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最新专利技术
  • 一种高质量、大尺寸Cs2ZnCl4单晶及其水溶液生长方法与应用
    一种高质量、大尺寸Cs2ZnCl4单晶及其水溶液生长方法与应用_华北电力大学_202511777923.2
    本发明提供一种高质量、大尺寸Cs22ZnCl44单晶及其水溶液生长方法与应用。本发明在去离子水中通过调节溶液pH、生长温度、生长速度等参数，成功生长了高质量、大尺寸(>30×30×30 mm33)、具有自然晶面的Cs22ZnCl44单晶，其...
    2026-04-12
  • 单晶炉、单晶硅棒拉制方法以及硅片
    单晶炉、单晶硅棒拉制方法以及硅片_青海晶科能源有限公司_202511946541.8
    本申请涉及一种单晶炉、单晶硅棒拉制方法以及硅片，单晶炉包括：主炉体；坩埚，设于主炉体内；换热组件，包括换热屏以及第一气流通道，换热屏与主炉体的内壁围绕形成与坩埚连通的主拉晶通道，换热屏内形成有环绕主拉晶通道的液冷通道，液冷通道流通液冷介质；...
    2026-04-12
  • 设有喷淋组件的半导体生长设备
    设有喷淋组件的半导体生长设备_申集半导体科技(徐州)有限公司_202610105952.2
    本发明提供了一种设有喷淋组件的半导体生长设备，包括工艺腔体、基座、旋转驱动组件、喷淋组件和压紧组件，基座设于工艺腔体内，且其承载面中部设有对接结构；旋转驱动组件与基座转动连接以驱动基座旋转，喷淋组件设于工艺腔体并延伸至工艺腔体内以与承载面相...
    2026-04-12
  • 一种可持续生长超大厚度碳化硅晶体的方法
    一种可持续生长超大厚度碳化硅晶体的方法_嘉兴鬃晶科技有限公司_202511778326.1
    本发明涉及半导体材料的技术领域，具体为一种可持续生长超大厚度碳化硅晶体的方法，包括如下步骤，a.生长装置准备；采用带有分区加热模块的PVT电阻法生长炉制备碳化硅单晶；b.原料与籽晶预处理；将碳化硅粉末填充至坩埚内，并将籽晶固定在坩埚内的石墨...
    2026-04-12
  • 一种分段式晶体生长装置及方法
    一种分段式晶体生长装置及方法_通威微电子有限公司_202511762669.9
    本发明实施例提供了一种分段式晶体生长装置及方法，涉及碳化硅长晶技术领域。分段式晶体生长方法应用于分段式晶体生长装置来生长碳化硅晶体，分段式晶体生长装置包括坩埚、多晶沉积组件、第一加热器及第二加热器。坩埚内的顶部设置有籽晶且坩埚内填充有长晶原...
    2026-04-12
  • 恒温金属浴晶体生长装置及方法
    恒温金属浴晶体生长装置及方法_通威微电子有限公司_202511762658.0
    本发明提供了一种恒温金属浴晶体生长装置及方法，涉及碳化硅晶体生长领域，本装置采用金属浴的方式对坩埚进行加热，可以实现对坩埚轴向上和径向上各个部位的均匀加热，晶体的生长不再依赖温梯驱动，而是让碳化硅粉料升华后形成的长晶气相不定向流动以充满整个...
    2026-04-12
  • 一种制备大尺寸碳化硅单晶的装置及方法
    一种制备大尺寸碳化硅单晶的装置及方法_北京北方华创真空技术有限公司_202511627859.X
    本申请涉及晶体材料制备领域，尤其是涉及一种制备大尺寸碳化硅单晶的装置及方法。其包括一种制备大尺寸碳化硅单晶的装置，包括坩埚、籽晶托、加热机构、保温机构等，坩埚内有分隔片将其分为原料腔和生长腔等，还设置有增速导流环等结构；还包括使用该装置制备...
    2026-04-12
  • 一种制备碳化硅晶体的装置、系统及方法
    一种制备碳化硅晶体的装置、系统及方法_北京北方华创真空技术有限公司_202511608522.4
    本发明涉及碳化硅晶体制备技术领域，具体涉及一种制备碳化硅晶体的装置、系统及方法。本发明采用“上感应、下电阻”的混合加热结构，即非均匀匝距感应线圈加热上部籽晶区，可独立控制的多区电阻加热组件加热下部原料区，解决了现有加热方式难以兼顾低能耗与原...
    2026-04-12
  • 提高晶体生长厚度及质量均匀性的方法、修复方法及晶体
    提高晶体生长厚度及质量均匀性的方法、修复方法及晶体_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202610091495.6
    本发明公开了一种提高晶体生长厚度及质量均匀性的方法、修复方法及晶体。该方法包括：提供助熔剂法液相外延生长III族氮化物晶体所需的生长体系，在熔融态生长原料的顶层部分和底层部分之间形成温度梯度，以在熔融态生长原料内形成熔融态生长原料以及氮源的...
    2026-04-12
  • 一种磁场单晶炉电极升降隔磁机构
    一种磁场单晶炉电极升降隔磁机构_连科半导体有限公司_202511664691.X
    本发明属于晶体制造技术领域，具体的说是一种磁场单晶炉电极升降隔磁机构，包括坩埚，坩埚的底部固定安装有密封罩，密封罩的内部固定安装有炉底盘，炉底盘的内部对称固定安装有升降电机，升降电机的输出端对称设置有四个波纹管，四个波纹管的顶部均固定安装有...
