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最新专利技术
  • 无电极、无镍镀铜溶液和使用所述溶液的方法
    无电极、无镍镀铜溶液和使用所述溶液的方法_德国艾托特克有限两合公司_202480038718.1
    本发明涉及一种用于薄镀铜的无电极、水性镀铜溶液，其包含以下各项或由其组成：铜离子源；选自由甲醛、乙醛酸和其来源组成的群组的还原剂；作为络合剂的酒石酸根离子源；改性剂，其选自由以下组成的群组：根据式(I)的包含EO单元和PO单元的EO‑PO嵌...
    2026-01-16
  • 利用空间传感器的自动机器学习
    利用空间传感器的自动机器学习_朗姆研究公司_202480036659.4
    本发明描述了包括处理模块及至少一个空间传感器的处理系统。在至少一实现方案中，处理模块包括基座及在处理模块的壁内的观察窗。在至少一实现方案中，空间传感器位于处理模块外部并邻近观察窗。在至少一实现方案中，运算设备电耦合至空间传感器。在至少一实现...
    2026-01-16
  • 用于沉积原子层和制造菲涅耳波带片的反应器和方法
    用于沉积原子层和制造菲涅耳波带片的反应器和方法_PVA技术中心有限公司_202480039532.8
    本发明涉及一种用于将至少一种材料的一个或更多个原子层沉积到基底上的反应器和方法。该反应器包括容纳喷淋头、基台和至少一个基底支架的反应室。该喷淋头包括至少一个气体出口，该至少一个气体出口被配置为提供至少一种材料的气流或至少一种材料的至少一种组...
    2026-01-16
  • 通过原子层沉积来沉积硅薄膜的方法
    通过原子层沉积来沉积硅薄膜的方法_美光科技公司_202480039529.6
    描述用于通过原子层沉积来沉积硅薄膜的方法的方法、系统及装置。例如，一种装置可将基底材料(例如多个材料堆叠)暴露于第一前体以在所述基底材料上形成硅化合物，所述第一前体包含硅脒基。所述装置可使第二前体与所述硅化合物反应且可基于将所述基底材料暴露...
    2026-01-16
  • 气体供给系统、处理装置、气体供给方法、半导体装置的制造方法以及程序
    气体供给系统、处理装置、气体供给方法、半导体装置的制造方法以及程序_株式会社国际电气_202480039072.9
    具备：第一开闭部，其设置于气化了的原料气体的流路上，对所述流路进行开闭；第二开闭部，其具有能够调整开度的阀部，且与所述第一开闭部并行地设置；缓冲容器，其设置于所述流路的比所述第一开闭部和所述第二开闭部靠下游的位置，暂时贮存所述原料气体；流量...
    2026-01-16
  • 用于低介电膜沉积的前体
    用于低介电膜沉积的前体_朗姆研究公司_202480039981.2
    提供用于从为所需掺杂剂的单一源的氟碳硅烷、氟硅烷或碳硅烷前体中沉积低介电常数掺杂氧化硅膜的等离子体增强原子层沉积方法及装置。可通过利用具有至少一直接硅氟键或经由连接基连接至硅的氟的硅前体实现保形沉积。方法亦可包括氟碳氨基硅烷或氟氨基硅烷。
    2026-01-16
  • 基板表面上的稀土金属氧化物膜
    基板表面上的稀土金属氧化物膜_倍耐克有限公司_202480038901.1
    本发明公开了一种在基板的表面上制备稀土金属氧化物膜的方法。该方法包括在反应空间中以任意顺序交替进行以下步骤：a)将沉积表面暴露于氧的醇系前驱物，使得氧的醇系前驱物的至少一部分被吸附到基板的沉积表面上，并且随后用惰性气体吹扫沉积表面1‑180...
    2026-01-16
  • 通过等离子体高速处理容器的容器处理设备
    通过等离子体高速处理容器的容器处理设备_西得乐集团_202480038694.X
    本发明涉及一种通过等离子体处理容器以便在所述容器的内壁和/或外壁上沉积阻隔涂层的容器处理设备(9)，所述设备(9)被定位在容器的制造单元(2)和所述容器的灌装单元(10)之间，其显著特征在于，该容器处理设备包括：用于分配容器的至少一个分配输...
    2026-01-16
  • 在衬底的介电表面上选择性沉积硅氧化物
    在衬底的介电表面上选择性沉积硅氧化物_朗姆研究公司_202480038360.2
    在衬底上选择性沉积硅氧化物的方法包括：使衬底暴露于含硅抑制剂，以使含硅抑制剂选择性地吸附至衬底的金属表面。含硅抑制剂包括一个或更多个有机配体。该方法还包括：通过使衬底暴露于含金属前体以使含金属前体吸附至介电表面，以在衬底的介电表面上形成催化...
    2026-01-16
  • 用于在沉积期间测量薄膜的电阻和电容的方法
    用于在沉积期间测量薄膜的电阻和电容的方法_法国原子能源和替代能源委员会_202480039998.8
    本发明涉及一种用于制造用于沉积薄膜的芯片(40)的方法，包括：a)在绝缘或半导体材料的衬底(4)上形成多个测量电极(2)，每个电极具有中央部分和朝向衬底(4)的表面倾斜的边缘；b)形成沉积掩模(6)，沉积掩模(6)限定沉积窗口(8)，所述掩...
