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最新专利技术
  • 具有鼻梁垫片和模块化透镜组件的图像光导
    具有鼻梁垫片和模块化透镜组件的图像光导_伊奎蒂公司_202480044272.3
    用于在公共视场内观看虚拟物体和真实世界物体的图像光导系统，包括：具有右眼镜圈部分、左眼镜圈部分和鼻梁部分的框架；连接到框架、可操作以发射图像承载光束的图像源；被配置为将图像承载光束导向眼盒的图像光导；与鼻梁部分的至少一部分接触的鼻梁垫片，其...
    2026-02-07
  • 用于包含光子集成电路的封装的电互连
    用于包含光子集成电路的封装的电互连_天体人工智能公司_202480045405.9
    一种系统级封装，包括：光子集成电路(PIC)，包括有源光子部件；以及堆叠在PIC上的电子集成电路(EIC)，EIC包括：电连接至接合垫的电部件，以及嵌入接合垫中并从接合垫突出的铜柱，铜柱与有源光子部件连接，而使得电部件电连接至有源光子部件。...
    2026-02-07
  • 光波导元件、光调制器及光发送装置
    光波导元件、光调制器及光发送装置_住友大阪水泥股份有限公司_202480042777.6
    本发明提供为了实现低功耗化而改善光波导中的光波的封闭的光波导元件。本发明的光波导元件(10A)具备由电光晶体构成的基板(120)、在基板(120)的上表面成膜的缓冲层(130)、由具有比构成基板(120)的材料高的折射率的材料构成且装载于缓...
    2026-02-07
  • 一种曲面调光膜、曲面调光玻璃及其制备
    一种曲面调光膜、曲面调光玻璃及其制备_浙江精一新材料科技有限公司_202480027877.1
    一种曲面调光膜、曲面调光玻璃及其制备方法，通过脉冲热击、热压成型平面调光膜的技术手段，制备具有预定大小和形状，即预定曲面函数Θ的曲面调光膜，并进一步使用与之对应的曲面玻璃，制备曲面调光玻璃，可避免使用平面调光膜在制备曲面调光玻璃时导致调光膜...
    2026-02-07
  • 液晶光控制装置
    液晶光控制装置_株式会社日本显示器_202480044695.5
    液晶光控制装置具有至少一个液晶面板，至少一个液晶面板包括：第一基板，设置有包括带状的图案的第一电极和覆盖第一电极的第一取向膜；第二基板，设置有包括带状的图案的第二电极和覆盖第二电极的第二取向膜；以及第一基板与第二基板之间的液晶层。液晶层具有...
    2026-02-07
  • 光调制器和具有能量转换层的基板
    光调制器和具有能量转换层的基板_埃尔斯达动力专利私人有限公司_202480037192.5
    一些实施方案针对用于光调制器的透明基板。光调制器具有光学层。透明基板具有施加在基板上的至少一个电极系统。所述电极系统包括基板侧电极、能量转换层和光学层侧电极的堆叠。光学层侧电极被布置用于调制光学层中的电场。能量转换层被配置为在基板外部的能量...
    2026-02-07
  • 用于车辆的带红外摄像头的显示装置
    用于车辆的带红外摄像头的显示装置_BHTC有限公司_202480034273.X
    本发明公开了一种用于车辆的带红外摄像头(32)的显示装置(10a)，该显示装置包括：电光显示器(12)，具有带显示表面(16)的前侧(14)和后侧(18)；背光单元(24)，与显示器(12)的后侧(18)相对设置，用于发射可见光。所述背光单...
    2026-02-07
  • 阵列基板和显示装置
    阵列基板和显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202480001029.3
    本公开提供一种阵列基板和显示装置。阵列基板包括多条第一信号线和多条第二信号线；第一栅极驱动模组与多条第一信号线电连接；第二栅极驱动模组与所述多条第二信号线电连接；多条第一信号线包括至少一条第一部分第一信号线和至少一条第二部分第一信号线；多条...
    2026-02-07
  • 阵列基板、显示面板及显示装置
    阵列基板、显示面板及显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202480001036.3
    本公开的阵列基板、显示面板及显示装置，包括衬底基板，衬底基板包括显示区和非显示区，非显示区包括位于显示区一侧的第一非显示区、与第一非显示区相对而置的第二非显示区、以及连接第一非显示区和第二非显示区的两个第三非显示区，其中，第一非显示区包括沿...
    2026-02-07
  • 压电电泳膜和显示器及其制造方法
    压电电泳膜和显示器及其制造方法_伊英克公司_202480044469.7
    低电压压电电泳膜和显示膜包括低剖面压电电泳膜和显示器。在一些实施方案中，压电电泳膜的压电材料可以在压电电泳膜的制造期间或之后用高压电场选择性地图案化。这样的膜具有高对比度，并且可用作防伪标记、认证膜或传感器。膜通常是柔性的。一些膜的厚度小于...
