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最新专利技术
  • 车灯投影系统及车辆
    车灯投影系统及车辆_歌尔光学科技(上海)有限公司_202511614599.2
    本申请公开了一种车灯投影系统及车辆，涉及汽车技术领域，该车灯投影系统包括：投影镜头组；数字微镜器件；第一光路单元，包括沿第一光路依次设置的第一光源组和第一准直透镜组，其中，第一光源组包括若干种不同颜色的色光单元以合成第一光；第二光路单元，包...
    2026-03-26
  • Micro-LED投影光学系统及其制造方法
    Micro-LED投影光学系统及其制造方法_金华觉远创智科技有限公司_202511449741.2
    本发明公开了一种Micro‑LED投影光学系统及其制造方法，涉及Micro‑LED半导体显示技术领域，包括镜片及Micro‑LED显示芯片，镜片上具有第一非球面及第一衍射面，第一衍射面置于第一非球面与Micro‑LED显示芯片之间，第一衍射...
    2026-03-26
  • 散热控制方法、装置、电子设备及存储介质
    散热控制方法、装置、电子设备及存储介质_深圳市臻火科技有限公司_202511532897.7
    本申请涉及一种散热控制方法、装置、电子设备及存储介质。所述方法包括：获取投影仪各组件的运行状态数据；其中，运行状态数据包括目标温度数据、目标环境数据、目标功耗数据及运行模式中的至少一种；基于运行模式从散热基准表中获取对应的基准参数；基于基准...
    2026-03-26
  • 一种双LCD投影仪光学装置
    一种双LCD投影仪光学装置_江西轰天炮光电科技有限公司_202511497279.3
    本发明提供了一种双LCD投影仪光学装置，涉及投影显示的技术领域，包括有第一光路模组和第二光路模组，所述第一光路模组和第二光路模组结构相同，均包括沿光路传播方向依次设置的光源、用于光束整形的菲尼尔透镜组、上偏光片和LCD。本发明采用双LCD，...
    2026-03-26
  • 一种基于视场交错复用的大视场高分辨率成像系统及成像方法
    一种基于视场交错复用的大视场高分辨率成像系统及成像方法_吉天星舟(长春)航天科技有限公司_202511734336.5
    一种基于视场交错复用的大视场高分辨率成像系统及成像方法，涉及光学成像技术领域，解决现有技术中用于飞行器上的对地成像装置无法兼顾髙分辨率、大成像范围，或为了同时兼顾这两项指标而导致体积重量超重的问题。本发明成像系统包括光学镜头组件和探测器组件...
    2026-03-26
  • 掩模坯料及其制造方法、转印用掩模及其制造方法、及显示装置的制造方法
    掩模坯料及其制造方法、转印用掩模及其制造方法、及显示装置的制造方法_HOYA株式会社_202511564940.8
    本发明提供能够抑制在将图案形成用的薄膜或具有转印图案的薄膜剥离之后透光性基板的主表面的形状劣化、且能够有助于再循环时的制造成品率的提高的掩模坯料。该掩模坯料具备透光性基板、和设置于透光性基板的主表面上的图案形成用的薄膜，薄膜含有金属、硅及氮...
    2026-03-26
  • 一种透光率连续可调的宽谱半色调掩模坯料及其制备方法
    一种透光率连续可调的宽谱半色调掩模坯料及其制备方法_湖南普照信息材料有限公司_202511731111.4
    本发明涉及一种透光率连续可调的宽谱半色调掩模坯料及其制备方法，其中，所述透光率连续可调的宽谱半色调掩模坯料包括从下往上依次层叠设置的基底、遮光层和半透明膜层，所述遮光层间隔设置在基底上，所述半透明膜层设置在遮光层以及未覆盖遮光层的基底表面上...
    2026-03-26
  • 掩模图形的优化方法、介质、产品及设备
    掩模图形的优化方法、介质、产品及设备_东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司_202511349845.6
    本发明提供了一种掩模图形的优化方法、介质、产品及设备。其中上述方法包括：获取待修正掩模图形及其对应的理想光刻图形；调用反演光刻工具中的人工智能模型根据待修正掩模图形生成光刻仿真结果；根据光刻仿真结果和理想光刻图形计算得到代价值；利用反演光刻...
    2026-03-26
  • 一种光罩盒
    一种光罩盒_绍兴昇瑞光电科技有限公司_202410828146.9
    本申请提供一种光罩盒。该光罩盒包括底座、壳体和锁扣件，底座的支撑部的四周设置可调限位件，根据不同长度和宽度的光罩调节位于相对两侧的可调限位件靠近彼此的边缘之间的距离，可以适应不同长度和宽度的光罩；壳体的容纳腔内设置高度调节件，根据不同高度的...
    2026-03-26
  • 用于脱离印模的方法和装置
    用于脱离印模的方法和装置_EV集团E·索尔纳有限责任公司_202511433768.2
    本发明涉及一种用于使印模(17)与基底(12)、尤其与主印模(12)、与压印料(11)和/或与产品脱离的方法，其中，使印模(17)沿基底(12)的方向变形，以便使印模(17)与基底(12)脱离。
    2026-03-26
  • 一种压印头控制方法及纳米压印设备
    一种压印头控制方法及纳米压印设备_普雨科技(苏州)有限公司_202511741550.3
    本申请提供了一种压印头控制方法及纳米压印设备，可以应用于半导体制备技术领域。该压印头的控制方法包括：在压印头朝向基材运动过程，控制压印头采用位移控制模式和/或速度控制模式运动，位移控制模式是指压印头移动预设距离的运动模式，速度控制模式是指压...