    2026-01-16
  • 镀敷附着量预测方法、熔融镀锌钢带的制造方法、镀敷附着量预测模型的生成方法以及镀敷附着量预测装置
    镀敷附着量预测方法、熔融镀锌钢带的制造方法、镀敷附着量预测模型的生成方法以及镀敷附着量预测装置_杰富意钢铁株式会社_202480039463.0
    本申请提供一种能够高精度地预测熔融镀锌钢带的镀敷附着量的镀敷附着量预测方法。镀敷附着量预测方法在具有使由退火部退火后的钢带浸渍于镀锌浴中的镀敷处理部的熔融镀锌钢带的制造设备中，预测熔融镀锌钢带的镀敷附着量，其中，所述镀敷附着量预测方法具有：...
    2026-01-16
  • 钢板及其制造方法
    钢板及其制造方法_浦项股份有限公司_202380099265.9
    本发明的钢板以重量%计可以包含：C：0.008‑0.015%、Si：0.200%以下、Mn：1.30‑2.00%、Cr：0.5‑1.0%、P：0.030%以下、S：0.010%以下、N：0.0020‑0.0080%、Al：0.010‑0.0...
    2026-01-16
  • 包层钢板、其制造方法及管线管
    包层钢板、其制造方法及管线管_杰富意钢铁株式会社_202480036675.3
    即使在板厚：超过30mm的情况下，也提供抗拉强度：535MPa以上、DWTTSA‑30℃‑30℃为85%以上、HAZ韧性优异的包层钢板及其制造方法。在母材钢板的单面或双面接合有包层材料的包层钢板，其中，母材钢板具有含有规定量的C、Si、Mn...
    2026-01-16
  • 钢板及钢板的制造方法
    钢板及钢板的制造方法_日本制铁株式会社_202480032101.9
    一种钢板及其制造方法，钢板具有规定的化学组成，在表面里层中，加工贝氏体相为30%以上、加工铁素体相和未加工贝氏体相的合计为70%以下、以及多边形铁素体相、珠光体相和马氏体/奥氏体混合相的合计为30%以下，与板宽方向垂直的截面的加工贝氏体相的...
    2026-01-16
  • 用于制造含二次铝份额的压铸铝合金的方法、含二次铝份额的压铸铝合金以及用于机动车的构件
    用于制造含二次铝份额的压铸铝合金的方法、含二次铝份额的压铸铝合金以及用于机动车的构件_奥迪股份公司_202480033050.1
    本发明涉及用于制造含二次铝份额的压铸铝合金的方法，该压铸合金除了铝之外还具有硅、铁、锰和镁作为合金组分。在此规定，根据压铸合金的镁含量将压铸合金的至少一种成分的份额调节为，使得在压铸合金冷却时形成含镁的初生相。本发明还涉及含二次铝份额的压铸...
    2026-01-16
  • 铝合金箔
    铝合金箔_格伦格斯有限公司_202480039363.8
    本发明涉及铝合金的轧制电池电极箔，所述铝合金包含0.06至0.16重量％的Si、0.41至1.0重量％的Fe、≤0.25重量％的Cu、≤0.10重量％的Mn、≤0.03重量％的Mg、≤0.05重量％的Zn、0.001至0.030重量％的Ti...
    2026-01-16
  • 不锈钢钎焊用合金及钎焊接头
    不锈钢钎焊用合金及钎焊接头_浦项股份有限公司_202380099326.1
    本发明涉及不锈钢钎焊用合金及钎焊接头。更详细地，本发明涉及一种不锈钢同种管道之间或不锈钢和铜异种管道之间钎焊时优选可应用的不锈钢钎焊用合金及钎焊接头。
    2026-01-16
  • 能够在通过HPDC、GDC和LPDC压铸后进行热处理的新的铝合金
    能够在通过HPDC、GDC和LPDC压铸后进行热处理的新的铝合金_伊顿智能动力有限公司_202480039303.6
    本公开提供了包含稀土金属(诸如Ce、La或混合稀土金属)、Zn和Mg的铝合金组合物，适用于高压压铸，其可以被热处理以实现与通过高压压铸(HPDC)铸造的现有Al合金相比增加的强度。该合金还在对通过重力压铸(GDC)或低压压铸(LPDC)制造...
    2026-01-16
  • 一种铁铝渣和尾渣的协同沉降方法
    一种铁铝渣和尾渣的协同沉降方法_格林爱科镍金属有限公司_202480010344.2
    本发明公开了一种铁铝渣和尾渣的协同沉降方法。该协同沉降方法包括如下步骤：取红土镍矿高压浸出料浆依次进行循环浸出处理和预中和处理，得到预中和浆料，随后进行多级CCD洗涤，得到CCD溢流液；对CCD溢流液依次进行一段除铁铝和二段除铁铝处理，一段...
    2026-01-16
  • 用于从水性镍-钴溶液选择性地萃取钴的方法
    用于从水性镍-钴溶液选择性地萃取钴的方法_优美科公司_202480039323.3
    本发明提供了一种用于从包含镍和钴的水性混合金属溶液选择性地萃取钴的多级溶剂萃取方法，其中每个溶剂萃取级以将水性相中的镁浓度维持在高于预定的镁浓度为特征。
    2026-01-16
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