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最新专利技术
  • 一种硬质合金刀具MT-TiCN梯度涂层及其制备方法
    一种硬质合金刀具MT-TiCN梯度涂层及其制备方法_湖南富欧科技有限公司_202511581731.4
    本发明属于硬质合金表面工程技术领域，具体涉及一种硬质合金刀具MT‑TiCN梯度涂层及其制备方法。该涂层由内至外依次包括TiN底层、MT‑TiCN梯度层、过渡层和Al22O33层；其中MT‑TiCN梯度层的C/N原子比例沿厚度方向呈由富N向富...
    2026-05-10
  • 一种耐磨涂层、刀具及其制备方法与应用
    一种耐磨涂层、刀具及其制备方法与应用_株洲华锐精密工具股份有限公司_202511548471.0
    本发明公开了一种耐磨涂层、刀具及其制备方法与应用；该耐磨涂层包括包括Ti1‑1‑xxAlxxCyyBzzN1‑y‑z1‑y‑z层；其中0.60≤x≤0.95, 0≤y≤0.10, 0＜z≤0.10, 0＜y+z≤0.15。含本申请的涂层切削...
    2026-05-10
  • 一种制备耐高温耐腐蚀碳化钽涂层的装置及其方法
    一种制备耐高温耐腐蚀碳化钽涂层的装置及其方法_山东中晶芯源半导体科技有限公司_202511722285.4
    本申请提供一种制备耐高温耐腐蚀碳化钽涂层的装置及其方法，装置包括设备外壳，设备外壳内部具有空腔；反应室，反应室设置在设备外壳的空腔中，反应室包括有反应器，反应器中设有镀件摆放区以及石墨坩埚；镀件摆放区用于放置待镀石墨部件，石墨坩埚用于放置金...
    2026-05-10
  • 一种石墨件表面沉积碳化硅涂层工艺
    一种石墨件表面沉积碳化硅涂层工艺_昊石新材料科技南通有限公司_202511557925.0
    本申请涉及一种石墨件表面沉积碳化硅涂层工艺，其特征在于：包括如下步骤：S1、将清洗后的石墨件放置在沉积室中，关闭腔室，进行抽真空；S2、在石墨件表面沉积过渡层，S3、在沉积室内通入双前驱气体、氢气与氩气，在过渡层表面沉积得到碳化硅层；S4、...
    2026-05-10
  • 用于半导体加热装置的防护涂层及其制备方法
    用于半导体加热装置的防护涂层及其制备方法_苏州欣威晟电子科技有限公司_202511962105.X
    本申请公开了一种用于半导体加热装置的防护涂层及其制备方法。所述防护涂层的制备方法包括以下步骤：将有机溶剂、氧化钇、二氧化硅、氮化硼混匀球磨，加入改性剂反应，得到混合浆料；将混合浆料喷涂在基体上，干燥得到前驱体；将前驱体放入沉积炉中，通入三甲...
    2026-05-10
  • 一种有机废油水蒸气重整耦合化学气相沉积金刚石镀膜系统及方法
    一种有机废油水蒸气重整耦合化学气相沉积金刚石镀膜系统及方法_浙江浙能科技环保集团股份有限公司_202511875512.7
    本申请公开了一种有机废油水蒸气重整耦合化学气相沉积金刚石镀膜系统及方法，系统包括杂质预处理模块、水蒸气重整模块、补充气源模块、气体预混模块、在线气相色谱分析模块和化学气相沉积金刚石镀膜模块；杂质预处理模块用于去除有机废油中的固体颗粒、水分、...
    2026-05-10
  • 非晶碳/铜复合导线及其制备方法
    非晶碳/铜复合导线及其制备方法_上海交通大学_202511606800.2
    本发明提供一种非晶碳/铜复合导线及其制备方法，从石墨烯非晶化的角度出发，通过对卷对卷化学气相沉积制备的石墨烯/铜复合材料进行激光辐照，激光诱导石墨烯中碳原子形成丰富的五边形和七边形碳环，在环境条件下构建非晶态结构，得到非晶碳/铜复合导线，制...
    2026-05-10
  • 掺杂微晶硅层的制作方法、异质结太阳能电池及其制备方法
    掺杂微晶硅层的制作方法、异质结太阳能电池及其制备方法_理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司_202511502480.6
    本发明提供掺杂微晶硅层的制作方法、异质结太阳能电池及其制备方法。所述掺杂微晶硅层的制作方法首先提供PECVD设备，将硅片置于PECVD设备的反应腔中；然后将所述反应腔的压力调整为第一沉积压力，在其中进行掺杂PECVD工艺以在所述硅片上沉积微...
    2026-05-10
  • 掺杂微晶硅层的制作方法、异质结太阳能电池及其制备方法
    掺杂微晶硅层的制作方法、异质结太阳能电池及其制备方法_理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司_202511502443.5
    本发明提供掺杂微晶硅层的制作方法、异质结太阳能电池及其制备方法。所述掺杂微晶硅层的制作方法首先提供PECVD设备，所述PECVD设备包括反应腔以及位于所述反应腔内相对平行设置的上极板以及下极板，所述上极板与射频电源连接；然后将硅片置于所述下...
    2026-05-10
  • 薄膜的制备方法及半导体制造设备
    薄膜的制备方法及半导体制造设备_宸微设备科技(苏州)有限公司_202511950769.4
    一种薄膜的制备方法及半导体制造设备，方法包括：在反应腔室内，提供处理件，处理件具有开口；对处理件进行一次或多次工艺周期，在开口中以及处理件的表面形成薄膜，工艺周期包括：对处理件进行一次或多次沉积处理，使用卤族前驱体在开口的内壁以及处理件的表...
