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最新专利技术
  • 一种高光抛光设备及基于机械臂的自动化高光工艺
    一种高光抛光设备及基于机械臂的自动化高光工艺_深圳市宇星鸿精密科技有限公司_202610173141.6
    本发明涉及抛光设备技术领域，具体是一种高光抛光设备及基于机械臂的自动化高光工艺，包括机架，机架上固定有用于放置工件的加工台，加工台上方设置有升降架，升降架通过第一限位组件与机架滑动连接，并通过安装在机架上的第一驱动装置驱动升降；升降架上固定...
    2026-04-11
  • 一种微流道的激光辅助磨料流抛光方法及磨料流制备
    一种微流道的激光辅助磨料流抛光方法及磨料流制备_华南理工大学_202511749493.3
    本发明公开了一种微流道的激光辅助磨料流抛光方法及磨料流制备；将具有微流道的工件固定于工作台上，在微流道的内腔填入磨料流；将激光束聚焦于微流道横截面的几何中心区域，并预设激光参数；在填充有磨料流的微流道端口上覆盖透明约束板，使磨料流被密封限定...
    2026-04-11
  • 一种数控柔性力控抛光滚压设备
    一种数控柔性力控抛光滚压设备_西钛珂(上海)工业技术有限公司_202511892130.5
    本发明公开了一种数控柔性力控抛光滚压设备摘要：本发明涉及机械制造精密抛光和表面强化领域，尤指一种数控柔性力控抛光滚压设备，包括多轴运动控制平台，柔性力控抛光滚压头，抛光滚压工具，驱动控制模块。本发明实现了一种复杂工件表面高精度高表面质量的数...
    2026-04-11
  • 一种集成离子聚合物金属复合材料驱动的抛光装置与方法
    一种集成离子聚合物金属复合材料驱动的抛光装置与方法_哈尔滨理工大学_202511932934.3
    本发明属于超精密抛光技术领域，公开了一种集成离子聚合物金属复合材料驱动的抛光装置与方法。所述装置包括工作台、控制器、机器人、主轴夹具、抛光主轴、集成离子聚合物金属复合材料气囊抛光头、工件、光学平台、微型应变片压力检测装置。所述抛光头采用多层...
    2026-04-11
  • 一种保温杯抛光机加工路径的实现方法
    一种保温杯抛光机加工路径的实现方法_浙江金维克家庭用品科技有限公司_202511950694.X
    本发明涉及工业制造技术领域，公开了一种保温杯抛光机加工路径的实现方法，包括：读取订单信息确定目标外观要求、加工策略与初始加工路径；在杯体外表面形成均匀可擦除标记层作为覆盖参照；夹持旋转杯体并按固定角度间隔采集外表面图像；统计标记层颜色深浅并...
    2026-04-11
  • 一种碳化硅晶圆卡盘的加工方法及其装置
    一种碳化硅晶圆卡盘的加工方法及其装置_浙江六方半导体科技有限公司_202511973486.1
    本发明涉及一种碳化硅晶圆卡盘的加工方法及其装置，加工方法包括步骤S1.1至步骤S2.5，通过对碳化硅晶圆卡盘原始胚料、粗加工坯料、精加工坯料”三个阶段进行热处理、电处理，从而消除精加工坯料内部的应力，再通过对碳化硅晶圆卡盘半成品的表面进行抛...
    2026-04-11
  • 一种修整8英寸硅片抛光站陶瓷盘的方法
    一种修整8英寸硅片抛光站陶瓷盘的方法_杭州中欣晶圆半导体股份有限公司_202512037297.X
    本发明涉及半导体制造技术领域，尤其是一种修整8英寸硅片抛光站陶瓷盘的方法，包括以下步骤：步骤1、陶瓷盘受入：跳过机台的硅片贴附工序，实现空陶瓷盘机台运转；步骤2、使用现有抛光机，在抛光头增添若干层与加工抛光头直径相同的配重块并固定，利用配重...
    2026-04-11
  • 一种阀门密封件加工用打磨抛光装置
    一种阀门密封件加工用打磨抛光装置_天津市广顺源机械制造有限公司_202610003956.X
    本发明涉及阀门密封件加工领域，公开了一种阀门密封件加工用打磨抛光装置，包括机身，安装在所述机身中部的打磨抛光机、安装在所述机身中部的工作台，所述工作台的上部设置有用于夹持打磨抛光工件的夹持机构；所述夹持机构包括设置在所述工作台上部的基座，所...
    2026-04-11
  • 一种铝单板防爆粉尘的湿式全平面自动抛光装置
    一种铝单板防爆粉尘的湿式全平面自动抛光装置_吉祥铝业(长兴)有限公司_202610039085.7
    本发明公开了一种铝单板防爆粉尘的湿式全平面自动抛光装置，涉及工件抛光领域，包括抛光箱主体，所述抛光箱主体的顶端固定连接有顶护板，所述抛光箱主体的内部设置有两排高低交错的抛光轮，所述抛光轮的底端皆设置有伺服电机，所述抛光箱主体底端的内壁上安装...
    2026-04-11
  • 一种风力发电法兰加工用拉丝抛光装置
    一种风力发电法兰加工用拉丝抛光装置_天津金海兴业科技有限公司_202511970640.X
    一种风力发电法兰加工用拉丝抛光装置，包括底板、固定支架，固定支架有两个，均通过焊接固定安装在底板上，其中的一边的固定支架上设有滑槽，滑槽内滑动安装有活动滑槽架，活动滑槽架上滑动安装有输送架，活动滑槽架的两侧设有延伸杆，延伸杆与液压缸Ⅰ的活塞...
