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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种螺栓自动化生产装置,包括镀锌液槽、电加热底板、温度感应器、升降导轨、电动升降滑块、镀锌支架、旋转轴承、旋转网筒、辅助挡板、螺旋形桨叶、下旋转齿轮、传动链条、上旋转齿轮、旋转电机、弧形顶板和控制中枢,通过旋转电机驱动旋转网筒旋...
  • 提供了一种沉积掩模及用于制造其的方法和电子装置。沉积掩模包括:掩模基底,包括半导体晶圆;第一涂覆膜,在掩模基底上;以及第二涂覆膜,在第一涂覆膜上,并且包括交替地布置的孔图案和掩模图案,其中,孔图案的上部宽度小于孔图案的下部宽度。
  • 本申请涉及弯公屏蔽网塑胶加工技术领域,更具体地说,涉及一种用于弯公屏蔽网塑胶的化学镀液、弯公屏蔽网塑胶PVD化学镀铜工艺,该化学镀液以水为溶剂,包含铜盐、还原剂、促进剂、表面活性剂、乙酸铋、稳定剂、5, 5'‑二甲基‑2, 2'‑联吡啶、加...
  • 本发明提供了一种减少纯锌镀液内部悬浮渣的方法,属于轧钢领域。所述方法包括:将热轧板进行冷轧,并控制所述热轧板的表面粗糙度,得到具有设定表面粗糙度的钢基板;将镍元素涂镀至具有设定表面粗糙度的所述钢基板的至少部分表面,后进行退火,得到预镀镍板;...
  • 本发明涉及PECVD设备清洗技术领域,本发明公开了一种PECVD设备清洗方法、系统、设备及存储介质,包括:基于膜层信息生成自由基调控参数和压力调控参数;基于自由基调控参数调整气体供应单元的气体配比及双远程等离子体源单元的等离子体源功率,以初...
  • 本发明公开一种真空灭弧室外表面构建涂层抗金属微粒吸附的方法,属于真空灭弧室及高压电气设备的表面防护与绝缘强化技术领域。该方法通过在灭弧室瓷壳外表面制备具有低表面能和微纳双尺度粗糙结构的无机氧化物涂层,抑制电场极化下金属微粒的吸附与聚集,从而...
  • 本发明公开了一种高耐磨复合PVD膜层及其制备方法,高耐磨复合PVD膜层包括:结合层,设置于基材的表面;TiN耐磨顶层,设置于结合层远离基材的一侧;颜色调节层,设置于结合层与TiN耐磨顶层之间。高耐磨复合PVD膜层的制备方法包括步骤:通入氧气...
  • 本发明公开了一种复合铜膜、制备方法及电子设备,其中复合铜膜,包括基材,以及至少形成于基材一侧的复合铜层,所述复合铜层顺次包括,以远离基层的方向观察:加硬层;打底层,厚度20‑50nm,通过多元合金反应溅射形成;功能层,为溅射形成的铜功能层,...
  • 本实用新型涉及镀锌工件表面余液清理技术领域,公开了一种镀锌工件表面余液清理装置,包括:所述清洗池底侧设置有控制机构,所述清洗池两侧靠上分别贯穿设置有第一摆动轴和第二摆动轴,所述清洗池一侧固定设置有传动机构,所述清洗池一侧靠后设置有驱动机构,...
  • 本申请涉及玻璃技术领域,具体涉及一种隔热玻璃、天幕结构及汽车,隔热玻璃包括衬底以及设置在衬底上的功能层,功能层包括至少一组隔热功能层,隔热功能层包括隔热层和介质钝化层,通过至少一组隔热功能层的设置,可以在实现高透光率的同时,提升隔热性能,该...
  • 本发明提供了一种用于铜配副的固体润滑薄膜及其制备方法和应用,属于润滑材料技术领域。本发明的用于铜配副的固体润滑薄膜包括依次层叠设置的金属粘结层、金属碳化物梯度层和掺杂类金刚石碳膜层,所述金属碳化物梯度层中碳的含量沿所述掺杂类金刚石碳膜层的方...
  • 本发明属于塑料表面处理技术领域,具体涉及一种塑料表面复合镀层结构的制备方法及其应用。所述制备方法如下:S1.将塑料基材进行等离子体清洗处理;S2.(1)通过第一磁控溅射处理在塑料基材表面形成底层过渡层Ⅰ;或,(2)通过涂覆有机硅烷浆料,固化...
  • 本发明公开了一种铝合金制品及其制备方法与磁控溅射设备,该铝合金制品包括:通入氮气,调整气压为第一气压值,同时开启Zr靶,沉积ZrN层;关闭氮气,通入C22H22气体,调整气压为第二气压值,同时开启Zr靶,沉积ZrC层;重复上述步骤,依次交叠...
  • 本发明是关于一种奥氏体不锈钢食品级管焊斑清洗钝化剂,其按照质量份包括如下组份:络合剂:0.2‑1.2份、封闭剂:0.5‑2.5份、有机酸:9.5‑18份、氧化剂:1‑5份、配位剂:1‑5份、缓蚀剂:0.2‑2份、活性剂:0.4‑1.5份和水...
  • 本发明公开了一种含氧化铬层和氮化物层的复合涂层切削刀具,包括刀具基体和设于刀具基体上的复合涂层,所述复合涂层包括自刀具基体表面向外依次设置的TiAlN底层、TiAlSiN层、第一CrON过渡层、Cr22O33层、第二CrON过渡层、TiSi...
  • 本发明公开了一种超平整铜镍合金单晶晶圆的批量制备方法,属于单晶合金材料的制备领域。本发明的通过基于“先镍后铜”双层磁控溅射,配合插槽式多片退火载具的批量制备工艺,在蓝宝石衬底上实现4英寸级别的铜镍单晶晶圆的批量制备(10片以上),具有可调控...
  • 本发明涉及防护涂层领域,具体涉及一种具有细柱状晶结构的Cr基防护涂层、其制备方法及应用。本发明通过设计Cr100‑a‑b100‑a‑bXaaMbb组分(X=Al/Si,M=Y/Ce/La/Nd,0≤a≤10, 0.1≤b≤8.5),通过控制...
  • 本申请涉及半导体技术领域,公开一种用于交叉流的半导体处理设备,包括反应腔和气体传输系统,所述气体传输系统连通所述反应腔,所述气体传输系统包括混合器,所述混合器连接有至少一组气体传输管路,其中,任意一组气体传输管路包括辅助气体管路和工艺气体管...
  • 本申请涉及一种选择性原子层沉积方法,包括以下步骤:S1、提供衬底,所述衬底的表面包括相邻设置的介电材质区域和金属材质区域;S2、将抑制剂旋涂于所述衬底的属材质区域形成抑制层,所述抑制剂包括长链烷基硫醇,所述长链烷基硫醇中烷基碳链的碳原子≥1...
  • 本发明提供了一种晶圆升降装置及一种反应腔室。该晶圆升降装置包括多根顶针及升降机构。该多根顶针的第一端位于加热盘的下侧,而第二端经由分布于加热盘的顶针过孔,延伸到加热盘的上侧。该顶针朝向顶针过孔的表面设有至少一个凹陷部,以收集沉积副产物。该升...
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