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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种ALD流化床包覆反应器和包覆粉末的方法
    一种ALD流化床包覆反应器和包覆粉末的方法_柔电(武汉)科技有限公司_202411131075.3
    本发明涉及一种ALD流化床包覆反应器和包覆粉末的方法，特点是一种能够实现快速更换反应釜的ALD流化设备。所述设备包括一个加热室、可更换的反应釜。每个反应釜包含至少一个用于沉积过程的流化床区，并且设计为通过标准化接口与加热室快速连接或分离。这...
    2025-08-07
  • 一种硬质合金复合涂层及其制备方法
    一种硬质合金复合涂层及其制备方法_甘肃林涛表面科技有限公司_202510623623.2
    本发明涉及硬质合金技术领域，具体为一种硬质合金复合涂层及其制备方法，包括以下依次沉积的层结构：基体层，由质量8‑10％钴，0.3‑0.8％碳化铬，余量为碳化钨组成的硬质合金，过渡层，氮化钛层，采用等离子体增强化学气相沉积设备在870‑890...
    2025-08-07
  • 一种基于HiPIMS技术的AlTiSiN涂层制备方法
    一种基于HiPIMS技术的AlTiSiN涂层制备方法_北京中科迈格科技有限公司_202510547627.7
    本发明涉及涂层材料领域，公开了一种基于HiPIMS技术的AlTiSiN涂层制备方法，包括如下步骤：对工件表面进行辉光清洗；通过HiPIMS将TiAlSi靶材溅射至工件上，经过第一次降压处理将起始偏压值渐降至镀膜偏压值，工件表面沉积形成TiA...
    2025-08-07
  • 镀膜设备
    镀膜设备_江苏微导纳米科技股份有限公司_202410145569.0
    本申请公开了一种镀膜设备。镀膜设备包括工艺管、底座、载具和线圈。底座设置于工艺管内，底座为导体。载具放置于底座上，用于承载基片，载具为导体。线圈绕设于工艺管外周。其中，线圈用于通入交变电流产生交变磁场，底座和在于用于在交变磁场作用下产生涡流...
    2025-08-07
  • 具有长寿命与高界面结合强度的热障涂层的制备方法
    具有长寿命与高界面结合强度的热障涂层的制备方法_深圳清华大学研究院_202311258335.9
    本发明实施例公开了一种具有长寿命与高界面结合强度的热障涂层的制备方法，包括：步骤1：对高温合金基体进行预热，使高温合金基体表面温度达到预设温度，采用超音速火焰喷涂方法将金属粘结层粉末喷涂至高温合金基体表面形成金属粘结层；步骤2：通过大气等离...
    2025-08-07
  • 一种金属磁栅材料及其制备方法和应用
    一种金属磁栅材料及其制备方法和应用_山东麦格智芯机电科技有限公司_202311062321.X
    本发明公开了一种金属磁栅材料及其制备方法和应用。金属磁栅材料，包括依次设置的不锈钢基底层、缓冲层、FeCoCr纳米薄膜层和保护层，缓冲层由TiAl构成，不锈钢基底的表面粗糙度Ra为0.1‑0.2；缓冲层的厚度为100‑500nm；FeCoC...
    2025-08-07
  • 前驱物材料的选择性沉积方法及相关装置
    前驱物材料的选择性沉积方法及相关装置_恩特格里斯公司_202380089230.7
    本公开提供前驱物材料的选择性沉积方法及相关装置。所述方法包括获得结构。所述结构包括非介电材料及介电材料。所述方法包括在若干条件下使所述结构与钼前驱物接触，以便在所述非介电材料的至少一部分上获得钼材料。在所述条件下所述钼材料未沉积在所述介电材...
    2025-08-07
  • 一种兼具抗冲蚀与抗疲劳的梯度纳米晶氮化物涂层结构及制备方法
    一种兼具抗冲蚀与抗疲劳的梯度纳米晶氮化物涂层结构及制备方法_西安交通大学_202510418326.4
    本发明提供了一种兼具抗冲蚀与抗疲劳的梯度纳米晶氮化物涂层结构及制备方法，用于解决现有梯度结构氮化物涂层存在的在疲劳载荷下易导致基体疲劳失效，以及现有物理气相沉积技术在制备梯度结构氮化物涂层时，只能实现几纳米到几十纳米的纳米级晶粒制备，无法实...
    2025-08-07
  • 一种实现高熵合金等离子熔覆层与铜基体可靠连接的方法
    一种实现高熵合金等离子熔覆层与铜基体可靠连接的方法_铜陵学院_202510586458.8
    本发明涉及材料表面处理技术领域，具体涉及一种实现高熵合金等离子熔覆层与铜基体可靠连接的方法；所述方法具体为：S1、将铜基体进行打磨处理，用无水乙醇对铜基体表面进行超声清洗，将铜基体放置在干燥箱中干燥；S2、采用磁控溅射法在预处理后的铜基体表...
    2025-08-07
  • 与集成电路微组装工艺兼容的点火桥及其制作方法
    与集成电路微组装工艺兼容的点火桥及其制作方法_中国电子科技集团公司第二十四研究所_202510521853.8
    本发明公开了一种与集成电路微组装工艺兼容的点火桥及其制作方法，制作方法包括：在基板正面依次沉积薄膜电阻层、阻挡层和薄金籽晶层；在薄金籽晶层上通过光刻形成挖空区域的图形，并露出两个电极图形；在两个电极图形所在区域电镀金层；去除挖空区域的薄金籽...
