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最新专利技术
  • 半导体制造设备
    半导体制造设备_成都新紫光半导体科技有限公司_202411355708.9
    本公开涉及一种半导体制造设备，包括设备本体、真空压力规及散热件，设备本体中设置有真空腔，真空压力规用于测量真空腔的压力，且具有测量腔，散热件包括连接在设备本体和真空压力规之间的壳体，壳体内部形成有散热腔，散热腔用于连通真空腔及测量腔，以对真...
    2026-04-11
  • 一种高效沥水慢提拉清洗槽式装置
    一种高效沥水慢提拉清洗槽式装置_台州铜心科技有限公司_202610046403.2
    本发明公开了一种高效沥水慢提拉清洗槽式装置，包括框架、设置于框架上四周的同步带轮组件、对称设置于框架内前后两侧的喷气管组件、设置于框架上一侧的排气管组件、设置于同步带轮组件上的平皮带、设置于平皮带上的花篮支撑组件、设置于花篮支撑组件上的多个...
    2026-04-11
  • 一种具有自适应流速调控功能的晶圆用清洗装置
    一种具有自适应流速调控功能的晶圆用清洗装置_芜湖义柏载具精密技术有限公司_202511982682.5
    本发明涉及晶圆清洗技术领域，具体为一种具有自适应流速调控功能的晶圆用清洗装置，包括操作架、调控机构和清洗机构，所述操作架的内部上侧安装水箱，所述水箱底端连接调控机构，所述调控机构中分流箱和分流管件对内部的清洗液进行分流，所述分流管件将分流后...
    2026-04-11
  • 清洗晶圆的方法及晶圆清洗系统
    清洗晶圆的方法及晶圆清洗系统_联芯集成电路制造(厦门)有限公司_202411364290.8
    本发明公开一种清洗晶圆的方法及晶圆清洗系统，其中该清洗晶圆的方法包含以下步骤。提供一晶圆，其中晶圆具有一待洗表面。提供一第一喷嘴以及一第二喷嘴位于待洗表面的上方。旋转晶圆。提供一第一流体以及一第二流体分别经由第一喷嘴及第二喷嘴喷洒至待洗表面...
    2026-04-11
  • 晶圆洗边方法和装置
    晶圆洗边方法和装置_盛美半导体设备(上海)股份有限公司_202411362964.0
    本申请涉及半导体器件制造领域，具体为晶圆洗边方法和装置。晶圆洗边方法包括：步骤S110，获取晶圆洗边区域，并在洗边区域内由晶圆边缘至晶圆中心方向依次获取第一特征位置、第二特征位置与第三特征位置；步骤S120，在第一预设时间内，旋转晶圆的同时...
    2026-04-11
  • 一种玻璃-硅键合结构的加工划片方法
    一种玻璃-硅键合结构的加工划片方法_武汉帝尔激光科技股份有限公司_202511987494.1
    本发明公开了一种玻璃‑硅键合结构的加工划片方法，利用激光束对玻璃‑硅键合结构预设区域进行辐照改性，得到改性区域；改性区域沿玻璃‑硅键合结构的厚度方向贯穿玻璃‑硅键合结构的玻璃层和硅片层；将改性后的玻璃‑硅键合结构进行化学湿法蚀刻，使得改性区...
    2026-04-11
  • 一种晶圆的分离方法
    一种晶圆的分离方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202411346283.5
    本发明公开了一种晶圆的分离方法，包括：在晶圆的表面上形成一层刻蚀掩膜，并在刻蚀掩膜上进行光刻处理；将光刻后的晶圆浸泡在刻蚀液中，利用湿法刻蚀去除晶圆表面上的刻蚀掩膜；对刻蚀后的晶圆进行清洗，获得晶圆分离后产生的若干个晶片。采用本发明的技术方...
    2026-04-11
  • 灰化方法及半导体器件的制备方法
    灰化方法及半导体器件的制备方法_重庆芯联微电子有限公司_202511791944.X
    本申请提供了一种灰化方法及半导体器件的制备方法，在灰化方法中，由于半导体衬底经过双重图形化工艺和刻蚀工艺后形成了侧墙，相邻侧墙之间的间隙内形成有有机物膜层；执行循环处理过程，每一循环处理过程包括依次进行的物理轰击步骤和化学灰化步骤，物理轰击...
    2026-04-11
  • 一种晶圆刻蚀后灰化方法及半导体干法刻蚀设备
    一种晶圆刻蚀后灰化方法及半导体干法刻蚀设备_重庆芯联微电子有限公司_202511786405.7
    本发明公开了一种晶圆刻蚀后灰化方法以及半导体干法刻蚀设备，其中，晶圆刻蚀后灰化方法包括提供已经完成通孔刻蚀以及沟槽刻蚀的晶圆，所述晶圆上的通孔区域以及沟槽区域包括SiCOH低介电常数材料层；所述灰化方法包括，将所述晶圆放入处理腔室内，使用C...
    2026-04-11
  • 一种SiN深孔结构的形成方法
    一种SiN深孔结构的形成方法_中微半导体设备(上海)股份有限公司_202411330256.9
    本发明公开了一种SiN深孔结构的形成方法，包含：将基片置于真空反应腔中，所述基片包含衬底及设置在衬底上的SiN介质层；向所述真空反应腔中通入刻蚀气体，所述刻蚀气体至少包含CxHyFz气体及含氧气体；其中，所述0≤x＜5，y≥0，z≥0，且y...