    2026-02-07
  • 用于生成纠缠光子的系统和方法
    用于生成纠缠光子的系统和方法_预视成像科技有限责任公司_202480044036.1
    提出了用于生成纠缠光子的系统和方法。所述系统和方法通常利用包含在微腔内的主体材料中的掺杂剂分子。所述掺杂剂分子通常与基态三重态(GST)电子流形相关联。当所述掺杂剂分子经受光时，所述掺杂剂分子的电子态被激发到激发态三重态(EST)电子流形。...
    2026-02-07
  • 透镜驱动装置、相机装置和光学仪器
    透镜驱动装置、相机装置和光学仪器_LG伊诺特有限公司_202480042880.0
    本发明的第一实施方式涉及透镜驱动装置，其包括：基部；覆盖件，覆盖件设置在基部上，并且包括顶板和侧板；AF承载件，AF承载件设置在覆盖件上；OIS承载件，OIS承载件设置在AF承载件中；第一磁体和第一线圈，第一磁体和第一线圈使AF承载件在光轴...
    2026-02-07
  • 微光刻投射曝光设备中的组件
    微光刻投射曝光设备中的组件_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480042658.0
    本发明涉及一种微光刻投射曝光设备中的组件，其中该组件(100、200、300、400)包含：光学元件(101、201、301、401)；至少一个重量补偿装置(110、210、310、410)，其具有用于产生磁场的无源磁路(111、211、3...
    2026-02-07
  • 反射镜组合件、具有反射镜组合件的照明光学单元、具有照明光学单元的照明系统以及具有照明系统的投射曝光设备
    反射镜组合件、具有反射镜组合件的照明光学单元、具有照明光学单元的照明系统以及具有照明系统的投射曝光设备_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480044009.4
    一种反射镜组合件(21)具有反射镜(27)，该反射镜具有反射镜主体(25)和反射表面(26)。用于该反射镜主体(25)的至少一个反射表面支撑部(2511)的旋转驱动装置(28)具有第一马达(29)和第二马达(30)。该第一马达(29)具有固...
    2026-02-07
  • 碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件
    碱性显影型树脂组合物、干膜、固化物和具有该固化物的电子部件_太阳油墨(苏州)有限公司_202580003513.4
    提供一种低挥发性、且分散性、感光性、显影性等性能优异的碱性显影型树脂组合物，其固化物的铅笔硬度和耐热性优异、其所形成的涂膜具有良好的指触干燥性。该碱性显影型树脂组合物含有：(A)环氧树脂、(B)含羧基乙烯基酯树脂、(C)光聚合引发剂、(D)...
    2026-02-07
  • 感光性组合物、图案膜及其制造方法、以及显示装置、光学材料及固体摄像元件
    感光性组合物、图案膜及其制造方法、以及显示装置、光学材料及固体摄像元件_JSR株式会社_202480044013.0
    一种感光性组合物，含有以下的成分(A)及成分(B)。(A)选自下述(A1)及(A2)中的一种以上的含Si的化合物(A1)包含具有碱可溶性基及聚合性基的结构单元a1、具有聚合性基的结构单元a2或具有碱可溶性基的结构单元a3的含Si的化合物(A...
    2026-02-07
  • 投射曝光系统的投射物镜和投射曝光系统
    投射曝光系统的投射物镜和投射曝光系统_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480043539.7
    本发明涉及投射曝光系统(1、101)的投射物镜(110)和投射曝光系统(1、101)，其包括具有光学元件(M3)和加强体(35、45、55、75.1、75.2)的光学模块(30、40、50、70、90)，其中光学元件(M3)和加强体(35、...
    2026-02-07
  • 对象保持器、载物台、光学元件和控制表面平整度的方法、以及它们在光刻方法或装置中的用途
    对象保持器、载物台、光学元件和控制表面平整度的方法、以及它们在光刻方法或装置中的用途_ASML荷兰有限公司_202480044320.9
    提供了一种被配置为支撑对象的对象保持器，对象保持器包括具有多个支撑元件的支撑表面，该支撑元件包括金属－Si多层、金属－Ge多层以及/或者氮化铬层，以经由金属－Si多层、金属－Ge多层以及/或者氮化铬层的热处理来提供各个支撑元件的可选择性改变...
    2026-02-07
  • 用于曝光衬底边缘的系统和方法及包括该系统的光刻设备
    用于曝光衬底边缘的系统和方法及包括该系统的光刻设备_ASML荷兰有限公司_202480045201.5
    本公开提供一种用于衬底边缘曝光的系统，包括：支撑台，所述支撑台用于支撑衬底且具有位于中心的开口，其中，所述支撑台被配置成热调节所述衬底；可旋转支撑单元，所述可旋转支撑单元能够在竖直方向上移动穿过所述支撑台的所述位于中心的开口；传感器，所述传...
    2026-02-07
  • 与套刻相关的计量方法
    与套刻相关的计量方法_ASML荷兰有限公司_202480045365.8
    一种计量方法，包括获得衬底上的第一层中的第一结构的第一绝对位置度量以及所述衬底的第二层中的第二结构的第二绝对位置度量；以及根据所述第一绝对位置度量和所述第二绝对位置度量确定以下一项或多项：曝光引起的第一层图案位移，描述由所述结构的曝光而产生...
    2026-02-07
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