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最新专利技术
  • 一种氮化钛薄膜的制备方法及一种半导体器件
    一种氮化钛薄膜的制备方法及一种半导体器件_江苏鲁汶仪器股份有限公司_202410989338.8
    本申请公开了一种氮化钛薄膜的制备方法及一种半导体器件，该方法中，首先，基于目标致密度以及目标电阻率，调节辅助离子源的能量以及惰性气体与反应气体的气体流量比例；继而，向溅射离子源通入惰性气体，向辅助离子源通入反应气体；而后，溅射离子源电离惰性...
    2026-05-09
  • 过渡金属掺杂AlSiO氧化物的全波段高发射超薄红外涂层、制备方法及红外除冰应用
    过渡金属掺杂AlSiO氧化物的全波段高发射超薄红外涂层、制备方法及红外除冰应用_武汉大学_202511449477.2
    本发明公开了一种过渡金属掺杂AlSiO氧化物的全波段高发射超薄红外涂层、制备方法及红外除冰应用，属于红外除冰技术领域。本发明通过向有宽带隙的铝硅氧化物掺杂过渡金属，利用其d‑轨道电子与基底铝硅氧化物中的氧原子外层电子的相互作用，降低铝硅氧化...
    2026-05-09
  • 一种用于多弧离子镀设备的工艺气体智能控制系统及方法
    一种用于多弧离子镀设备的工艺气体智能控制系统及方法_常州夸克涂层科技有限公司_202511449275.8
    本发明公开了一种用于多弧离子镀设备的工艺气体智能控制系统及方法，涉及物理气相沉积技术领域，包括数据监测系统、数据决策系统、指令执行系统和学习优化系统；所述数据监测系统用以实时监测工艺腔体内的工艺监测参数并执行腔体密封性测试；所述数据决策系统...
    2026-05-09
  • 玻璃基底近红外超低反射膜的制备方法
    玻璃基底近红外超低反射膜的制备方法_安徽光智科技有限公司_202511287512.5
    一种玻璃基底近红外超低反射膜的制备方法包括步骤：S1，将楔形片和产品的表面清洁处理；S2，将处理好的玻璃基底放入工装夹具，挂入真空镀膜机腔体内，温度设定为150℃；S3，抽真空，真空度达到1.0×10‑3‑3Pa，射频离子源清洗；S4，玻璃...
    2026-05-09
  • 一种具有电磁波屏蔽功能的镀铝膜及其制备方法
    一种具有电磁波屏蔽功能的镀铝膜及其制备方法_河北北人新材科技股份有限公司_202511534016.5
    本发明涉及镀铝膜技术领域，涉及一种具有电磁波屏蔽功能的镀铝膜及其制备方法。具有电磁波屏蔽功能的镀铝膜，包括依次层叠设置的基材层、界面增强层、镀铝屏蔽层和透明导电保护层。镀铝膜的制备方法，包括以下步骤：基材预处理：对基材层进行电晕处理和等离子...
    2026-05-09
  • 窄带滤光片的制备方法
    窄带滤光片的制备方法_安徽光智科技有限公司_202511287511.0
    一种窄带滤光片的制备方法包括步骤：S1，将玻璃基底的表面清洁处理；S2，将处理好的玻璃基底放入工装夹具，挂入真空镀膜机腔体内；S3，抽真空，真空度达到1.0×10‑3‑3Pa，射频离子源清洗；S4，第一面镀制短波通膜系；S5，第一面镀制短波...
    2026-05-09
  • 一种激光镜头在边缘涂墨后表面镀膜方法
    一种激光镜头在边缘涂墨后表面镀膜方法_常州市万华激光科技有限公司_202511640155.6
    本发明涉及镀膜技术领域，公开了一种激光镜头在边缘涂墨后表面镀膜方法，包括以下步骤：S1：选择材料，并将材料通过切割设备加工成设定形状的基体；S2：将所述基体的边缘涂墨处理；S3：将涂墨处理后的基体放置在真空镀膜机的夹具上；S4：通过涂墨处理...
    2026-05-09
  • 一种线型蒸发源及共蒸镀蒸发源
    一种线型蒸发源及共蒸镀蒸发源_季华实验室_202511958578.2
    本发明公开了一种线型蒸发源及共蒸镀蒸发源，属于真空镀膜设备技术领域，旨在解决现有技术加热不均、热辐射溢出严重、喷嘴易冷凝及维护不便的问题。该线型蒸发源包括设有腔室和喷嘴的本体，其关键在于，本体上开设有不贯通至腔室的狭缝，狭缝内设有加热源，加...
    2026-05-09
  • 一种基于主动分区控温的蒸发系统及其控制方法
    一种基于主动分区控温的蒸发系统及其控制方法_北京北方华创真空技术有限公司_202511703864.4
    本申请公开了一种基于主动分区控温的蒸发系统及其控制方法，基于主动分区控温的蒸发系统包括蒸发舟、多路电源模块、温度传感模块及中央控制器。蒸发舟在电气上被划分为设置有高温电绝缘层的若干加热区；多路电源模块分别与各加热区电连接，用于独立提供加热功...
    2026-05-09
  • 一种过渡金属硫族化合物纳米盘阵列及其制备方法与应用
    一种过渡金属硫族化合物纳米盘阵列及其制备方法与应用_暨南大学_202511395774.3
    本发明公开了一种过渡金属硫族化合物纳米盘阵列及其制备方法与应用，该制备方法，包括以下步骤：S1.在衬底上沉积聚合物微球，刻蚀以缩小聚合物微球的直径，得到聚合物微球阵列；S2.在所述聚合物微球阵列表面沉积基底金属，再除去所述聚合物微球及聚合物...