    2026-04-11
  • 一种半导体刻蚀方法和半导体结构
    一种半导体刻蚀方法和半导体结构_湖北江城芯片中试服务有限公司_202512056085.6
    本公开涉及半导体技术，尤其涉及一种半导体刻蚀方法和半导体结构。该半导体刻蚀方法提供包含目标材料层的半导体结构，目标材料层预埋多个找平标记；其中，找平标记基于第一预设图案形成；基于第二预设图案，利用蚀刻剂对目标材料层进行刻蚀，形成多个刻蚀腔体...
    2026-04-11
  • 台阶结构的制备方法
    台阶结构的制备方法_赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司_202512051923.0
    本发明公开了一种台阶结构的制备方法，方法包括：提供一半导体基底；在所述半导体基底上形成掩膜层，所述掩膜层为金属层；在所述掩膜层上形成刻蚀窗口，所述半导体基底暴露于所述刻蚀窗口；以所述掩膜层为掩膜，去除暴露于所述刻蚀窗口的部分所述半导体基底；...
    2026-04-11
  • 一种半导体器件的制备方法
    一种半导体器件的制备方法_福建省晋华集成电路有限公司_202511903179.6
    本发明提供了一种半导体器件的制备方法，应用于半导体技术领域。包括在衬底上形成目标层，在目标层上形成图案化掩膜层，图案化掩膜层包括多个中心图案、第一边界图案和第二边界图案。形成第一遮蔽层，覆盖中心图案，并暴露第一边界图案和第二边界图案；以第一...
    2026-04-11
  • 激光退火方法、装置及系统
    激光退火方法、装置及系统_重庆芯联微电子有限公司_202511798901.4
    本发明提供了一种激光退火方法、装置及系统，激光退火方法包括根据预设退火扫描路径，控制激光束对待退火元件进行首行扫描，待激光束完成首行扫描后，将待退火元件旋转180°，再根据预设退火扫描路径，控制激光束对待退火元件进行下一行扫描，重复执行激光...
    2026-04-11
  • 激光烧结的方法及激光加工设备
    激光烧结的方法及激光加工设备_聚嵘科技股份有限公司_202411358493.6
    本申请提供一种激光烧结的方法，其包括：提供烧结物。执行烧结步骤，以千兆赫兹(GHz)激光扫描烧结物使烧结物固化成形。本申请还提供一种激光加工设备。
    2026-04-11
  • 一种硼扩散工艺
    一种硼扩散工艺_和光同程光伏科技(宜宾)有限公司_202511877842.X
    本发明公开了一种硼扩散工艺，在现有N型TOPCON电池的硼扩工艺上改进，在扩散前，通过图形化在非金属区域旋涂掩膜液，经过硼扩后实现非金属区域与金属区域的梯度掺杂；非金属接触区域旋涂掩膜液在高温扩散过程中阻挡硼原子向非指定区域扩散，避免非金属...
    2026-04-11
  • 激光退火扫描方法及装置
    激光退火扫描方法及装置_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202511924248.1
    本发明提供一种激光退火扫描方法及装置，采用回字形进行迂回激光退火扫描，可有效避免晶圆边缘热积累效应问题，进一步的，本发明通过对回字形扫描路径的控制，还可在避免晶圆边缘热积累效应的同时解决晶圆残余应力分配不均的问题，从而可有效解决激光退火均匀...
    2026-04-11
  • 一种金属氧化物纳米结构的片上成型方法
    一种金属氧化物纳米结构的片上成型方法_湖南大学_202511634927.5
    本发明公开了一种金属氧化物纳米结构的片上成型方法，以晶圆级基底为载体，首先通过磁控反应溅射在基底表面沉积作为前驱层的高纯金属氧化物薄膜，在仅使用目标单质或氧化物靶材的条件下避免了杂质引入；随后将前驱层置于酸性或碱性溶液中进行湿法刻蚀，使金属...
    2026-04-11
  • 一种氮化硅薄膜的形成方法及基于该方法形成的器件结构
    一种氮化硅薄膜的形成方法及基于该方法形成的器件结构_合肥晶合集成电路股份有限公司_202610247747.X
    本发明属电子器件结构技术领域，公开一种氮化硅薄膜的形成方法及基于该方法形成的器件结构。该方法先利用硅前驱体、惰性气体，借助气压脉冲波和惰性气体的重扩散，将硅前驱体引入至衬底，并促进硅前驱体分子深入Trench各区域。再借助气压脉冲波引入氮前...
    2026-04-11
  • 一种用于半导体产品的甲酰胺-乙二醇体系Al2O3薄膜制备方法
    一种用于半导体产品的甲酰胺-乙二醇体系Al2O3薄膜制备方法_南康(南京)电子科技有限公司_202512036274.7
    本发明公开了一种用于半导体产品的甲酰胺‑乙二醇体系Al2O3薄膜制备方法，涉及半导体薄膜制备技术领域，包括，以硝酸铝九水合物为铝源，配制铝盐前驱体溶液，在恒温条件下以黏度涂布窗口判定可涂布状态并密闭静置过滤；基底经紫外/臭氧处理后旋涂成膜并...
    2026-04-11
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