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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种柔性非晶合金基薄膜及其制备方法
    一种柔性非晶合金基薄膜及其制备方法_长三角物理研究中心有限公司_202511761573.0
    本发明涉及电加热薄膜技术领域，特别是一种柔性非晶合金基薄膜及其制备方法，制备时以FeSiB靶和Ag靶作为溅射靶材，以柔性膜为基材，通过磁控溅射的方式，在基材的表面交替沉积FeSiB层和FeSiBAg层。通过FeSiB层和FeSiBAg层交替...
    2026-01-13
  • 用于低介电膜沉积的前体
    用于低介电膜沉积的前体_朗姆研究公司_202480039981.2
    提供用于从为所需掺杂剂的单一源的氟碳硅烷、氟硅烷或碳硅烷前体中沉积低介电常数掺杂氧化硅膜的等离子体增强原子层沉积方法及装置。可通过利用具有至少一直接硅氟键或经由连接基连接至硅的氟的硅前体实现保形沉积。方法亦可包括氟碳氨基硅烷或氟氨基硅烷。
    2026-01-13
  • 一种耐高温、长寿命环境障涂层粘结层及其制备方法
    一种耐高温、长寿命环境障涂层粘结层及其制备方法_中国科学院上海硅酸盐研究所_202511379161.0
    本发明涉及一种耐高温、长寿命环境障涂层粘结层及其制备方法。所述耐高温、长寿命环境障涂层粘结层包括沉积于基材表面的稀土金属Y改性Si涂层；其中：所述稀土金属Y改性Si涂层的相组成包括YSi22、YSi中的至少一种，元素组成包括Y：60～65w...
    2026-01-13
  • 一种减震器活塞杆表面粗糙度强化处理装置
    一种减震器活塞杆表面粗糙度强化处理装置_扬州德华尔汽车科技有限公司_202423261849.2
    本实用新型公开了一种减震器活塞杆表面粗糙度强化处理装置。包括清洗池、浸泡池、干燥箱以及移动机构，移动机构架设于依次排列的清洗池、浸泡池和干燥箱，浸泡池内置有盐液，移架机构包括若干支撑架，支撑架组合排列并安装有导轨安装板，导轨安装板垂直向下安...
    2026-01-13
  • 一种具有清洁装置的PECVD设备
    一种具有清洁装置的PECVD设备_江苏首芯半导体科技有限公司_202511510678.9
    本说明书实施例提供一种具有清洁装置的PECVD设备，其中主清洁通路连接远程等离子体源与设备腔室的顶部喷淋板入口，用于利用清洁气体对设备腔室的核心区域进行清洁；辅助清洁通路连接主清洁通路与设备腔室的侧壁入口，用于利用清洁气体对设备腔室的死角区...
    2026-01-13
  • 化学气相沉积设备
    化学气相沉积设备_中微半导体设备(上海)股份有限公司_202423319091.3
    本实用新型提供一种化学气相沉积设备，具有热退火功能，化学气相沉积设备包括：反应腔；底座，位于所述反应腔内部，所述底座内设置加热模块，用于将所述底座上承载的衬底加热至第一温度；工艺气体供应装置，位于所述反应腔外部，用于提供工艺气体；进气装置，...
    2026-01-13
  • 一种蒸发镀膜设备颗粒料填充系统
    一种蒸发镀膜设备颗粒料填充系统_北京北方华创真空技术有限公司_202511301228.9
    本申请公开了一种蒸发镀膜设备颗粒料填充系统，涉及蒸发镀膜的技术领域，颗粒料填充系统设置在真空腔室内，真空腔室内还设置有卷绕系统，颗粒料填充系统位于卷绕系统的正下方，包括储料部，储料部底部开设有出料口；传送带，首尾相连且设置于出料口下方；驱动...
    2026-01-13
  • MPCVD微波单晶生长压力控制装置、生长设备及使用方法
    MPCVD微波单晶生长压力控制装置、生长设备及使用方法_内蒙古郡瑞科技有限公司_202511614937.2
    本申请提供一种MPCVD微波单晶生长压力控制装置及设有该压力控制装置的生长设备，包括炉体和真空泵，其特征在于，在炉体和真空泵之间设有过滤器，且在所述过滤器的两端构置有两条用于连通所述炉体与所述真空泵的旁侧管道，且两条所述旁侧管道的进气口和出...
    2026-01-13
  • 缓冲装置
    缓冲装置_中微半导体设备(上海)股份有限公司_202520107111.6
    本实用新型公开了一种缓冲装置，设置在工艺腔和传输腔之间，包括缓冲腔，经由所述缓冲腔在所述工艺腔和传输腔之间传输晶圆，所述缓冲装置包括：气体供应装置，用于向所述缓冲腔内提供吹扫气体；抽气装置，用于抽出所述缓冲腔内的所述吹扫气体；控制器，分别与...
    2026-01-13
  • MOCVD装置及MOCVD沉积TiN的方法
    MOCVD装置及MOCVD沉积TiN的方法_重庆芯联微电子有限公司_202511237280.2
    本发明提供一种MOCVD装置及MOCVD沉积TiN的方法，装置通过旁路采样组件实时监测采样管道内副产物气体种类及浓度，结合膜厚监测模块获取沉积膜层厚度信息，利用闭环控制器动态调节气体流量、基座温度和沉积时间。沉积方法通过引入TDMAT、NH...