    2026-05-09
  • 复合型滤光片的制备方法、滤光片及图像获取设备
    复合型滤光片的制备方法、滤光片及图像获取设备_东莞立腾创新电子有限公司_202410983257.7
    本发明具体公开了一种复合型滤光片的制备方法、滤光片及图像获取设备，属于光学元件生产技术领域。制备方法包括：将固体色素通过蒸镀处理沉积在玻璃基底的其中一个端面，并形成能够吸收近红外光的第一色素膜，以获得第一层叠结构；第一色素膜背向玻璃基底的一...
    2026-05-09
  • 一种手机零配件生产用真空镀装置及使用方法
    一种手机零配件生产用真空镀装置及使用方法_深圳市正和忠信股份有限公司_202511798775.2
    本发明涉及真空镀膜领域，其公开了一种手机零配件生产用真空镀装置，包括机架，机架上设置有真空镀膜室与悬挂构件，悬挂构件包括切换组件与悬挂组件，一个真空镀膜室对应有两个悬挂组件，切换组件包括立柱支架，悬挂组件包括悬臂以及驱使悬臂发生上下移动的直...
    2026-05-09
  • 一种膜层制备工艺、膜层结构及镜片
    一种膜层制备工艺、膜层结构及镜片_东莞市德派精密机械有限公司_202511671188.7
    本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是指一种膜层制备工艺、膜层结构及镜片，包括以下步骤：A.通过镀膜工艺成型硅靶层，在硅靶层成型过程中通入氧气与惰性气体，以使得硅靶层部分结构改性成型应力平衡结构；B.于硅靶层的一端镀膜成型AR增透层；C.于AR...
    2026-05-09
  • 一种耐盐腐蚀的电磁屏蔽柔性复合面料及制备方法
    一种耐盐腐蚀的电磁屏蔽柔性复合面料及制备方法_陕西元丰新材料科技有限公司_202511858010.3
    本申请公开了一种耐盐腐蚀的电磁屏蔽柔性复合面料及制备方法，本方案通过采用Ni、Cu、Ag组合的金属膜作为屏蔽层，与传统单一金属膜相比，提高了屏蔽效能；另外，通过在银层表面引入氮化物，填补晶界空位，从而抑制AgCl形成；并且，通过在氮化银钝化...
    2026-05-09
  • 一种码盘产品高低反蓝膜镀膜工艺
    一种码盘产品高低反蓝膜镀膜工艺_南京科利德光电材料有限公司_202511574970.7
    本发明涉及码盘产品镀膜工艺领域，具体涉及一种码盘产品高低反蓝膜镀膜工艺。本发明公开了一种码盘产品高低反蓝膜镀膜工艺，包括S1基材预处理、S2高反层镀膜、S3低反蓝膜镀膜、S4光刻胶涂覆、S5母版制作、S6显影和S7蚀刻七步。本发明通过参数精...
    2026-05-09
  • 用于光掩模基板的铬系涂层及其制备方法、光掩模和半导体元件
    用于光掩模基板的铬系涂层及其制备方法、光掩模和半导体元件_浙江大学杭州国际科创中心_202511496218.5
    本申请涉及半导体技术领域，公开了一种用于光掩模基板的铬系涂层及其制备方法、光掩模和半导体元件，该铬系涂层为纯铬涂层，具有单一微观结构或复合微观结构；其中，单一微观结构包括非晶态、多晶态及非晶‑纳米晶混合态的任一种；复合微观结构包括非晶态、多...
    2026-05-09
  • 一种热障涂层及其制备方法和应用
    一种热障涂层及其制备方法和应用_广东省科学院新材料研究所_202511699592.5
    本发明属于涂层技术领域，具体公开了一种热障涂层及其制备方法和应用，所述热障涂层包括陶瓷层和层叠设置在所述陶瓷层上的改性层；所述改性层的数量≥2；每层所述改性层的制备材料各自独立地选自Ti、Al、Al‑X合金中的至少一种；所述Al‑X合金中的...
    2026-05-09
  • 一种在钛合金表面制备多孔涂层的方法
    一种在钛合金表面制备多孔涂层的方法_聊城大学_202511486854.X
    本发明公开了一种在钛合金表面制备多孔涂层的方法，属于材料涂层领域。本发明采用双辉等离子表面合金化装置，以一种或多种难熔金属元素作为靶材，以惰性气体作为保护气体，以钛合金作为工件，首先在钛合金表面制备出一定厚度的合金层，然后调转阴、源极电压，...
    2026-05-09
  • 一种真空宽温域自润滑复合膜及其制备方法和应用
    一种真空宽温域自润滑复合膜及其制备方法和应用_华南理工大学_202511287090.1
    本发明公开了一种真空宽温域自润滑复合膜及其制备方法和应用。本发明的真空宽温域自润滑复合膜包括依次层叠复合的Cr层、Cr‑Si‑C梯度过渡层和Mo‑S‑C‑Si层，Cr‑Si‑C梯度过渡层沿靠近Cr层至远离Cr层的方向，Cr的原子百分数从99...
    2026-05-09
  • 抗杂散光高透镀膜镜片制备方法
    抗杂散光高透镀膜镜片制备方法_南通诺瞳奕目医疗科技有限公司_202511937846.2
    本发明涉及应用于光学元件领域的抗杂散光高透镀膜镜片制备方法，包括如下步骤：S1.预处理，S2.夹持，S3.多层镀膜，S4.后处理，在基材表面依次进行第一AR膜和第二AR膜的双面沉积工艺，能够有效抑制外界环境光对信号光的干扰，减少信号强度波动...
    2026-05-09
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