    2025-08-07
  • 一种桥梁缆索钢丝合金镀层及其制备方法
    一种桥梁缆索钢丝合金镀层及其制备方法_贵州大学_202510782912.7
    本发明公开了一种桥梁缆索钢丝合金镀层及其制备方法，属于防腐镀层技术领域。本发明中制备所述桥梁缆索钢丝合金镀层的合金为Sn‑xZn合金，其中，X为Zn在合金中的质量占比，取值为25～60wt.％；制备所述桥梁缆索钢丝合金镀层的助镀剂由NH
    2025-08-07
  • 一种基于多层复合膜结构的低应力低温键合方法
    一种基于多层复合膜结构的低应力低温键合方法_华中科技大学_202510512953.4
    本发明涉及一种基于多层复合膜结构的低应力低温键合方法，属于半导体封装及微电子制造技术领域。在待键合元件上依次沉积粘附层、Au层和Bi层；在合金钢上依次沉积粘附层和Au层；将待键合元件上的Bi层对准合金钢上的Au层，同时进行加压和加热，当温度...
    2025-08-07
  • 一种高裂纹抵抗性能的锌铝镁镀层钢板及其生产方法
    一种高裂纹抵抗性能的锌铝镁镀层钢板及其生产方法_马鞍山钢铁股份有限公司_202310128442.3
    本发明提供了一种高裂纹抵抗性能的锌铝镁镀层钢板及其生产方法，锌铝镁镀层的成分为Al：1％‑5％，Mg：1％‑2％，Si：0.05％‑0.15％，剩余为Zn和不可避免的杂质元素；调整Al/Mg含量比，使镀层表面二元共晶相的占比＜14％；与现有...
    2025-08-07
  • 一种焊丝表面镀膜装置
    一种焊丝表面镀膜装置_宁波市鄞州品达电器焊料有限公司_202423019465.X
    本实用新型公开了一种焊丝表面镀膜装置，包括底座，底座顶端的一侧设有置件板，置件板一侧的底座顶端设有两个立板，立板之间的上端内壁上固定有顶座，立板之间的底座上方设有支撑座，支撑座底端的两侧皆设有支撑板，支撑板的底端与底座的顶端固定连接，支撑座...
    2025-08-07
  • 一种热镀基板的镀层均匀性控制的方法
    一种热镀基板的镀层均匀性控制的方法_攀钢集团成都板材有限责任公司_202510618356.X
    本发明涉及涂镀技术领域，提出一种热镀基板的镀层均匀性控制的方法。方法包括：步骤a、确定热镀基板的尺寸规格以及镀层的重量规格；步骤b、将热镀基板进行热浸镀锌处理；步骤c、根据尺寸规格及重量规格控制气刀对热镀基板进行平整处理的运行参数，使镀层的...
    2025-08-07
  • 一种分气调节机构及其薄膜沉积设备、调节方法
    一种分气调节机构及其薄膜沉积设备、调节方法_拓荆科技(上海)有限公司_202510829396.9
    本发明公开了一种分气调节机构及其薄膜沉积设备、方法，调节机构包括：分气管道、流量调节件以及压力检测件；所述流量调节件活动连接于所述分气管道，所述分气管道内设有流体通道，调节所述流量调节件可改变所述分气管道的流通截面大小；所述压力检测件连接于...
    2025-08-07
  • 一种微波等离子体化学气相高效沉积装置
    一种微波等离子体化学气相高效沉积装置_深圳市先行设备科技有限公司_202510457424.9
    本发明公开了一种微波等离子体化学气相高效沉积装置，包括主体，所述主体的上方设置有微波发生器，所述主体的内侧底部安装有转轴，所述转轴上固定有锥齿一。本发明通过设置可旋转倾斜的环形样品台，在沉积过程中，通过驱动机构带动转轴、立杆、十字形固定架以...
    2025-08-07
  • 一种复合氧化物涂层及其溶胶凝胶-激光快速氧化复合制备方法
    一种复合氧化物涂层及其溶胶凝胶-激光快速氧化复合制备方法_安徽工业大学_202510556149.6
    本发明涉及金属材料表面防护技术领域，具体涉及一种复合氧化物涂层及其溶胶凝胶‑激光快速氧化复合制备方法，通过设计溶胶配方并匹配激光辐照参数，实现涂层的快速致密化，在基体表面获得复合氧化物陶瓷涂层。该方法工艺周期短、基材适用性广，所得涂层具有优...
    2025-08-07
  • 一种真空镀膜用侧引弧机构
    一种真空镀膜用侧引弧机构_江苏乐为真空科技有限公司_202421695360.3
    本实用新型属于真空镀膜引弧技术领域，具体涉及一种真空镀膜用侧引弧机构，其中包括基座和靶材，所述基座的外部套接有转动盘，所述转动盘的右端固定安装有端盖；所述转动盘的左侧固定安装有旋转盘，且旋转盘套接于基座的外侧，所述基座的一侧固定安装有旋转气...
    2025-08-07
  • 一种APCVD法LTO膜厚均一性优化方法
    一种APCVD法LTO膜厚均一性优化方法_上海中欣晶圆半导体科技有限公司_202510818166.2
    本发明公开了一种APCVD法LTO膜厚均一性优化方法，具体涉及半导体制造技术领域，包括以下步骤：S1、预制硅片；S2、选择钨丝环；S3、钨丝环安装；S4、沉积LTO薄膜；S5、硅片LTO薄膜膜厚测定S6、确认钨丝环使用寿命。本发明所述的一种...
    2025-08-07
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