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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明涉及一种α‑In22Se33薄膜的制作方法,本方法利用CVD工艺在氟金云母衬底表面沉积形成β′‑In22Se33薄膜,再以100℃/min~200℃/min的速率将炉温由750℃~780℃降至室温,使所述β′‑In22Se33薄膜相变...
  • 本申请涉及靶材生产技术领域,公开了一种氧化铟铈钽钛钬靶材,靶材中铟、铈、钽、钛、钬的摩尔比为:66.3~71.8:0.058~1.163:0.045~0.905:0.125~2.5:0.053~1.058。该靶材采用铟为主材,采用三价、四价...
  • 本发明零件镀锌加工技术领域,尤其涉及一种用于螺帽的表面处理装置,包括有镀锌池,镀锌池侧边设置支撑座,支撑座靠近镀锌池一侧滑动式连接有挂架,挂架靠近镀锌池一侧设置挂钩,挂架远离镀锌池一侧上设置螺纹杆,螺纹杆和挂架螺纹式连接,螺纹杆设置伺服电机...
  • 本申请涉及一种蒸镀薄膜沉积设备及方法,其中,蒸镀薄膜沉积设备,包括工艺腔、加热组件和载片台;工艺腔具有工艺腔侧壁;加热组件具第一加热件和第二加热件;载片台设于工艺腔内,用于放置待抗粘衬底;所述载片台由所述第一加热件独立加热,所述工艺腔侧壁由...
  • 本申请涉及一种用于管道内壁的等离子体喷涂装置,包括:密封板,在管道内限制出一段密闭空间;移动基板,包括基板本体和套筒;所述基板本体一端与一密封板连接,另一端与套筒连接,所述套筒与另一密封板连接;喷涂组件,包括喷枪和第一电机,所述喷枪转动地套...
  • 本发明涉及热喷涂涂层制备和控制技术领域,尤其涉及一种发动机薄壁件涂层涂覆用工艺装备及方法,包括环形的底盘,底盘的中心设置有用于与底座配套使用的中心环带,底盘上设置有八个第一异形体或者八个第二异形体,第一异形体和第二异形体均呈弧形,第一异形体...
  • 本发明属于刀具涂层材料技术领域,公开了一种脉冲电流辅助真空气相沉积刀具涂层制备方法。所述的制备方法是对预镀膜刀具施加脉冲电流,通过脉冲电流产生的瞬态电效应和热效应取代传统的电加热方式。该方法不需要传统真空气相沉积涂层时的升温和降温过程、也不...
  • 本申请公开了一种气刀刀腔稳流装置,解决现有技术流速波动大的技术问题。其包括气流稳定结构和连接机构。气流稳定结构包括进气面和出气面,进气面和出气面相对设置以形成稳流腔,进气面上设置有多个进气孔,多个进气孔均与稳流腔连通,出气面上设置有多个出气...
  • 本发明公开了一种钙钛矿用高温点蒸发源,涉及点蒸发源技术领域,该点蒸发源包括主体以及设置在主体内部的内撑结构;主体包括外壳、分隔套、内壳和分隔环。本发明通过加热丝一和加热丝二,以及设置辐射孔一和辐射孔二,形成了均匀、高效的立体热场;加热丝二呈...
  • 本揭露是有关于一种用于在一生产车间(10)中更换一工件承载装置(50)以涂覆多个基板(12)的方法。此方法包括以下步骤:通过一机器人(16)将依工件承载装置(50)从一供应区(20)移动到一处理区(14);通过机器人(16)进一步移动工件承...
  • 本申请提供一种磁控溅射镀膜方法及装置,方法包括以下步骤:在对靶材施加恒定电流的条件下,基于第一工作参数对待镀膜工件进行镀膜处理,得到第一初始膜层。将第一初始膜层的色差与预设标准色差进行比对。当第一初始膜层的色差与预设标准色差的差值小于或等于...
  • 本实用新型提供了一种蒸发源装置及具有其的真空蒸镀设备,蒸发源装置包括:电极模块,包括多组电极组件,各组电极组件包括阳极电极、阴极电极和蒸发舟;各组电极组件中的阳极电极、阴极电极和蒸发舟相独立设置,多组电极组件中的阴极电极可独立调节地设置;监...
  • 本发明公开一种基片的承载装置,包括托盘和框架,所述框架包括框主体,所述框主体包括支撑梁体,所述支撑梁体沿第一方向延伸,所述支撑梁体包括金属梁部和两个夹板梁部,两所述夹板梁部的材质和所述金属梁部的材质不同,两所述夹板梁部分别位于所述金属梁部在...
  • 描述用于通过原子层沉积来沉积硅薄膜的方法的方法、系统及装置。例如,一种装置可将基底材料(例如多个材料堆叠)暴露于第一前体以在所述基底材料上形成硅化合物,所述第一前体包含硅脒基。所述装置可使第二前体与所述硅化合物反应且可基于将所述基底材料暴露...
  • 本发明涉及一种用于在CVD反应器的至少一个基材上沉积二维的层的方法,借助输入管路将工艺气体馈送到进气机构的气体分配室中,进气机构具有第一气体分配室和至少一个第二气体分配室,并且通过加热装置使基材达到过程温度。在第一步骤中将惰性气体或者稀释气...
  • 本发明公开了一种镀膜系统,包括:上下料轨道、工件架、移料装置和镀膜炉。工件架具有镀膜连接端和移料连接端。移料装置与上下料轨道左右滑移连接。移料装置具有可往前伸缩、并与移料连接端可拆连接的移料连接部。镀膜炉设于上下料轨道的前侧,镀膜炉具有与镀...
  • 本发明涉及一种异形基材磁控溅射镀膜方法及加热装置,所述方法包括:将异形基材置于加热台上进行第一次溅射,使异形基材表面形成金属过渡层;在负偏压条件下对具有过渡层的异形基材进行第二次溅射,完成镀膜;其中,所述加热台具有多个开孔,所述开孔在所述加...
  • 本申请提供一种镀膜辅助装置及镀膜设备,用于辅助蒸发源镀膜,镀膜辅助装置包括蒸发室和挡条组件。蒸发室包括用于容纳蒸发源的蒸发空腔,蒸发室上开设有蒸发口,蒸发空腔通过蒸发口与镀膜腔连通。挡条组件设置于蒸发口,用于遮挡蒸发口,以使蒸发口形成蒸发缝...
  • 本申请涉及镀膜设备技术领域,提供一种挂架,以提高装夹精度,包括:承托组件,包括相连接的承托件和支撑杆,承托件设有抵持体及两个定位孔;多组装夹组件,层叠设置于承托件并均套设于支撑杆,每组装夹组件包括承载件和装夹件,承载件承载工件并设有两个定位...
  • 本实用新型涉及一种光学塑件物理气相沉积自动化装置,包括修正板调节组件和支撑杆,所述修正板调节组件包括活动修正板、固定修正板和支撑杆,所述固定修正板的中部位置固定在所述支撑杆上,所述固定修正板的两侧均开设有槽口,所述槽口通过活动件与所述活动修...
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