    2026-04-12
  • 一种用于液相法生长碳化硅单晶的装置及方法
    一种用于液相法生长碳化硅单晶的装置及方法_粤港澳大湾区(广东)量子科学中心_202511610940.7
    本发明公开一种用于液相法生长碳化硅单晶的装置及方法，涉及单晶生长技术领域，该装置包括：石墨桶；位于石墨桶内的敞口石墨坩埚；包覆在石墨桶外保温层，其包括石墨硬毡；位于石墨桶外同时位于保温层内的发热体；真空泵和硅蒸汽处理盒，硅蒸汽处理盒一端通过...
    2026-04-12
  • 一种用于铸造法制备锗晶体的复合坩埚及制备方法和应用
    一种用于铸造法制备锗晶体的复合坩埚及制备方法和应用_浙大宁波理工学院_202511783289.3
    本发明属于半导体材料制备技术领域，公开了一种用于铸造法制备锗晶体的复合坩埚及制备方法和应用。本发明利用高纯硅坩埚的高导热性、热稳定性和几何尺寸加工优势，在其内壁构筑原位过渡层与致密屏障层，有效避免了硅与熔融锗的互溶反应，降低了润湿性，减少了...
    2026-04-12
  • 一种具备人工凹槽的高温超导REBCO块材的制备方法
    一种具备人工凹槽的高温超导REBCO块材的制备方法_西南交通大学_202511619472.X
    本发明提供了一种具备人工凹槽的高温超导REBCO块材的制备方法，属于REBCO高温超导材料制备技术领域，包括：制作辅助制备结构；采用固相烧结法制备得到REBCO原料粉体并匀质混合得到前驱粉体组合；基于制作完成的辅助制备结构，使用前驱粉体组合...
    2026-04-12
  • 一种电化学溶解设备
    一种电化学溶解设备_中国原子能科学研究院_202511653524.5
    本申请涉及放射性同位素制备技术领域，提供了一种电化学溶解设备，用于溶解辐照后的电镀金属靶件的镀层，电化学溶解设备包括电源、电解容器、尾气处理装置和阳极与阴极。电解容器形成有溶解腔和与溶解腔连通的尾气出口，溶解腔用于容纳电解液；阳极与阴极的至...
    2026-04-12
  • 一种金属表面微图案织构的制备方法
    一种金属表面微图案织构的制备方法_广西海洋科学院(广西红树林研究中心)_202511948774.1
    本发明公开了一种金属表面微图案织构的制备方法，属于金属材料及其加工技术领域。该方法包括：S1在单晶硅片上沉积金属遮光层并图形化，旋涂聚硅氧烷前体固化后剥离，制得柔性透明光刻模板；S2将模板共形贴合于清洗后的弯曲金属表面，紫外曝光并显影，形成...
    2026-04-12
  • 一种适用于复杂内腔的阳极氧化或电镀铂工装夹具
    一种适用于复杂内腔的阳极氧化或电镀铂工装夹具_国网河南省电力公司直流分公司_202511852382.5
    本发明提供了一种适用于复杂内腔的阳极氧化或电镀铂工装夹具，属于金属表面处理设备技术领域。包括夹具主体、内腔适配组件、导电连接机构以及密封定位单元；夹具主体为框架式结构，用于承载待处理工件；内腔适配组件可拆卸连接于夹具主体，且能够伸入待处理工...
    2026-04-12
  • 一种便于均匀电镀的金属制品电镀装置及方法
    一种便于均匀电镀的金属制品电镀装置及方法_南京工艺美术有限责任公司_202512006059.2
    本发明公开了一种便于均匀电镀的金属制品电镀装置及方法，涉及便于均匀电镀的金属制品电镀装置技术领域，该便于均匀电镀的金属制品电镀装置，包括控制台，所述控制台的上表面开设有电镀液槽。该便于均匀电镀的金属制品电镀装置及方法在对手串铜件进行电镀前，...
    2026-04-12
  • 一种提升B30铜镍合金导热性能的微弧氧化层的制备方法
    一种提升B30铜镍合金导热性能的微弧氧化层的制备方法_集美大学_202511907888.1
    本发明公开了一种提升B30铜镍合金导热性能的微弧氧化层的制备方法，涉及金属表面改性技术领域，包括将B30铜镍合金切割、打磨、冲洗、干燥后得到铜镍合金样品；将硅酸钠、氢氧化钠、氮化硼加入到去离子水中，搅拌至充分溶解，得到电解液；将铜镍合金样品...
    2026-04-12
  • 一种制备钯纳米膜氢气传感器的方法
    一种制备钯纳米膜氢气传感器的方法_深圳汇北川科技股份有限公司_202511796246.9
    本发明公开了一种制备钯纳米膜氢气传感器的方法，属于传感器制备领域。一种制备钯纳米膜氢气传感器的方法，包括以下步骤：步骤一，铝片进行表面预处理；步骤二，对铝片进行电化学抛光；步骤三，对铝片进行一次氧化；步骤四，对铝片进行二次氧化，在其表面形成...
    2026-04-12
  • 一种用于高压电极箔水合处理的酰胺类-硫酸铝水合共晶电解质及其应用
    一种用于高压电极箔水合处理的酰胺类-硫酸铝水合共晶电解质及其应用_新疆广投桂东电子科技有限公司_202511890682.2
    本发明属于铝箔化成技术领域，公开了了一种用于高压电极箔水合处理的酰胺类‑硫酸铝水合共晶电解质及其应用。该水合共晶电解质由硫酸铝与酰胺类化合物(异烟酰胺、N‑甲基烟酰胺或2‑吡咯烷酮)按特定摩尔比复配而成，溶解于高纯水中形成稳定共晶体系。本发...
    2026-04-12
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