,输气机构包括输气主体,输气主体位述炉膛朝向传送机构的一侧,输气主体具有排气孔,排气孔用于朝向炉膛排放反应气体,输气主体具有沿炉膛与传送机构的排布方向贯穿的...
  • 本发明涉及原子层沉积技术的技术领域,尤其涉及一种原子沉积喷淋腔体及原子沉积设备,包括上腔盖、喷淋头、均气组件、基片和下腔体;上腔盖与下腔体能够围设形成喷淋腔体,基片设置于下腔体上用于承载衬底,喷淋头设置于上腔盖;均气组件设置于喷淋头与基片之...
  • 本发明公开了一种气门表面氮化处理剂、制备方法及其使用工艺,按重量份数计包括以下组分:NaCNO30~70份、K2CO310~30份、KCl10~30份、NaCl10~30份、KOH5~15份、Ce...
  • 本实用新型公开了一种ALD隔膜阀和电磁阀连接结构,其包括:ALD隔膜阀,ALD隔膜阀具有第一连接面,ALD的进气通道延伸至第一连接面上;电磁阀,电磁阀具有第二连接面,电磁阀的出气通道延伸至第二连接面上;第一连接面密封抵接于第二连接面,且进气...
  • 本实用新型公开了一种液态源罐及薄膜沉积设备,该液态源罐包括罐体、进气管路、出气管路和吹扫支路,进气管路,与所述罐体连通,沿所述进气管路的进气方向依次设有第一阀门和进气阀;出气管路,与所述罐体连通,沿所述出气管路的出气方向依次设有出气阀和第二...
  • 本实用新型公开了一种温度控制系统及原子层沉积设备,该温度控制系统应用于原子层沉积设备,所述原子层沉积设备包括反应腔,所述温度控制系统包括:加热部,设置于反应腔的一侧;冷却部,设置于加热部远离所述反应腔的一侧,其中,所述加热部和冷却部中的至少...
  • 本申请公开了一种工件架机构和真空镀膜机,工件架机构包括载物台、主传动结构、驱动器、基座、齿轮盘和至少一个料杆,料杆设置于载物台;主传动结构的上端固定连接载物台的底部;驱动器通过主传动结构带动载物台旋转,且载物台以自身的中心轴线为旋转轴线进行...
  • 本发明涉及一种金刚石膜及其制备方法,所述制备方法包括如下步骤:对衬底进行羟基化处理后,置于对苯二甲酰氯溶液中,制得第一衬底,其中,所述第一衬底的表面氯含量为0.5%‑1%;将氨基化纳米金刚石与有机溶剂混合制成悬浮液,将所述第一衬底置于所述悬...
  • 本发明公开了一种用于切削刀具的PVD镀膜转架结构,属于镀膜技术领域,包括固定底座和上转台,上转台设置于固定底座的上侧,固定底座内转动连接有下转座,固定底座的圆周内壁固定连接有内齿环,下转座上转动连接有多个自转齿轮,且多个自转齿轮与内齿环的内...
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