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五金工具产品及配附件制造技术
一种基于耐腐蚀性合金靶材的金属管道溅射涂层方法
本发明涉及金属管道表面处理技术领域,公开一种基于耐腐蚀性合金靶材的金属管道溅射涂层方法,包括:向合金靶材施加第一脉冲序列溅射金属原子,向金属管道施加第二脉冲序列,并严格同步两序列使负电压脉冲仅在靶材功率低谷期施加,利用溅射产生的金属离子轰击...
一种铜线镀锡装置
本发明涉及铜线镀锡技术领域,公开了一种铜线镀锡装置,包括:架体、铜线收放组件、锡液喷发组件和预热组件;预热组件使得铜线在热镀之前进行预热处理,一方面可以增加锡液的润湿性和附着力,同时可以去除铜线表面杂质和水分,以保证锡镀层的质量,锡液喷发组...
一种在金刚石热沉上制备高质量金属碳化物薄膜的方法
本发明公开了一种在金刚石热沉上制备高质量金属碳化物薄膜的方法,该方法包括:一、对单晶金刚石片的表面进行研磨、抛光和清洗及烘烤预处理;二、采用磁控溅射法在预处理后的单晶金刚石片上镀覆纳米级厚度的碳化钛薄膜;三、将镀覆碳化钛薄膜的单晶金刚石片进...
一种反应腔室及薄膜沉积设备
本发明公开了一种反应腔室及薄膜沉积设备,该反应腔室包括:传输通道,所述传输通道开设有缺口;调节组件,所述调节组件包括与所述缺口相契合且活动设置的调节板。本发明通过调节板的活动控制,使传输通道在封闭与开放两种状态下切换,实现对于反应腔室的体积...
成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法
本发明提供将作为膜厚的测量对象的基板的形状维持为恒定的成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法。成膜装置对基板进行成膜。测量部件测量形成于基板的膜的厚度。静电卡盘利用静电力吸附基于测量部件测量的测量对象的基板。移动部件使静电卡盘移动,以...
一种三聚氰胺覆铜镀锡绝缘耐电弧桥接条生产系统及方法
本发明涉及桥接条生产领域,尤其涉及一种三聚氰胺覆铜镀锡绝缘耐电弧桥接条生产系统及方法,包括:镀液池;隔离机构,所述隔离机构设置在镀液池上方且将镀液池与外部氧气隔离;预处理机构,所述预处理机构设置在隔离机构内部且用于对桥接条进行转运及涂覆助镀...
一种增强镀钌钼片及其制备方法
本发明公开了一种增强镀钌钼片及其制备方法,属于镀钌钼片的技术领域。所述制备方法包括:通过磁控溅射的方式,在钼片表面真空溅射镀一层厚度为0.1~0.5μm的高纯钼镀层,获得镀钼钼片;将镀钼钼片进行氧化酸洗及离子清洗,其后通过气相沉积的方式,在...
多台基板处理系统
真空处理模块具有预成型的顶板和/或成型为向外凸起的底部。顶板和/或处理模块的形状抵消了在处理模块中处理基板时由真空压力和/或高温引起的变形。处理模块具有可通向传送室的侧面和与可打开侧面相对的侧面。凸起可以是不对称的,凸起的顶峰在顶板上偏心并...
衬底处理方法
提供了一种填充间隙而在间隙内没有缝隙或空隙的方法。根据本公开的实施例,间隙填充方法包括在间隙的上部上形成第一抑制层,通过去除第一抑制层在间隙的上部上形成第二抑制层,形成含硅层并执行后处理以从含硅层去除残留杂质,其中后处理包括第一处理和第二处...
真空镀膜设备、导电膜及极片
本实用新型公开了一种真空镀膜设备、导电膜及极片,该真空镀膜设备包括设备本体、蒸镀组件以及磁控溅射组件,设备本体内设置有真空舱室,真空舱室包括分隔设置的第一舱室和第二舱室,第一舱室和第二舱室之间的侧壁上设置有穿膜缝隙,穿膜缝隙连通第一舱室和第...
