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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种提高涂层/合金基体界面稳定性的Ni‑Al/MCrAlY涂层及其制备方法,属于高温防护涂层技术领域。具体而言,就是在高温合金基体上先沉积Ni‑Al涂层,再沉积MCrAlY涂层,最后经真空退火使涂层成分扩散均匀。与单一的MCrA...
  • 本发明为一种TiCrN陶瓷/NiCrBSi合金三维互锁超细叠层复合涂层的制备方法。该方法中,涂层体系的陶瓷相是在TiN中引入Cr形成TiCrN固溶体,其熔点较TiN(2950℃)降低约350℃,显著改善熔滴扁平化行为,实现亚微米级精准沉积;...
  • 本发明是关于一种用于镍基高温合金热防护的涂层及其制备方法,所述涂层由粘结层、过渡层和陶瓷层组成;其中,所述粘结层为NiCoGrAlYSi;所述过渡层为(Gd0.2Yb0.2Y0.6
  • 本发明公开了一种稀土改性盐浴离子渗处理锅体表面的方法,其包括以下步骤:S1:将铝锅体预热;S2:将其放置于盛有第一氮化盐的氮化炉内进行分阶段一次氮化处理,得到沿锅体表面具有浓度梯度氮化物的一次氮化锅体;S3:将其放置于盛有氧化盐的氧化炉内进...
  • 本发明涉及机械加工刀具切削和表面处理技术领域,公开了一种具有高切削寿命的刀具复合涂层及其制备方法,利用高功率脉冲磁控溅射同步脉冲偏压在刀具基体表面进行复合涂层沉积;复合涂层沉积包括TiAlN薄层和(CrAl)2O
  • 本文描述了一种包括金属氟氧化物涂层的腔室部件,此金属氟氧化物涂层包括YF3、ZrF4或其组合以及由Y2O3及ZrO2组成的金属氧化...
  • 本发明提供一种硼化锆致密涂层的制备工艺及等离子喷涂装置,涉及涂层制备技术领域。该制备工艺包括以下步骤:悬浮液制备:将分散介质、ZrB2粉体、富含10B的B粉、粘结剂和分散剂混合均匀得到悬浮液;其中...
  • 本发明属于冷轧沉没辊运行技术领域,具体的说是一种冷轧沉没辊平稳运行装置,包括锌液箱,锌液箱一端固定连接有电机,锌液箱内部固定连接有两个轴承座,两个轴承座分别固定在锌液箱的两个内壁上,两个轴承座之间转动连接有沉浸辊,锌液箱内设置有防偏移组件,...
  • 本发明涉及金属零件加工技术领域,尤其是一种金属零件表面发黑处理装置,包括限位箱,所述限位箱的内部放置有浸泡壳体,所述浸泡壳体的上方设置有活动臂,所述活动臂上转动连接有转动环,所述转动环的内部固定连接有密封管,所述密封管的表面沿周向固定连接有...
  • 本发明公开了一种铜铝结合钝化工艺方法,涉及金属表面处理技术领域,包括预处理、抛光处理、施加抗氧化涂层、超声波清洗、钝化处理、脱水处理、干燥处理和最终检验与包装;通过硝酸进行预处理,以去除金属表面的氧化层、锈蚀和其他杂质,再使用抛光剂对金属表...
  • 本发明公开了一种制备超薄金刚石声学振膜的方法,属于金刚石应用领域。包括以下步骤:S1:对基底材料进行加工处理,形成声学振膜需要的三维形状;S2:在基底材料上沉积金刚石薄膜;S3:将金刚石薄膜从基底材料上剥离;S4:将剥离掉的金刚石材料通过静...
  • 一种制造金属氮化物薄膜的方法,通过至少一原子层沉积循环所执行。每一原子层沉积循环先执行关于金属元素的至少一个半循环,于每一个半循环中,先供应包含金属元素的前驱物至反应腔体内,再选择性地供应冲洗气体至该反应腔体内,其中元件置于反应腔体内。随后...
  • 所公开的示例涉及使用原子层沉积(ALD)以自下而上的方式实施部分间隙填充处理。一示例提供了一种在衬底中的间隙的部分填充方法。该方法包括:将硅氮化物次保形层沉积在间隙的第一部分中且不沉积在间隙的第二部分中。第一部分从间隙的顶部延伸至在间隙内的...
  • 本发明公开了一种通过异丙醇稀释提升DM‑4000封孔剂对AT13陶瓷涂层封孔效果的方法。该方法通过使用异丙醇对DM‑4000(Dura‑Metal Sealer 4000)进行稀释(DM‑4000:异丙醇=1:0‑1:1)来改善其流动性,提...
  • 本发明公开了一种掩膜基板及镀膜温度控制方法,属于半导体制造技术领域。本发明的一种掩膜基板,包括基板本体以及在基板本体表面依次形成的抗反射层、遮光层和保护层,其中,抗反射层为梯度复合膜,遮光层为纳米晶Cr,遮光层由HiPIMS溅射沉积,晶粒尺...
  • 本发明公开了一种通过温度控制与超声辅助提升DM‑4000封孔剂对AT13陶瓷涂层封孔效果的方法。该方法通过在封孔过程中控制环境温度为40‑60℃,同时使用超声辅助法,提高了DM‑4000(Dura‑Metal Sealer 4000)对AT...
  • 本申请公开了沉积系统。沉积系统包括沉积设备。沉积设备包括设备主体、工艺通道、清洗通道和沉积射频模组。设备主体具有工艺腔体,工艺腔体用于容置载板,且可供载板出入。工艺通道与工艺腔体连通,用于通入工艺气体。多个清洗通道围绕工艺通道,清洗通道分别...
  • 本实用新型公开了一种蒸发机构,蒸发机构包括蒸发主体以及第二蒸发容器,蒸发主体包括发热体和第一蒸发容器,发热体内设置有蒸发槽,第一蒸发容器设置于蒸发槽内;第二蒸发容器安装于蒸发主体上并位于第一蒸发容器一侧。本实用新型解决了不同熔点材料分离式蒸...
  • 本申请公开一种双腔室镀膜设备以及镀膜方法,其中双腔室镀膜设备包括ALD腔、与ALD腔内部连通的第一泵以及设置于ALD腔内的第一承载台和第一加热装置,第一承载台用于承载基体;PVD腔、与PVD腔内部连通的第二泵以及设置于PVD腔内的第二承载台...
  • 本实用新型公开了一种锌锅挡渣装置,包括外框架、矩形挡渣板和内延伸挡条,所述外框架的两端通过安装座安装有伺服电机且伺服电机的输出轴连接丝杆,所述丝杆上套设有丝块,所述丝块内通过连接块连接有矩形挡渣板且矩形挡渣板的顶端内侧焊接有内延伸挡条,所述...
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