    2026-03-26
  • 感光性着色树脂组合物、颜料分散液、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、滤色器和图像显示装置
    感光性着色树脂组合物、颜料分散液、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、滤色器和图像显示装置_三菱化学株式会社_202511485428.4
    本发明提供感光性着色树脂组合物、颜料分散液、固化物、分隔壁、有机电致发光元件、滤色器和图像显示装置。提供残膜率高的感光性着色树脂组合物。本发明的感光性着色树脂组合物的特征在于，含有(A)着色剂、(B)分散剂、(C)碱溶性树脂和(D)光聚合引...
    2026-03-26
  • 一种负性光刻胶组合物及其应用
    一种负性光刻胶组合物及其应用_西安瑞联新材料股份有限公司_202511820921.7
    本发明属于光刻胶技术领域，涉及一种负性光刻胶组合物及其应用。本发明提供了一种负性光刻胶组合物，其原料中的主体成膜树脂包括双酚A型丙烯酸树脂A和双酚A型丙烯酸树脂B；所述双酚A型丙烯酸树脂A由以下反应单体经聚合反应后制得：双酚A丙烯酸酯单体、...
    2026-03-26
  • 一种彩色光刻胶用组合物
    一种彩色光刻胶用组合物_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511619519.2
    本申请提供一种彩色光刻胶用组合物，涉及光刻胶领域。彩色光刻胶用组合物包括：40‑45重量份的绿色颜料液、5‑10重量份的黄色颜料液、5‑8重量份的碱溶性树脂、2‑4重量份的光聚合单体、1‑2重量份的光引发剂、0.3‑0.5重量份的助剂、40...
    2026-03-26
  • 负型厚膜感光性树脂组成物及电镀成形体的制造方法
    负型厚膜感光性树脂组成物及电镀成形体的制造方法_奇美实业股份有限公司_202511643905.5
    本发明提供一种负型厚膜感光性树脂组成物及电镀成形体的制造方法。负型厚膜感光性树脂组成物包括含有特定结构的碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)及溶剂(D)，且负型厚膜感光性树脂组成物具有特定的黏度。借此，可改善...
    2026-03-26
  • 一种用于厚胶自动清洗的CUP
    一种用于厚胶自动清洗的CUP_苏州大族芯科技有限公司_202511580102.X
    本发明公开了一种用于厚胶自动清洗的CUP，包括上CUP和下CUP，所述下CUP内设置有上CUP，所述上CUP底端安装有导流环，所述上CUP顶端开设有环形槽，所述上CUP位于环形槽处等间距开设有多个通孔，通孔延伸至上CUP内壁，所述上CUP位...
    2026-03-26
  • 一种基于大语言模型的光源、掩模协同优化系统及方法
    一种基于大语言模型的光源、掩模协同优化系统及方法_深圳国微芯科技有限公司_202511347274.2
    本发明公开了一种基于大语言模型的光源、掩模协同优化系统及方法，所述系统包括：包括用户代理模块、控制模块、设计空间探索模块、脚本生成模块、光源优化器和掩模优化器，所述用户代理模块，用于利用大语言模型解析用户的输入的优化需求，将其转化为可执行的...
    2026-03-26
  • 一种掩模台系统及曝光设备
    一种掩模台系统及曝光设备_上海芯上微装科技股份有限公司_202511359237.3
    本发明提供了一种掩模台系统及曝光设备，掩模台系统包括掩模台本体和对准光源接合部；掩模台本体上设有沿竖直方向贯穿地延伸的通孔；对准光源接合部包括支架、接合载板和第一驱动部；支架设置在掩模台本体上；接合载板设置在支架上，并位于掩模台本体的上方，...
    2026-03-26
  • 一种UV-LED平行光曝光机
    一种UV-LED平行光曝光机_武汉艾博锐科技有限公司_202511444073.4
    本发明涉及平行光曝光机技术领域，公开了一种UV‑LED平行光曝光机，包括外壳，所述外壳的内部固定连接有挡光装置，所述挡光装置的上侧设置有第一准直透镜，所述挡光装置的下侧设置有第二准直透镜，所述第二准直透镜的下侧设置有MCPCB板，所述MCP...
    2026-03-26
  • 逻辑芯片掩模版缺陷检测方法
    逻辑芯片掩模版缺陷检测方法_中科卓芯半导体科技(苏州)有限公司_202511537263.0
    本发明公开了逻辑芯片掩模版缺陷检测方法，涉及集成电路制造技术领域，包括以下步骤：S1，构建掩模表面亚波长无机微粒的散射响应模型，在设定多角度偏振光入射条件下，模拟不同粒径无机微粒在各入射偏振态下对反射光相位的非线性扰动影响，生成包含标准相位...
    2026-03-26
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