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  • 本发明提供了一种静电卡盘用电介质层材料及其制备方法,涉及静电卡盘技术领域。静电卡盘用电介质层材料包括:二氧化硅、氧化钙、氧化锌、氧化锆,氧化铝、氧化硼、氧化钡、氧化钛以及功能性填料;其中,功能性填料为稀土氧化物核@玻璃相壳材料;稀土氧化物核...
  • 本发明公开了一种高熵氧化物玻璃及其制备方法,制备方法包括:采用悬浮炉将第一重量的初始玻璃粉末加热至熔融状态,得到熔融物,所述初始玻璃粉末包括至少五种金属氧化物;对熔融物进行快速冷却,得到高熵氧化物玻璃样品;对高熵氧化物玻璃样品进行性能测试,...
  • 本发明公开了一种低膨胀系数无碱硼硅酸盐玻璃及其制备方法,属于玻璃技术领域。低膨胀系数无碱硼硅酸盐玻璃以质量百分比计,包括如下含量的组分:SiO22 40%~70%、Al22O33 10%~20%、B22O33 5%~31%、MgO 0~3%...
  • 本申请提供了一种盖板玻璃及其制备方法、玻璃制品。按质量百分数计,盖板玻璃包括如下组分:SiO22 58.5~64.5%、Al22O33 19~25%、Li22O 3~5.5%、Na22O 5~9.5%、K22O 0.3~1.5%、MgO 0...
  • 本发明涉及玻璃及使用了该玻璃的介电特性的测定方法。本发明的玻璃的特征在于,在进行了温度85℃、相对湿度85%、1000小时的温湿度恒定试验之后的测定频率2.45GHz、测定温度25℃下的介质损耗角正切的变化率为30%以下。
  • 本发明公开了一种无色中硼硅药用玻璃管及其制备方法,属于玻璃制品技术领域。药用玻璃管按照重量份包括以下原料:石英砂550~650份、氢氧化铝60~70份、五水硼砂100~250份、硝酸钠5~15份、纯碱15~30份、氟硅酸钠1~5份、方解石1...
  • 本发明公开电磁炉用抗高温冲击耐热玻璃及其制备工艺,属电磁炉玻璃技术领域,解决商用明火‑电磁双用灶玻璃面板高低温交替碎裂、高温残留烫伤、双热源适配差问题。玻璃包括第一、二、三组分,按重量份:第一组分包括26‑30份高纯度石英砂、14‑18份硼...
  • 本发明提出一种陶瓷表面耐高温耐高压釉面及其制备方法和应用。该方法包括以下步骤:在陶瓷基底表面设置第一釉浆,干燥,得到第一釉层;在第一釉层表面设置第二釉浆,干燥,得到第二釉层;烧结,得到陶瓷表面耐高温耐高压釉面;第一釉浆和第二釉浆均包括组分A...
  • 一种高温绝缘搪瓷釉料,该釉料的成分质量百分含量为40~60%釉料A,10~30%釉料B,10~50%耐火晶相,所述釉料A的成分质量百分含量为:40~60%PbO,15~25%SiO22, 5~15%B22O33, 5~15%TiO22, 1...
  • 本发明属于陶瓷釉料技术领域,提供了一种高光泽度金属质感陶瓷釉料及其制备方法,该高光泽度金属质感陶瓷釉料,按重量份计,包括以下原料:长石60~75份、高岭土20~25份、改性氧化石墨烯10~16份、碳酸钡3~6份、氧化铝5~8份、氧化锆3~5...
  • 本发明涉及陶瓷釉料技术领域,且公开了一种陶瓷制品用抗菌性釉料及其制备方法,本发明的抗菌性釉料的原料包括30‑38重量份钾长石、26‑40重量份石英、3‑8重量份方解石、2‑4重量份氧化铝、2‑3.5重量份硅酸锆、1‑3重量份白云石、0.5‑...
  • 本发明公开了一种利用废旧陶瓷材料制备的微晶玻璃管,涉及微晶玻璃管技术领域;由废旧陶瓷材料、聚四氟乙烯和碳粉等组成,本发明采用废旧陶瓷材料制备微晶玻璃管,解决了废旧陶瓷材料难以回收利用的难题,降低了其对生态环境的潜在危害。本发明在微晶玻璃管制...
  • 本发明公开了一种近红外发光玻璃陶瓷材料及其制备方法。所述玻璃陶瓷材料的晶相为Li22Mg22A44O1111 : xCr3+3+, yNi2+2+,其中,所述A元素选自Si、Ge、Ti、Zr中的一种或多种;Cr3+3+和为Ni2+2+发光离...
  • 本发明公开了一种玻璃陶瓷及其制备方法和应用,属于发光材料技术领域。本发明提供的玻璃陶瓷,化学式为Sr1‑x1‑xMg22Al66Si99O3030 : xEu2+2+。本发明提供的玻璃陶瓷,具有光致发光性能,且发光强度高、温度稳定性好、激发...
  • 本发明公开了一种耐高温消杂光无机超黑涂层及其制备方法,属于功能涂料及其制备技术领域。本发明解决了现有超黑涂层无法同时耐受800℃极端高温与满足精密部件涂装要求的问题。本发明采用自制低熔点玻璃粉作为无机粘结剂,搭配铜铬黑等耐高温黑色颜料构建一...
  • 本发明公开了一种单层防弹玻璃及其制备方法,单层防弹玻璃包括基础材料与石墨烯微片,基础材料按质量百分比计,包括以下组分:石英砂55~65%,硼酸铝晶须8~15%,氧化铝粉6~12%,氧化镁3~8%,氧化钇2~5%;氧化镧1~3%,氧化锆0.5...
  • 本发明涉及一种向玻璃基板喷射蚀刻液的利用玻璃基板的半导体封装件制造装置,其特征在于,包括:支架;喷射单元,可旋转地支撑于所述支架,并具有用于将供给的蚀刻液喷射到所述玻璃基板上的喷嘴;以及旋转装置,在规定角度范围内,对喷射管进行往复旋转运动,...
  • 本申请公开了一种超薄玻璃的加工方法,包括:提供玻璃基板,根据设定尺寸对所述玻璃基板进行切割形成第一超薄玻璃;将所述第一超薄玻璃移动至处理槽,所述处理槽内容纳有酸液,所述酸液以设定流速穿过第一超薄玻璃,对所述第一超薄玻璃边缘进行刻蚀形成第二超...
  • 本发明涉及一种蒸发镀膜提升硬度的方法,在传统连续镀AR膜和AF膜之间,增加浸渍处理,大大提升结合力和硬度,并且在玻璃表面进行一定的微蚀刻的处理,镀一层二氧化硅辅助层增加后续镀膜的附着力和透光率。
  • 本发明属于偏光片领域,具体涉及一种氟化镁改性空心玻璃微珠及偏光片。该氟化镁改性空心玻璃微珠包括空心玻璃微珠基体,所述空心玻璃微珠基体表面上复合有氟化镁粗糙结构,所述氟化镁粗糙结构为密集分布在空心玻璃微珠基体上的氟化镁颗粒。使用上述氟化镁改性...
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