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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种金属铸件表面钝化装置
    一种金属铸件表面钝化装置_大连矢铁铸工有限公司_202423239266.X
    本实用新型涉及金属铸件钝化技术领域，且公开了一种金属铸件表面钝化装置，包括钝化池，钝化池的前端顶部转动安装有上转动轴杆，钝化池内腔后下侧位置处转动安装有下转动轴杆，钝化池内部设置有传输机构，传输机构包括对称固定安装于上转动轴杆左右两端外表面...
    2025-11-24
  • 一种利用等离子体催化实现金属表面低温渗氮强化的方法
    一种利用等离子体催化实现金属表面低温渗氮强化的方法_扬州同盛热处理有限公司_202511155526.1
    本发明公开了一种利用等离子体催化实现金属表面低温渗氮强化的方法，属于金属的化学表面处理领域。该方法包括以下步骤：先将金属工件置于等离子体反应炉中，调节氮气与氢气的气体比例为3 : 1，并通入催化剂颗粒；启动高频等离子体发生器，在300°C以...
    2025-11-24
  • 半导体膜生长设备及使用方法
    半导体膜生长设备及使用方法_上海稷以科技有限公司_202510927920.6
    本发明提出了一种半导体膜生长设备及使用方法，该设备包括：设备本体，其内部设置有CVD镀膜器，其包括连接板；连接板上开设沿Z向排列的2个传送窗口；传送组件，用于将待处理的半导体自动送入设备本体中，同时将处理完成的半导体自动送出设备本体，其包括...
    2025-11-24
  • 一种基片电阻加热装置及脉冲激光沉积系统
    一种基片电阻加热装置及脉冲激光沉积系统_深圳市矩阵多元科技有限公司_202422718808.5
    本实用新型公开了一种基片电阻加热装置及脉冲激光沉积系统，基片电阻加热装置包括：基座，基座具有前侧开口的安装位，安装位的左右两侧分别设有导电部，导电部连接有铜导线；电阻加热结构，电阻加热结构包括安装部和基片，安装部插设于安装位，安装部能前后移...
    2025-11-24
  • 镀膜装置
    镀膜装置_安迈特科技(北京)有限公司_202422924144.8
    本实用新型公开了镀膜装置，属于镀膜技术领域，为解决现有镀膜装置所得产品厚度控制不精确等问题而设计。本实用新型公开的镀膜装置包括转动辊、料源、以及设置在转动辊和料源之间的挡板组件，挡板组件上设置有挡板开口，挡板开口容许料源中物料抵达转动辊处，...
    2025-11-24
  • 一种高通量蒸镀设备
    一种高通量蒸镀设备_苏州光拓科技有限公司_202511077483.X
    本发明公开了一种高通量蒸镀设备，涉及真空镀膜设备领域，包括镀膜腔室和镀膜机机架，所述镀膜腔室内设有多层样品架，所述多层样品架由基片架上板和两个基片架侧板组成，且两个基片架侧板上均设有7层基片托，所述多层样品架的一侧设置有基片挡板本体，所述镀...
    2025-11-24
  • 真空镀膜机用工件载架及真空镀膜机
    真空镀膜机用工件载架及真空镀膜机_湘潭宏大真空技术股份有限公司_202511075384.8
    本发明公开了一种真空镀膜机用工件载架及真空镀膜机，工件载架包括公转轴和转动安装在公转轴上的公转架，公转架上安装有多根用于连接安装工件的自转轴，自转轴以能摆动的方式安装在公转架上，各自转轴与公转轴之间设有在公转架转动时驱使自转轴同步转动的转动...
    2025-11-24
  • 微纳双层级结构超疏水PTFE涂层的一步制备方法
    微纳双层级结构超疏水PTFE涂层的一步制备方法_中国海洋大学_202411763404.6
    本发明公开了一种具有微纳双层级结构的超疏水PTFE的一步制备方法，具体涉及热喷涂工艺领域，包括以下步骤：步骤1：对工件表面进行喷砂处理，使其表面粗糙化；步骤2：在不注入PTFE乳液的情况下，启动直流等离子喷枪，使用纯焰流扫描工件表面进行预热...
    2025-11-24
  • 一种可调节脉冲宽度的OLED屏幕脉冲激光沉积设备
    一种可调节脉冲宽度的OLED屏幕脉冲激光沉积设备_江苏和熠光显科技有限公司_202511164908.0
    本发明公开了一种可调节脉冲宽度的OLED屏幕脉冲激光沉积设备，包括机体、衬底及四个靶材，所述机体一侧内部开设工作腔；本发明靶材搭载结构中滑移台可以在X轴上水平移动，滑移板则在Y轴上水平移动，这样可以微调靶材的烧蚀位置，避免过度烧蚀，也提高了...
    2025-11-24
  • 一种用于剪片工件真空镀膜的挂具及旋转挂具组
    一种用于剪片工件真空镀膜的挂具及旋转挂具组_阳江市新辉科技有限公司_202423095586.2
    本实用新型公开了一种用于剪片工件真空镀膜的挂具及旋转挂具组，属于辅助镀膜技术领域。挂具包括：限位片，开设有限位槽；支撑臂，一端固定在所述限位片，另一端连接有可穿设所述挂孔的挂钩条，所述挂钩条横跨所述限位槽，所述挂钩条与所述限位片之间设有让位...