一种粉体包覆装置及其使用方法
本发明公开了一种粉体包覆装置及其使用方法,属于粉体包覆材料技术领域,该粉体包覆装置包括真空室和控制系统,真空室内设置有粉体处理仓、粉体仓、循环组件和发射源;粉体处理仓的底部与粉体仓的顶部可拆卸连接;循环组件包括粉体循环管路以及设置在粉体循环...
一种提高TiCN金属陶瓷涂层刀具切削性能的刻蚀方法
本发明公开了一种提高TiCN金属陶瓷涂层刀具切削性能的刻蚀方法,首先对TiCN基金属陶瓷表面清洗;然后对清洗后的TiCN基金属陶瓷进行等离子刻蚀处理;等离子刻蚀处理使用的气体为流量比例1:1的氩气和氮气混合气体或高纯氮气,总体腔压为1~2P...
一种零部件的局部化学表面热处理方法
本发明属于化学表面热处理加工领域,特别涉及到了一种零部件的局部化学表面热处理方法,包括:步骤1:将零部件整体进行化学镀;步骤2:将零部件的需要进行化学表面热处理区域的化学镀层去除;步骤3:对零部件进行化学表面热处理。在本发明中,该方法适用性...
一种耐磨超疏水铝青铜的覆膜盔甲结构的激光加工方法
本发明涉及一种耐磨超疏水铝青铜的覆膜盔甲结构的激光加工方法,其包括以下步骤,准备一铝青铜工件,先经过打磨和清洗处理,再采用脉冲激光沉积在所述工件表面形成陶瓷抗磨损膜,然后采用飞秒激光对陶瓷抗磨损膜进行刻蚀,以形成耐磨盔甲结构,接着经过热处理...
一种低UVID的背接触电池及其制备方法及其应用
本发明属于背接触电池技术领域,具体涉及一种低UVID的背接触电池及其制备方法及其应用,包括S02、在硅片的受光面依次沉积无掺磷的掺氧硅层、掺磷掺氧硅层;其中,无掺磷的掺氧硅层、掺磷掺氧硅层采用管式PECVD在辉光等离子体持续存在下连续镀膜的...
一种具有梯度复合结构及表面微织构的DLC涂层及其制备方法
本发明公开了一种具有梯度复合结构及表面微织构的DLC涂层及其制备方法,属于硬质合金刀具表面处理技术领域。该涂层包括过渡层、DLC渐变层及设置于DLC主涂层外表面的激光微织构层;所述过渡层由交替堆叠的Cr层和CrN层组成;所述DLC渐变层的s...
金属表面的防腐蚀处理工艺、金属工件、电加热管及电热水器
本发明公开一种金属表面的防腐蚀处理工艺、金属工件、电加热管及电热水器,该金属表面的防腐蚀处理工艺包括以下步骤:S20、对待处理工件通过沉积方式进行镀钛,以在工件的表面形成钛化合物薄膜,其中,所述沉积方式为物理气相沉积方式,所述物理气相沉积方...
一种基于锌液净化工艺的高效热镀锌方法及系统
本发明创造提供了一种基于锌液净化工艺的高效热镀锌方法,技术方案如下:来料检查→脱脂→酸洗→漂洗→助镀→干燥→热浸镀锌→沥锌→冷却,所述热浸镀锌过程通过渐进式温控与电磁搅拌强度动态匹配,采用多梯度温控耦合打渣技术:基于温度-铁含量响应曲线,精...
一种锰锆系表调剂及制备方法与应用
本发明提供一种锰锆系表调剂,以重量百分比计,由以下成分制成:氟化锰 15‑19%,氮化锰13‑16%,磷酸二氢锰6‑8%,硼化锆7‑12%,碳化锆5‑9%,聚羧酸钠15‑20%,聚乙二醇5‑10%,余量为氢化钠。由于锆元素的存在,该锰锆系表...
一种氧化铝制备设备及氧化铝膜
本实用新型提供的氧化铝制备设备及氧化铝膜,其中,氧化铝制备设备,包括真空腔体,所述真空腔体内设置有蒸发槽,所述蒸发槽上设置有蒸发舟和送气管,所述送气管的出气口位于所述蒸发舟的上方,且所述送气管的出气口的出气方向与蒸发舟蒸发铝金属的蒸发方向一...
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