    2026-04-11
  • 一种用于球阀加工抛光装置
    一种用于球阀加工抛光装置_江苏友拓精密科技有限公司_202610156725.2
    本发明提供一种用于球阀加工抛光装置，涉及球阀加工技术领域，包括支座机构，所述支座机构上安装有抛光机构，所述支座机构上还安装有定位机构；所述支座机构包括下托板，所述下托板上表面边缘处固接有滑环，所述滑环一侧开设有敞开，通过上述技术方案，其目的...
    2026-04-11
  • 一种圆柱碳纤维辊的镜面抛光机
    一种圆柱碳纤维辊的镜面抛光机_苏州健睿电子机械有限公司_202610199916.7
    本申请公开了一种圆柱碳纤维辊的镜面抛光机，属于镜面抛光机领域，该圆柱碳纤维辊的镜面抛光机，包括底座，所述底座的顶端一侧固定有支撑板，所述底座的顶端另一侧嵌固有回收装置，所述底座的顶端三个侧面均固定有挡板，所述挡板的顶端铰接有盖板，所述支撑板...
    2026-04-11
  • 基于涡流动力学调控的球面滚针轴承及其内球面微观形貌重构方法
    基于涡流动力学调控的球面滚针轴承及其内球面微观形貌重构方法_上海振华轴承总厂有限公司_202610215214.3
    本发明涉及高端轴承精密制造领域，具体涉及基于涡流动力学调控的球面滚针轴承及其内球面微观形貌重构方法，其技术方案是：将工件与磨料按预设体积比装入离心液抛装置，并向离心液抛装置的内腔中注入工作液，后依次加入定量的水基研磨剂与表面改性光亮剂；启动...
    2026-04-11
  • 一种蝶阀生产用抛光装置
    一种蝶阀生产用抛光装置_江苏苏盐阀门机械有限公司_202610218494.3
    本发明涉及蝶阀生产技术领域，并公开了一种蝶阀生产用抛光装置，包括机架，所述机架上固定有两个侧板，两个所述侧板之间设置有可转动的磁力抛光机，所述磁力抛光机上设置有料桶，所述磁力抛光机的侧面固定有两个转轴，两个所述转轴分别转动安装在两个侧板上，...
    2026-04-11
  • 化学机械抛光设备及抛光方法
    化学机械抛光设备及抛光方法_西安奕斯伟材料科技股份有限公司_202511755819.3
    本公开涉及化学机械抛光设备及抛光方法。在一方面中，提供了一种化学机械抛光设备，该化学机械抛光设备包括：抛光台，其上设置有抛光垫；抛光头，用于抵靠抛光垫保持待抛光的晶圆；传感器，用于检测抛光垫的表面状态；流体输送装置，用于向抛光垫的表面施加流...
    2026-04-11
  • 一种晶圆研磨减薄装置及方法
    一种晶圆研磨减薄装置及方法_深圳市方达研磨技术有限公司_202512052435.1
    本发明公开了一种晶圆研磨减薄装置及方法，包括机箱、支撑架、主轴外壳、主轴、主轴驱动电机、粗磨砂轮、精磨砂轮、滑动板、晶圆治具以及高精度接触式测厚仪，主轴外壳分别与支撑架上下滑动连接，主轴分别转动地设置于主轴外壳内，主轴驱动电机分别设置于主轴...
    2026-04-11
  • 一种发电机励磁碳刷研磨装置
    一种发电机励磁碳刷研磨装置_国投钦州第二发电有限公司_202610067980.X
    本发明属于发电机辅助设备技术领域，具体涉及一种发电机励磁碳刷研磨装置，包括：主体框架，采用矩形框架结构；多向滑动机构，设置在主体框架底部，用于实现碳刷固定平台在水平面内移动；碳刷固定平台固定在多向滑动机构上，其上方设有2组碳刷夹持单元；研磨...
    2026-04-11
  • 一种数控精密双工位研磨机
    一种数控精密双工位研磨机_洛阳市润智数控设备有限公司_202610164110.4
    本发明涉及抛光研磨设备领域，公开了一种数控精密双工位研磨机，包括：研磨台，其上开设有研磨通道；设于研磨通道内的旋转台，旋转台的两侧分别设有定位环；本申请通过在研磨台内设置研磨通道，并在研磨通道内布置具有两个定位环的旋转台，使工件能够沿同一运...
    2026-04-11
  • 一种可适配工件多角度内外径研磨机
    一种可适配工件多角度内外径研磨机_无锡齐恩科技有限公司_202511878955.1
    本申请涉及研磨设备领域，尤其是涉及一种可适配工件多角度内外径研磨机，包括机床，机床上滑动设置有研磨台，机床上设置有驱动研磨台滑移的操纵组件，研磨台上转动设置有转轴，转轴的端部同轴且可拆卸设置有研磨轮，研磨台上设置有驱动转轴转动的主驱件，机床...
    2026-04-11
  • 一种晶圆处理方法
    一种晶圆处理方法_株洲中车时代半导体股份有限公司_202411242738.9
    本发明提供一种晶圆处理方法，包括：提供晶圆，晶圆具有图形区和包围图形区的测试区；形成测高块，测高块位于测试区的一侧且位于晶圆的正面一侧；在晶圆的正面一侧形成覆盖测高块和图形区的保护膜；测量保护膜的覆盖测高块的部分的上表面具有第一高度；对保护...
    2026-04-11
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