    2026-01-13
  • 真空镀膜机的镀膜控制系统
    真空镀膜机的镀膜控制系统_深圳市山禾乐科技开发有限公司_202511455227.X
    本发明涉及镀膜设备技术领域，具体是涉及真空镀膜机的镀膜控制系统，包括缓冲腔和设置于缓冲腔内部的真空腔，真空腔内还设置有放料组件；真空腔包括固定舱和移动舱，缓冲腔与真空腔之间留有过渡空间，缓冲腔上设置有能开启的舱门，通过缓冲腔的设置，在取放物...
    2026-01-13
  • 一种可获得高耐磨层的快速气体软氮化方法
    一种可获得高耐磨层的快速气体软氮化方法_山东新金发汽车零部件有限公司_202311271450.X
    本发明涉及软氮化工艺领域，尤其涉及一种可获得高耐磨层的快速气体软氮化方法。清洗干燥后的工装，装进提前升温的预氧化炉，预氧化温度为350‑450℃之间，预氧化主要目的是表面生成一层预氧化层，促进渗碳初始阶段氮化吸附速度，提高氮化速度，保证氮化...
    2026-01-13
  • 一种耐高温、抗氧化环境障涂层粘结层及其制备方法
    一种耐高温、抗氧化环境障涂层粘结层及其制备方法_中国科学院上海硅酸盐研究所_202511379120.1
    本发明涉及一种耐高温、抗氧化环境障涂层粘结层及其制备方法。所述耐高温、抗氧化环境障涂层粘结层包括沉积于基材表面的稀土金属Gd改性Si涂层；其中：所述稀土金属Gd改性Si涂层的相组成包括GdSi1.671.67、Gd22Si2.942.94中...
    2026-01-13
  • 一种隔离结构及化学气相沉积装置
    一种隔离结构及化学气相沉积装置_中微半导体设备(上海)股份有限公司_202520123428.9
    本实用新型提供了一种隔离结构及化学气相沉积装置，其中所述隔离结构设置于气相沉积装置的反应腔内，所述反应腔内设有加热装置，其包括：第一环形罩，其包含用于容纳所述加热装置的第一空间；第二环形罩，其套设在第一环形罩上；所述第二环形罩的环宽大于所述...
    2026-01-13
  • 一种感应式加热真空卷绕镀膜系统
    一种感应式加热真空卷绕镀膜系统_远东铜箔(宜宾)有限公司_202520223960.8
    本实用新型揭示了一种感应式加热真空卷绕镀膜系统，涉及基膜镀层技术领域，所述感应式加热真空卷绕镀膜系统包括基膜、放卷辊、收卷辊、镀膜鼓、等离子处理系统、深冷装置、感应式蒸发装置以及镀膜挡板；所述镀膜鼓设置于放卷辊与收卷辊之间；所述等离子处理系...
    2026-01-13
  • 一种汽车灯具壳体局部镀膜工装
    一种汽车灯具壳体局部镀膜工装_帝宝交通器材(南昌)有限公司_202310786226.8
    本发明涉及汽车灯具镀膜领域，尤其涉及一种汽车灯具壳体局部镀膜工装，金属蒸汽生成箱，所述金属蒸汽生成箱的顶端固定安装有两组竖直设置的固定杆，所述金属蒸汽生成箱的内部设有两组安装杆。本发明通过壳体吸附组件的设置，能够较为方便的实现对异形曲面汽车...
    2026-01-13
  • 一种高质量大厚度的二氧化硅膜层的制备方法
    一种高质量大厚度的二氧化硅膜层的制备方法_中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所_202311568372.X
    本发明涉及一种高质量大厚度的二氧化硅膜层的制备方法，属于硅基光子器件制备技术领域。本发明的目的是为了解决现有技术存在的大厚度和高质量、高性能膜层无法兼顾的问题，提供一种高质量大厚度的二氧化硅膜层的制备方法；该方法通过干湿氧化过程与高温退火结...
    2026-01-13
  • 一种齿圈涂层、制备方法及内啮合齿轮泵
    一种齿圈涂层、制备方法及内啮合齿轮泵_诚联恺达(河北)科技股份有限公司_202511335133.9
    本发明属于机械零部件表面处理技术领域，涉及一种齿圈涂层、制备方法及内啮合齿轮泵。本发明提供了一种用于内啮合齿轮泵齿圈壳体界面的真空镀涂层技术及制备方法，该技术采用多层复合结构设计，包括金属底层、氮化物过渡层和类金刚石碳功能层，通过材料组合和...
    2026-01-13
  • 一种边缘钝化反应设备
    一种边缘钝化反应设备_湖南红太阳光电科技有限公司_202511532824.8
    本发明公开了一种边缘钝化反应设备，包括内部设有反应炉管的炉体；所述反应炉管的两端分别设有进气口和抽气口，所述反应炉管上方设有喷淋板，且喷淋板与进气口连通，以实现工艺气体经喷淋板匀流扩散后再分布至反应炉管内；所述反应炉管内部设有放电部件，所述...
    2026-01-13
  • 屏蔽罩套件和沉积设备
    屏蔽罩套件和沉积设备_深圳市新凯来工业机器有限公司_202511460268.8
    本申请提供一种屏蔽罩套件和沉积设备，屏蔽罩套件用于沉积设备，屏蔽罩套件包括屏蔽罩本体和隔离环，屏蔽罩本体包括围合形成反应空间的屏蔽罩侧壁，隔离环包括隔离本体，隔离本体设于屏蔽罩侧壁朝向反应空间的内表面，且朝屏蔽罩套件的中心延伸。利用本申请提...
    2026-01-13
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