    2026-05-10
  • 一种低热预算的氧化铪基铁电薄膜退火工艺及氧化铪基铁电薄膜
    一种低热预算的氧化铪基铁电薄膜退火工艺及氧化铪基铁电薄膜_晶铁半导体技术(广东)有限公司_202511531198.0
    本发明提出了一种低热预算的氧化铪基铁电薄膜退火工艺及氧化铪基铁电薄膜，涉及铁电薄膜领域，对所述氧化铪基铁电薄膜采用多次低温快速退火循环，包括以下步骤：以10‑80K/s的升温速率，升温至退火温度400℃，保温15‑120s，以不小于10K/...
    2026-05-10
  • 一种真空镀膜干法蚀刻方法
    一种真空镀膜干法蚀刻方法_重庆市亦高光电有限公司_202511488684.9
    本发明公开了一种真空镀膜干法蚀刻方法，包括如下步骤：1)根据薄膜的功能属性，确定待进行蚀刻的膜层材料；2)根据待蚀刻的膜层材料，选择用于进行蚀刻工艺的蚀刻气体；3)根据选定的蚀刻气体，对待蚀刻的膜层材料进行正交试验，确定蚀刻速率；4)根据待...
    2026-05-10
  • 一种反应腔的密封装置和半导体器件的加工设备
    一种反应腔的密封装置和半导体器件的加工设备_拓荆科技(上海)有限公司_202511555680.8
    本发明公开了一种反应腔的密封装置和半导体器件的加工设备。该密封装置包括：磁场发生器，用于提供外加磁场；以及主密封件，位于所述反应腔与所述管路之间的密封槽内，所述主密封件包括具有磁性颗粒的液态金属，所述磁性颗粒沿所述外加磁场的磁力线方向链状排...
    2026-05-10
  • 一种抽气结构及薄膜沉积设备、方法
    一种抽气结构及薄膜沉积设备、方法_拓荆科技(上海)有限公司_202511554295.1
    本申请涉及一种抽气结构及薄膜沉积设备、方法，该抽气结构包括：第一层抽气环和第二层抽气环；第一层抽气环包括第一内环和第一外环，所述第一内环被设置为多个分块；所述第一外环和第一内环上均沿周向开设有多个抽气小孔，所述第一内环的多个分块拼接形成与所...
    2026-05-10
  • 用于物理气相沉积过程中贵金属回收的涂层及方法
    用于物理气相沉积过程中贵金属回收的涂层及方法_中国航发贵州黎阳航空动力有限公司_202511551085.7
    本发明公开了一种用于物理气相沉积过程中贵金属回收的涂层及方法，该涂层主要由位于下层的镀银层和位于镀银层表面的有机硅改性层组成。回收贵金属前，首先在物理气相沉积过程中需要进行贵金属回收的位置表面制备该涂层，物理气相沉积完成后，采用粘胶带粘贴在...
    2026-05-10
  • 一种高效热交换卷绕镀膜冷辊及制造方法
    一种高效热交换卷绕镀膜冷辊及制造方法_福建省金石能源股份有限公司_202410931974.5
    本发明涉及镀膜设备领域，公开了一种高效热交换卷绕镀膜冷辊，其包括外套和芯轴。其中，外套套于芯轴上，并密封固定连接。外套的端面上设置有若干直线冷却水道；每条冷却水道的两端密封堵住。芯轴的外壁上设置有若干个汇水槽，汇水槽与外套的内壁形成一个集水...
    2026-05-10
  • 光通信滤光片镀膜系统及镀膜方法
    光通信滤光片镀膜系统及镀膜方法_东莞丰润兴光电科技有限公司_202511960343.7
    本发明涉及滤光片镀膜技术领域，特别是涉及一种光通信滤光片镀膜系统及镀膜方法。通过布置双光路监测组件和监控系统，能够在镀膜过程中针对两种材料的喷镀区域分别进行膜厚动态监测，并根据膜厚监测结果实时调控两修正挡板的姿态，实现滤光片镀膜厚度的实时修...
    2026-05-10
  • 一种用于塑料制品的真空镀膜装置
    一种用于塑料制品的真空镀膜装置_江苏惠利隆塑业集团有限公司_202511540750.2
    本发明公开了一种用于塑料制品的真空镀膜装置，属于镀膜设备技术领域，本发明包括固定腔和转动连接于固定腔上的两组活动腔，所述活动腔的上下两端均转动连接有两组转盘，两组转盘之间设有若干沿圆周阵列的转杆，两组所述转盘之间还设有位于轴线上的驱动轴，所...
    2026-05-10
  • 一种脉冲激光沉积过程在线监测装置及方法
    一种脉冲激光沉积过程在线监测装置及方法_华芯极光(上海)科技有限公司_202511526575.1
    本发明提供一种脉冲激光沉积过程在线监测装置及方法，涉及材料制备与过程监测技术领域，包括：生长腔、设置于所述生长腔内的衬底支撑机构和靶材支撑机构、以及对靶材进行烧蚀的脉冲激光器，还包括：光谱采集单元，用于采集由所述脉冲激光器烧蚀靶材产生的等离...
    2026-05-10
  • 一种真空镀膜工艺参数自适应调节方法及系统
    一种真空镀膜工艺参数自适应调节方法及系统_福建省金石能源股份有限公司_202511471551.0
    本发明公开了一种真空镀膜工艺参数自适应调节方法及系统，包括数据采集层、DRL智能体和执行层，其中所述DRL智能体包含策略网络和评价网络，所述DRL智能体采用双循环学习机制，包括离线模仿学习模块和在线强化学习模块。本技术方案通过DRL解耦多辊...
    2026-05-10
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