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最新专利技术
  • 一种偏心研磨球离心成型的制作方法及加工设备
    一种偏心研磨球离心成型的制作方法及加工设备_浙江葆普阀门制造有限公司_202511671739.X
    本发明提供了一种偏心研磨球离心成型的制作方法及加工设备，制作方法通过超细处理制得浆料，经离心喷雾造粒干燥为粉料，再干压成型为坯体并破碎成颗粒；筛选后修整棱角，最后通过滚动成型、研磨制成偏心研磨球。加工设备包括升降系统及研磨工装，工装下方设有...
    2026-03-11
  • 一种硼-氧键改性聚氨酯磨料流及其制备方法
    一种硼-氧键改性聚氨酯磨料流及其制备方法_郑州三磨超硬材料有限公司_202511616542.6
    本发明公开一种硼‑氧键改性聚氨酯磨料流及其制备方法，通过在该聚氨酯体系中引入动态硼‑氧键(B‑O)以及长‑短链低聚物扩链共交联结构，使材料在宏观表现上具备优异的拉伸变形能力与回弹性能；该结构在受力时可发生可逆键合与重排，有效分散应力并避免永...
    2026-03-11
  • 一种新型偏心研磨机
    一种新型偏心研磨机_苏州磨镜客研磨科技有限公司_202511773768.7
    本发明公开了一种新型偏心研磨机，包括机体、马达、偏心机构、摇臂及限位机构。摇臂与偏心机构铰接，并设有用于安装打磨头的夹头。限位机构包括第一限位块和第二限位块，用于在摇臂摆动至预设位置时进行阻挡限位。优选方案中，偏心机构为可调节偏心距的偏心轴...
    2026-03-11
  • 抛光垫的加工方法和加工装置
    抛光垫的加工方法和加工装置_万华化学集团股份有限公司_202511839676.4
    本申请涉及一种抛光垫的加工方法和加工装置。该加工方法包括对目标抛光垫进行至少一轮砂光粗加工，再对目标抛光垫进行至少一轮精砂光加工；各轮砂光粗加工与各轮砂光精加工均包括以下步骤：利用传送带将目标抛光垫在砂带下方运动，调整传送带与砂带间距，使目...
    2026-03-11
  • 多工位钻针动态定位与高精度研磨机构
    多工位钻针动态定位与高精度研磨机构_苏州钜崴自动化有限公司_202511883312.6
    本发明公开了多工位钻针动态定位与高精度研磨机构，包括研磨片、钻针、卡盘、壳体、调节部和若干自转部，自转部包括第一铰接座、第二铰接座。自转部通过第一铰接座转动连接在壳体上。调节部包括、连杆、横杆、丝杆、调节板和导向杆，转动座中转动连接丝杆，调...
    2026-03-11
  • 全自动双砂轮数控卧式芯取机
    全自动双砂轮数控卧式芯取机_淮安晶致光学仪器设备有限公司_202512034779.X
    本发明涉及光学镜片加工技术领域，特别涉及全自动双砂轮卧式数控芯取机，该机台有搬送机构手臂将镜片搬送至装夹机构进行对位，对位后将镜片搬送至镜片轴进行甩芯，而后进行镜片外径研磨，左右倒角研磨，研磨完成后搬送机构手臂，将打磨好的镜片直接搬送至料盘...
    2026-03-11
  • 抛光终点检测方法、化学机械抛光设备及存储介质
    抛光终点检测方法、化学机械抛光设备及存储介质_华海清科(北京)科技有限公司_202610019802.X
    本申请提供了一种抛光终点检测方法、化学机械抛光设备及存储介质，属于化学机械抛光领域，该方法包括：获取化学机械抛光过程中晶圆表面的反射光谱；采用预设修正系数对反射光谱进行修正，得到修正反射光谱；基于修正反射光谱与对应阈值的比较结果，将修正反射...
    2026-03-11
  • 晶圆减薄方法、研磨控制装置、以及相关设备
    晶圆减薄方法、研磨控制装置、以及相关设备_长电微电子(江阴)有限公司_202511913202.X
    一种晶圆减薄方法、研磨控制装置、以及相关设备，晶圆减薄方法采用研磨装置进行，研磨装置包括可旋转且周向上设有研磨部的研磨轮，晶圆减薄方法包括：使研磨轮上的部分研磨部与晶圆表面接触并驱动研磨轮旋转，以通过研磨轮上的研磨部对晶圆进行减薄处理；减薄...
    2026-03-11
  • 一种内孔高精度平面往复研磨工具及研磨系统
    一种内孔高精度平面往复研磨工具及研磨系统_眉山中车制动科技股份有限公司_202511973438.2
    本申请公开了一种内孔高精度平面往复研磨工具及研磨系统。该研磨工具包括气缸基体和小车基体，气缸基体内部设有气路，气路与供气管路连通，气缸基体的底部设有若干与气路连通的气缸筒，气缸筒内设有伸缩的单作用气缸活塞；小车基体的顶部为气缸作用端面，小车...
    2026-03-11
  • 晶片双面抛磨设备及抛磨方法
    晶片双面抛磨设备及抛磨方法_中科宏芯(常州)传感科技有限公司_202511657488.X
    本发明公开了一种晶片双面抛磨设备及抛磨方法，该晶片双面抛磨设备包括：下磨盘、上磨盘、限位盘；所述上磨盘与下磨盘相对设置；所述限位盘位于下磨盘和上磨盘之间，所述限位盘上形成有限位槽，所述限位槽贯穿于限位盘的上下表面，晶片放置于限位槽内，且限位...
