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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种蒸镀机台复机方法,涉及半导体制备技术领域,该方法包括:依次对所述蒸镀机台中用于镀源切换的调节挡板进行喷砂、酸洗、水洗与烘烤处理;对烘烤后的所述调节挡板进行复机镀膜,包括在真空环境下于所述调节挡板的表面依次蒸镀第一材料与第二材...
  • 本申请公开了一种高密封性的UV化妆品瓶盖镀膜装置,属于瓶盖镀膜设备技术领域。包括安装板、安装柱与安装架,所述安装板的顶部对接安装有密封罩,所述安装板的顶部固定安装有承载盘。通过设置有密封罩、安装槽、对接杆、限位板与第二弹簧之间的相互配合,通...
  • 本发明提供了一种具有优异弯曲性能的铝锌硅镁镀层钢板及其制造方法,镀液包括以下质量百分比成分:Zn:45%~50%,Mg:1.5%~2.5%,Si:1.0~1.5%,Ti:0.002%~0.005%,La+Ce含量0.04%~0.06%,余量...
  • 本发明涉及一种石英部件及保护方法、等离子体设备及等离子体处理方法,应用于半导体加工设备技术领域。其中,保护方法包括:采用氯基等离子体选择性去除石英部件表面既有的金属化合物钝化层;随后,沉积新的金属化合物钝化层,利用新的金属化合物钝化层提供抗...
  • 本发明公开了一种钛植入物及其亲水表面构建方法,属于医药材料技术领域;本发明提供的钛植入物亲水表面构建方法包括以下步骤:对预处理后的钛合金进行喷碳处理,喷碳处理后进行激光熔覆,随后清洗、干燥。采用本发明提供的钛植入物亲水表面构建方法制备得到的...
  • 本申请涉及一种定量输出设备,包括供应装置、缓冲装置、管路组件和控制阀组件,供应装置中有液态的前驱体,缓冲装置配置为能将前驱体雾化,管路组件包括用于将供应装置与缓冲装置连接的前驱体源管路和进气管路,前驱体源管路包括第一源管路和第二源管路,进气...
  • 本发明涉及一种石英部件及保护方法、等离子体设备及等离子体处理方法,应用于半导体加工设备技术领域。其中,保护方法包括:采用溴基等离子体选择性去除石英部件表面既有的金属化合物钝化层;随后,沉积新的金属化合物钝化层,利用新的金属化合物钝化层提供抗...
  • 本发明涉及磁控溅射镀膜设备技术领域,具体为一种用于磁控溅射镀膜机的工件烘烤加热装置,包括磁控溅射镀膜机和镀膜密封门,所述磁控溅射镀膜机内部设置有镀膜腔室。本发明通过工件放置组件中定位电缸驱动的侧定位架、电动滑台调节的校正架,以及二者配合的电...
  • 本发明公开了一种高疲劳性能钛合金棒材及其制备方法,涉及钛合金表面处理技术领域,包括以下工艺:取钛合金棒作为基体,在其表面沉积TiAl合金涂层;而后进行低温离子氮化,形成渗氮层,得到高疲劳性能钛合金棒材。本发明通过表面TiAl合金化和低温离子...
  • 本发明提供成膜装置、成膜方法以及基板支承构件。在对基板进行成膜处理时,防止起因于处理后的膜残留而导致对后续的基板进行的处理产生不良情况。成膜装置具备:处理容器;第1气体供给部,为了对载置在载物台的基板进行成膜而向处理容器内供给成膜气体;第2...
  • 一种镀膜机用可调节式伞架装片装置,包括公转机构、导轨架、摩擦轮和装片架,公转机构呈伞架状,且能绕其中心轴进行转动,导轨架呈沿伞架状公转机构外圆周设置的圆环状,并与公转机构固定连接,公转机构上还设置有用于同时安装多个摩擦轮的定位圆环,多个摩擦...
  • 本申请实施例涉及一种在基材的表面制备膜层的方法以及包括所述在基材的表面制备膜层的方法所制备的膜层的产品。所述在基材的表面制备膜层的方法包括:将所述基材置于腔室之内;向所述腔室通入含硅的无机化合物气体或蒸汽和含氧的无机化合物气体或蒸汽;以及启...
  • 本发明公开了一种在硅橡胶表面选择性金属化的方法。本发明所述方法是通过将聚乙二醇衍生物混入硅橡胶基底,经激光选择性诱导产生亲水基团,再经银离子活化、化学镀的氧化还原反应沉积铜图案,可以有效地实现硅橡胶表面镀铜,确保硅橡胶与镀铜层的结合,实现硅...
  • 本申请涉及自动绕碳绳组件及真空蒸镀设备,碳绳卷可转动地设置于旋转盘上,碳绳卷向碳绳电极组件供给碳绳,以使各碳绳电极顺序通过碳绳与碳绳卷相连;旋转盘以碳绳电极组件为中心可转动设置,带动碳绳卷相对于碳绳电极组件转动,以将碳绳接触于至少一碳绳电极...
  • 本发明公开了一种具有光源多角度调节功能的蒸发镀膜机,涉及蒸发镀膜机技术领域,所述蒸发镀膜机包括镀膜仓、电机一、工件载体、基片、升降组件、离子束光源、电子枪、调节组件、刮除组件,以及稳固组件,当工件载体上只有少量的基片时,可驱动升降组件带动离...
  • 于此提供了具有准直器的处理腔室的实施例。在一些实施例中,一种处理腔室包括:腔室主体,具有侧壁和顶板,以在其中界定内部空间,顶板配置为支撑内部空间中的靶材;基板支撑件,设置在与顶板相对的内部空间中;准直器,设置在顶板和基板支撑件之间的内部空间...
  • 本发明提供能够更准确且简单地掌握装置的状况来进行成膜控制的技术。本发明涉及的成膜装置及成膜装置的控制方法的特征在于,通过速率控制来进行成膜,速率控制是加热控制部以使获取部所获取的成膜速率维持成规定的值的方式控制向加热源供给的电力量的控制,在...
  • 本发明涉及一种切割铝合金用刀具的非晶碳膜涂层及制备工艺,属于铝合金涂层技术领域。本发明涉及的制备工艺即先对刀具除油、脱脂、清洗后,进行等离子体处理以及四次沉积,冷却至室温后取出,得到非晶碳膜涂层,通过复合气体等离子体处理和分层沉积工艺,增强...
  • 本发明公开了一种便于冷却的化学气相沉积设备,本发明涉及化学气相沉积设备技术领域。材料的温度较高时无法进行快速冷却,导致材料的温度较高,导致表面的致密膜层沉积效果降低,通过搅轮与导孔环配合,使弧形搅叶与导水环的通孔在导入冷却液体的过程中,使液...
  • 本实用新型公开了一种磁控溅射装置,该装置包括:支架,所述支架的上部设置有真空罩,所述真空罩的一侧设置有通孔;驱动机构,所述驱动机构设置在支架的上部,且驱动机构位于所述真空罩内;抽真空机构,所述抽真空机构设置在真空罩的一侧,且抽真空机构通过所...
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