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  • 本发明涉及太阳能电池镀膜技术领域,具体是异质结太阳能电池PVD段缩短首阴极镀膜距离的提效方法,包括以下步骤:S1、对硅片进行吸杂制绒处理;S2、在CVD设备中依次镀制背面本征层、正面本征层、正面掺杂层和背面掺杂层;S3、将硅片送入PVD设备...
  • 本发明公开了一种基于Zn0.90.9Fe0.10.1O/MoO33异质结的紫外光电探测器及其制备方法和应用,属于光探测技术领域。本发明解决了现有ZnO作为紫外光电检测材料使用时存在的响应速度和探测率待提高的问题。本发明通过磁控溅射方法将Mo...
  • 本发明公开了一种采用一次外延过程同时获得刚性太阳电池和柔性太阳电池的方法,从单一锗晶圆上,通过一次外延过程,可以获得一个高性能的刚性三结砷化镓太阳电池和一个高性能的柔性砷化镓三结/双结太阳电池,单次昂贵的外延生长过程可同时产出两片完整的、高...
  • 本申请实施例提供一种电池串的制备方法、焊带和光伏组件,其中电池串的制备方法,包括:接收电池片基体;在电池片基体的表面镀设第一状态导电浆料,形成细栅和/或主栅图案,第一状态导电浆料的粘度为50 Pa·s~100 Pa·s、触变指数为1.5~3...
  • 本申请公开了一种背入射式光电探测器及其制备方法,可用于半导体器件制备领域,该方法中,首先,将完成正面工艺的光电探测器晶圆倒置于绝缘基底上进行键合;而后,通过刻蚀去除光电探测器晶圆衬底侧预设区域内的衬底以及部分功能层,暴露光电探测器晶圆中的金...
  • 本申请涉及一种背接触电池的制备方法、背接触电池和光伏组件。背接触电池的制备方法包括:提供硅基底,硅基底包括沿其厚度方向相对设置的第一面和第二面,在第一面形成第一纹理结构,对硅基底进行第一扩散处理,在硅基底的第一面形成具有第一导电类型的第一扩...
  • 本发明涉及一种硅基碲镉汞材料、红外焦平面探测器及其制备方法。本发明的硅基碲镉汞材料,包括:硅衬底和生长在在所述硅衬底正面的碲化镉缓冲层和碲镉汞层;所述硅衬底背面设置有光学超表面结构,所述光学超表面结构由周期排列的微结构单元组成;所述微结构单...
  • 本发明公开了一种超快光电导材料结构,其特征在于,包括衬底层和稀土掺杂的In1‑x‑1‑x‑yyGaxxAlyyAs半导体功能层,其中在稀土掺杂的In1‑x‑y1‑x‑yGaxxAlyyAs半导体功能层中,稀土材料以岛状结构分布,且稀土材料形...
  • 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开了晶硅热电子太阳能电池及光伏组件,包括硅衬底,硅衬底包括P型区和位于P型区光照面一侧的n型区;硅衬底的光照面设置有银收集栅电极,硅衬底的背侧设置有银引出电极;硅衬底内在银收集栅电极相对应的位置设置有Ag...
  • 本发明适用于光伏技术领域,提供了一种太阳能电池、电池组件及光伏系统,该太阳能电池包括:硅基底,硅基底的背光面上包括沿第一方向交替设置的掺杂区域,相邻的掺杂区域之间设置沟槽区域,沟槽区域与相邻掺杂区域之间具有斜面,斜面上至少具有一个台阶面。使...
  • 本发明公开了一种无主栅背接触电池组件及光伏系统,所述无主栅背接触电池组件包括沿第一方向排布的无主栅背接触电池片,所述无主栅背接触电池片的背光面具有沿第一方向交替排列且极性相反的栅线、沿第二方向交替排列且极性相反的pad点,所述pad点与极性...
  • 本发明提供了一种太阳能电池及其制作方法,包括衬底;外延结构,所述外延结构设于所述衬底的一侧表面上;欧姆接触层,所述欧姆接触层设于所述外延结构背离所述衬底的表面;栅线电极,所述栅线电极与所述欧姆接触层形成接触;背电极,所述背电极设于所述衬底背...
  • 本申请公开了一种太阳电池及其制备方法、光伏组件,该太阳电池包括切片电池主体,切片电池主体具有切割面,切割面上覆盖有钝化层,钝化层含有X‑H键和/或X‑O‑H键,X为钝化层中与H原子键合的元素;切片电池主体包括捕氢层,捕氢层由捕氢原子自切割面...
  • 本申请涉及光电器件技术领域,提供一种高饱和光电二极管封装结构及光纤射频传输系统。高饱和光电二极管封装结构包括:光电二极管,光电二极管包括顶部电极和底部电极;高导热衬底,光电二极管以倒装方式设置于高导热衬底上;高导热衬底上设置有与顶部电极电连...
  • 本申请适用于太阳能电池技术领域,提供了一种太阳能电池及其制备方法、光伏组件及光伏系统,可以提高太阳能电池的发电效率。包括:硅基底;硅基底的受光面具有若干凹陷部和若干凸起部;凸起部和凹陷部交替排列;凹陷部和凸起部的表面形成有绒面结构。
  • 本发明提供一种LED外延结构及其制备方法、LED芯片,涉及半导体器件技术领域,LED外延结构包括衬底以及层叠于衬底之上的缓冲层、未掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、电子阻挡层和P型GaN层,多量子阱层包括浅量子阱层、层叠于浅量子阱层之...
  • 本发明涉及LED技术领域,具体涉及一种显示屏用红光LED外延片及其制备方法,该红光LED外延片自下而上依次为GaAs衬底、缓冲层、DBR反射层、N型限制层、第一N型双稀释波导层、N型单稀释波导层、第二N型双稀释波导层,应变改善型发光有源层,...
  • 本发明公开了一种绿光Micro‑LED外延片及其制备方法、Micro‑LED,涉及半导体光电器件领域。绿光Micro‑LED外延片依次包括衬底、缓冲层、第一应力平衡层、非掺杂GaN层、第二应力平衡层、N型GaN层、电子调控层、多量子阱层和P...
  • 本发明适用于半导体LED显示技术领域,提供了一种高色域LED芯片结构及其制备方法,高色域LED芯片结构包括从下至上依次设置的衬底材料、缓冲层、第一半导体层、绿波量子阱层、电子空穴调节层、蓝波量子阱层、第二半导体层、电流阻挡层和电流扩展层,还...
  • 提供了一种发光基板及其制备方法和显示装置。发光基板包括衬底基板和设置在衬底基板上的多个发光芯片;发光芯片包括:第一电极和位于第一电极远离衬底基板一侧的发光主体,多个发光主体在第一方向和第二方向上成阵列排布;发光主体包括依次远离衬底基板设置的...
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