    2026-03-11
  • 一种使用碳化硅衬底抛光液的持续抛光设备
    一种使用碳化硅衬底抛光液的持续抛光设备_安力科技(苏州)有限公司_202511986511.X
    本发明公开了一种使用碳化硅衬底抛光液的持续抛光设备，涉及晶圆抛光设备技术领域，包括设备主体，设备主体的内部固定安装有抛光液输送设备，设备主体内部的中间位置固定安装有抛光设备，设备主体内部远离抛光液输送设备的一侧固定安装有机械臂，还包括设置于...
    2026-03-11
  • 具有印刷粒子的研磨组合物及其制备方法
    具有印刷粒子的研磨组合物及其制备方法_南亚科技股份有限公司_202510339823.5
    本发明提供一种包括多个印刷粒子的研磨组合物及该些印刷粒子的制备方法。该研磨组合物包括一液态载体；以及分散于该液态载体中的多个印刷粒子。该些印刷粒子是透过增材工艺所制备的。
    2026-03-11
  • 微晶玻璃抛光用装夹装置及使用方法
    微晶玻璃抛光用装夹装置及使用方法_宜昌南玻硅材料有限公司_202511594515.3
    一种微晶玻璃抛光用装夹装置及使用方法，包括底座、活动长挡边、活动短挡边，底座设置有安装孔，安装孔与固定螺栓进行对接抛光机机头，固定长挡边和固定短挡边直角设置配合活动长挡边和活动短挡边夹紧，形成稳定定位区域；活动挡边设有通槽与夹紧螺栓可适配不...
    2026-03-11
  • 一种可自动提升翻转的研磨夹具
    一种可自动提升翻转的研磨夹具_苏州铼铂机电科技有限公司_202512037820.9
    本发明公开了一种可自动提升翻转的研磨夹具，包括提升机构、翻转机构、夹具体和支撑驱动臂，提升机构设有运动平台，运动平台带动翻转机构升降，翻转机构与运动平台通过横向的翻转轴连接，翻转机构上固定设置支撑驱动臂并共同以翻转轴为轴线翻转，支撑驱动臂包...
    2026-03-11
  • 一种多孔轴承气浮转台及减薄机
    一种多孔轴承气浮转台及减薄机_华研精科(北京)科技有限公司_202511825573.2
    本发明提供了一种多孔轴承气浮转台及减薄机，包括轴承体、旋转体、进气结构及排气结构。其中的上多孔止推轴承、下多孔止推轴承及多孔径向轴承实现了面源供气，从而在相应的位置形成均匀、连续的气膜，提供给旋转体刚度极高的气膜支承，提升转台在高速旋转时的...
    2026-03-11
  • 一种吸附件组
    一种吸附件组_杭州中为光电技术有限公司_202511448180.4
    本申请公开了一种吸附件组，涉及半导体制造技术领域，安装于支撑结构上，吸附件组包括结构板和设置于结构板中部柔性杆。柔性杆自临近结构板和支撑结构的连接位置朝远离该连接位置的方向延伸设置，柔性杆临近该连接位置的一端固定，另一端悬挑；结构板和柔性杆...
    2026-03-11
  • 一种清洗装置
    一种清洗装置_西安奕斯伟材料科技股份有限公司_202511659712.9
    本发明提供了一种清洗装置，属于半导体生产技术领域。该清洗装置应用于包括上定盘(1)和下定盘(2)的双面抛光设备，上定盘(1)和下定盘(2)的表面上均设置有抛光垫(3)，清洗装置包括：机械臂(4)一端设置有安装板(401)；多个喷头对(5)，...
    2026-03-11
  • 研磨垫修整控制方法及装置、存储介质、CMP设备
    研磨垫修整控制方法及装置、存储介质、CMP设备_华虹半导体制造(无锡)有限公司_202610016134.5
    一种研磨垫修整控制方法及装置、存储介质、CMP设备。所述方法包括：接收研磨垫修整配置信息；基于所述研磨垫修整配置信息，模拟所述研磨垫修整器在所述研磨垫表面的打磨轨迹并输出模拟结果，以基于所述模拟结果对研磨垫修整进行控制。采用上述方案，可以提...
    2026-03-11
  • 一种打磨设备的定量输送装置
    一种打磨设备的定量输送装置_安徽舜富精密科技股份有限公司_202610014736.7
    本发明公开了一种打磨设备的定量输送装置，属于打磨输送技术领域，包括安装架。本发明通过设置振动送料机构，能够将料斗内的磨料均匀、平稳地输送至分料盘进口，防止磨料在输送过程中发生堵塞或堆积，同时通过分料盘上的重量传感器能够实时、精确地检测落入其...
    2026-03-11
  • 一种挡尘组件及防尘打磨头
    一种挡尘组件及防尘打磨头_江苏中杰建兆智能装备有限公司_202610031261.2
    本发明涉及打磨头技术领域，特别是一种挡尘组件及防尘打磨头，包括第一壳体；第二壳体，其与所述第一壳体同轴设置，所述第二壳体的外径小于所述第一壳体的内径，所述第一壳体或所述第二壳体绕所述第二壳体的轴线旋转，所述第一壳体和第二壳体之间形成过渡腔室...
    2026-03-11
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