    2025-11-24
  • 进气装置和沉积设备
    进气装置和沉积设备_江苏微导纳米科技股份有限公司_202423255950.7
    本申请实施例公开了一种进气装置以及具有该进气装置的沉积设备，通过设置进气柱来将进气管与喷淋板连接，从进气管输送而来的反应气体则可以通过将进气柱上设置的多个进气孔送向喷淋板，其中由于进气孔的内径尺寸小于或等于1mm，因此可以抑制反应气体在进气...
    2025-11-24
  • 一种金刚石沉积反应腔用密封结构
    一种金刚石沉积反应腔用密封结构_先材(深圳)半导体科技有限公司_202423248771.0
    本申请公开了一种金刚石沉积反应腔用密封结构，包括：遮挡罩和具有贯穿通孔的底板，遮挡罩的底部与底板固定连接形成反应腔；样品台设置于反应腔内，套管的一端与样品台固定连接，套管的另一端通过底板的通孔设置于反应腔外，并且，位于反应腔外的部分套管的外...
    2025-11-24
  • 一种桥架热镀锌装置
    一种桥架热镀锌装置_浙江强瀚电力设备有限公司_202423186555.8
    本实用新型公开了一种桥架热镀锌装置，涉及桥架生产技术领域，旨在解决现有桥架热镀锌装置通过工人手持刮板将锌液表面的薄膜刮走容易倒置工人被锌液烫伤的技术问题，包括镀锌机机体以及清理机构，镀锌机机体包括设备架，设备架底部设有镀锌池，设备架顶部设有...
    2025-11-24
  • 一种碳化钼载体上负载小尺寸贵金属的方法
    一种碳化钼载体上负载小尺寸贵金属的方法_中国科学院合肥物质科学研究院_202510015611.1
    本发明公开了一种碳化钼载体负载金属复合材料的液相激光制备方法，首先基于液相脉冲激光熔蚀技术在丙酮中熔蚀单质Ag或Au靶材，获得均匀分散的包覆1～2层碳层的Ag或Au纳米颗粒，该过程金属纳米颗粒尺寸分布均匀且可调。然后利用脉冲激光辐照技术使氧...
    2025-11-24
  • 钢材表面磷化处理工艺
    钢材表面磷化处理工艺_马鞍山市鑫龙特钢有限公司_202310839012.2
    本发明涉及钢材处理领域，且公开了钢材表面磷化处理工艺，包括以下步骤：(1)得到清洗钢材；(2)配制预处理液；(3)配制磷化液；(4)预处理；(5)磷化处理；本发明处理工艺对钢材表面进行了磷化处理，能够形成具有高耐腐蚀性能的磷化层，而磷化层的...
    2025-11-24
  • 一种热镀锌处理用冷却处理设备
    一种热镀锌处理用冷却处理设备_苏州东研工业自动化设备有限公司_202423253862.3
    本实用新型涉及热镀锌处理技术领域，且公开了一种热镀锌处理用冷却处理设备，包括环形框，环形框的底部固定安装有固定架，环形框的内侧固定安装有冷却筒，冷却筒的内部固定安装有若干导热辊，冷却筒的外壁均固定安装有若干散热翅片，冷却筒的内侧固定安装有多...
    2025-11-24
  • 一种吸气薄膜及其制备方法
    一种吸气薄膜及其制备方法_基迈克材料科技(苏州)有限公司_202311069850.2
    本发明公开了一种吸气薄膜及其制备方法，涉及镀膜领域，旨在解决避免VC腔体真空度降低的问题，其技术方案要点是：将基片进行第一层薄膜沉积，靶材为纯度99.95％的NiV合金靶或纯度99.9％的NiCr合金靶或纯度99.99％的AgNi合金靶；再...
    2025-11-24
  • 一种线型蒸发源加热丝张紧结构及控制方法
    一种线型蒸发源加热丝张紧结构及控制方法_合肥欣奕华智能机器股份有限公司_202410630606.7
    本发明公开了一种线型蒸发源加热丝张紧结构及控制方法，包括线源坩埚以及沿线源坩埚侧壁布置的加热丝，所述加热丝安装在固定座上，所述固定座上安装有若干个对加热丝进行张紧固定的张紧机构；所述张紧结构包括相连的第一金属薄片和第二金属薄片，所述第一金属...
    2025-11-24
  • 一种多层离子溅射镀膜装置及工艺
    一种多层离子溅射镀膜装置及工艺_讯创(天津)电子有限公司_202511516509.6
    本发明涉及溅射镀膜技术领域，具体涉及一种多层离子溅射镀膜装置及工艺，多层离子溅射镀膜工艺包括采用多层离子溅射镀膜装置进行镀膜；多层离子溅射镀膜装置包括外壳、溅射靶头、安装壳、基座、回料机构和输料机构，溅射靶头插装在外壳内，且指向待镀膜件；安...
    2025-11-24
  • 沉积设备以及驱动沉积设备的方法
    沉积设备以及驱动沉积设备的方法_三星显示有限公司_202510514278.9
    公开了沉积设备以及驱动沉积设备的方法。沉积设备包括配置为将沉积材料沉积在衬底上的处理器腔室以及配置为将衬底运输至处理器腔室的传输腔室。在处理器腔室的部分区域中，处理器腔室和传输腔室彼此重叠。
    2025-11-24
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