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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种金刚石压阻材料及其压力传感应用
    一种金刚石压阻材料及其压力传感应用_哈尔滨工业大学_202511207982.6
    本发明公开一种金刚石压阻材料及其压力传感应用，具体为一种基于硼掺杂金刚石的压阻材料及其在传感器应用方法，采用梯度掺杂结构与异质层设计，构建具备高灵敏度、高线性度、温度稳定性和抗腐蚀、抗辐射能力的金刚石压阻材料；通过优化CVD工艺及图案刻蚀结...
    2025-11-24
  • 高可见光透过率的光辐射防护眼镜基片制备方法及基片
    高可见光透过率的光辐射防护眼镜基片制备方法及基片_许昌恒昊光学科技有限公司_202310563564.5
    高可见光透过率的光辐射防护眼镜基片制备方法及基片，首先将稀土材料进行混合，使用高压成型机将混合后的稀土材料进行造粒；将混合后的稀土颗粒材料在高温烧结炉中在高温下进行烧结；将烧结好的蓝光吸收膜料进行真空密封保存备用；选取材质为树脂或玻璃的眼镜...
    2025-11-24
  • 一种热镀锌工件加热装置
    一种热镀锌工件加热装置_杭州汇能实业有限公司_202510459733.X
    本发明公开了一种热镀锌工件加热装置，涉及热镀锌工件加热相关技术领域，包括支撑框架，所述支撑框架的内部设置有与之相适配的助镀池，所述支撑框架的顶部设置有呈对称分布的同步电机，所述同步电机的外壁设置有与之相适配的防护罩，所述防护罩的一侧设置有固...
    2025-11-24
  • 沉积设备以及驱动沉积设备的方法
    沉积设备以及驱动沉积设备的方法_三星显示有限公司_202510514278.9
    公开了沉积设备以及驱动沉积设备的方法。沉积设备包括配置为将沉积材料沉积在衬底上的处理器腔室以及配置为将衬底运输至处理器腔室的传输腔室。在处理器腔室的部分区域中，处理器腔室和传输腔室彼此重叠。
    2025-11-24
  • 输气装置、半导体工艺设备及气体控制方法
    输气装置、半导体工艺设备及气体控制方法_北京北方华创微电子装备有限公司_202410605610.8
    本发明提供一种输气装置、半导体工艺设备及气体控制方法。输气装置包括：包括与工艺腔室连接的储气罐、控压组件和压力检测组件；其中，控压组件具有可活动的密封端；密封端与储气罐内表面活动密封连接，以将储气罐内部分隔为储气腔和辅助腔；储气腔用于存储工...
    2025-11-24
  • 一种离子多弧靶的引弧装置
    一种离子多弧靶的引弧装置_广东振华科技股份有限公司_202511179033.1
    本发明涉及真空镀膜设备领域，特别是涉及一种离子多弧靶的引弧装置，包括两个安装座、导向座、限位杆件、转接件和引弧针；两个安装座分别安装在离子多弧靶上开设的安装孔的两端；导向座位于安装孔内，且两端分别抵接在两个安装座上；限位杆件依次贯穿安装座和...
    2025-11-24
  • 一种金属铸件表面钝化装置
    一种金属铸件表面钝化装置_大连矢铁铸工有限公司_202423239266.X
    本实用新型涉及金属铸件钝化技术领域，且公开了一种金属铸件表面钝化装置，包括钝化池，钝化池的前端顶部转动安装有上转动轴杆，钝化池内腔后下侧位置处转动安装有下转动轴杆，钝化池内部设置有传输机构，传输机构包括对称固定安装于上转动轴杆左右两端外表面...
    2025-11-24
  • 一种利用等离子体催化实现金属表面低温渗氮强化的方法
    一种利用等离子体催化实现金属表面低温渗氮强化的方法_扬州同盛热处理有限公司_202511155526.1
    本发明公开了一种利用等离子体催化实现金属表面低温渗氮强化的方法，属于金属的化学表面处理领域。该方法包括以下步骤：先将金属工件置于等离子体反应炉中，调节氮气与氢气的气体比例为3 : 1，并通入催化剂颗粒；启动高频等离子体发生器，在300°C以...
    2025-11-24
  • 半导体膜生长设备及使用方法
    半导体膜生长设备及使用方法_上海稷以科技有限公司_202510927920.6
    本发明提出了一种半导体膜生长设备及使用方法，该设备包括：设备本体，其内部设置有CVD镀膜器，其包括连接板；连接板上开设沿Z向排列的2个传送窗口；传送组件，用于将待处理的半导体自动送入设备本体中，同时将处理完成的半导体自动送出设备本体，其包括...
    2025-11-24
  • 一种基片电阻加热装置及脉冲激光沉积系统
    一种基片电阻加热装置及脉冲激光沉积系统_深圳市矩阵多元科技有限公司_202422718808.5
    本实用新型公开了一种基片电阻加热装置及脉冲激光沉积系统，基片电阻加热装置包括：基座，基座具有前侧开口的安装位，安装位的左右两侧分别设有导电部，导电部连接有铜导线；电阻加热结构，电阻加热结构包括安装部和基片，安装部插设于安装位，安装部能前后移...
    2025-11-24
  • 一种用于磁控溅射中高阻靶材的靶台
    一种用于磁控溅射中高阻靶材的靶台_南京欧美达应用材料科技有限公司_202423249326.6
    本实用新型属于靶台技术领域，具体涉及一种用于磁控溅射中高阻靶材的靶台，包括靶台主体，所述靶台主体的左侧设置有插头，所述插头的外侧插接有连接头，所述靶台主体的左侧固定连接有固定块，所述固定块与连接头接触，所述固定块的外侧转动连接有限位套，所述...
    2025-11-24
  • 一种金属眼镜架加工用真空镀膜设备
    一种金属眼镜架加工用真空镀膜设备_温州宇顺电镀有限公司_202422801840.X
    本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种金属眼镜架加工用真空镀膜设备，包括壳体，所述壳体内部设置有真空腔，所述真空腔下端设置有凹槽，所述凹槽内部设置有加热管；圆板，所述圆板下端环形阵列分布设置有多组滑槽，所述滑槽内部滑动连接有活动板，所...
    2025-11-24
  • 一种喷淋盘自动调平装置及薄膜沉积设备
    一种喷淋盘自动调平装置及薄膜沉积设备_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511362853.4
    本发明公开了一种喷淋盘自动调平装置及薄膜沉积设备，该装置用于对喷淋盘进行调平处理，包括：调平平台，与所述喷淋盘固定连接；倾斜件，设置于所述调平平台上，用于控制所述调平平台的倾斜方向；驱动模块，与所述倾斜件连接，用于驱动所述倾斜件倾斜运动，并...
    2025-11-24
  • 微纳双层级结构超疏水PTFE涂层的一步制备方法
    微纳双层级结构超疏水PTFE涂层的一步制备方法_中国海洋大学_202411763404.6
    本发明公开了一种具有微纳双层级结构的超疏水PTFE的一步制备方法，具体涉及热喷涂工艺领域，包括以下步骤：步骤1：对工件表面进行喷砂处理，使其表面粗糙化；步骤2：在不注入PTFE乳液的情况下，启动直流等离子喷枪，使用纯焰流扫描工件表面进行预热...
    2025-11-24
  • 一种桥架热镀锌装置
    一种桥架热镀锌装置_浙江强瀚电力设备有限公司_202423186555.8
    本实用新型公开了一种桥架热镀锌装置，涉及桥架生产技术领域，旨在解决现有桥架热镀锌装置通过工人手持刮板将锌液表面的薄膜刮走容易倒置工人被锌液烫伤的技术问题，包括镀锌机机体以及清理机构，镀锌机机体包括设备架，设备架底部设有镀锌池，设备架顶部设有...
    2025-11-24
  • 一种碳化钼载体上负载小尺寸贵金属的方法
    一种碳化钼载体上负载小尺寸贵金属的方法_中国科学院合肥物质科学研究院_202510015611.1
    本发明公开了一种碳化钼载体负载金属复合材料的液相激光制备方法，首先基于液相脉冲激光熔蚀技术在丙酮中熔蚀单质Ag或Au靶材，获得均匀分散的包覆1～2层碳层的Ag或Au纳米颗粒，该过程金属纳米颗粒尺寸分布均匀且可调。然后利用脉冲激光辐照技术使氧...
    2025-11-24
  • 一种可调节脉冲宽度的OLED屏幕脉冲激光沉积设备
    一种可调节脉冲宽度的OLED屏幕脉冲激光沉积设备_江苏和熠光显科技有限公司_202511164908.0
    本发明公开了一种可调节脉冲宽度的OLED屏幕脉冲激光沉积设备，包括机体、衬底及四个靶材，所述机体一侧内部开设工作腔；本发明靶材搭载结构中滑移台可以在X轴上水平移动，滑移板则在Y轴上水平移动，这样可以微调靶材的烧蚀位置，避免过度烧蚀，也提高了...
    2025-11-24
  • 一种用于剪片工件真空镀膜的挂具及旋转挂具组
    一种用于剪片工件真空镀膜的挂具及旋转挂具组_阳江市新辉科技有限公司_202423095586.2
    本实用新型公开了一种用于剪片工件真空镀膜的挂具及旋转挂具组，属于辅助镀膜技术领域。挂具包括：限位片，开设有限位槽；支撑臂，一端固定在所述限位片，另一端连接有可穿设所述挂孔的挂钩条，所述挂钩条横跨所述限位槽，所述挂钩条与所述限位片之间设有让位...
    2025-11-24
  • 进气装置和沉积设备
    进气装置和沉积设备_江苏微导纳米科技股份有限公司_202423255950.7
    本申请实施例公开了一种进气装置以及具有该进气装置的沉积设备，通过设置进气柱来将进气管与喷淋板连接，从进气管输送而来的反应气体则可以通过将进气柱上设置的多个进气孔送向喷淋板，其中由于进气孔的内径尺寸小于或等于1mm，因此可以抑制反应气体在进气...
    2025-11-24
  • 一种金刚石沉积反应腔用密封结构
    一种金刚石沉积反应腔用密封结构_先材(深圳)半导体科技有限公司_202423248771.0
    本申请公开了一种金刚石沉积反应腔用密封结构，包括：遮挡罩和具有贯穿通孔的底板，遮挡罩的底部与底板固定连接形成反应腔；样品台设置于反应腔内，套管的一端与样品台固定连接，套管的另一端通过底板的通孔设置于反应腔外，并且，位于反应腔外的部分套管的外...
    2025-11-24
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