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最新专利技术
  • 一种镁锌合金表面的三价元素掺杂的层状双金属氢氧化物防腐蚀涂层及其制备方法
    一种镁锌合金表面的三价元素掺杂的层状双金属氢氧化物防腐蚀涂层及其制备方法_中国科学院上海硅酸盐研究所_202410942397.X
    本发明属于材料制备领域，涉及一种镁锌合金表面的三价元素掺杂的层状双金属氢氧化物防腐蚀涂层及其制备方法。所述镁锌合金表面的三价元素掺杂的层状双金属氢氧化物防腐蚀涂层包括：镁锌合金基体，以及原位形成在镁锌合金基体表面的三价元素掺杂的层状双金属氢...
    2026-03-24
  • 一种基于单宁酸的金属表面处理液及其制备方法与应用
    一种基于单宁酸的金属表面处理液及其制备方法与应用_陈江清_202511337344.6
    本发明公开了一种基于单宁酸的金属表面处理液及其制备方法与应用，属于金属表面处理技术领域。本发明的基于单宁酸的金属表面处理液按质量体积百分比包括以下组分：复合多酚体系3‑12％，多元金属盐体系2‑6％，缓释体系2‑5％，复合有机溶剂体系5‑1...
    2026-03-24
  • 一种防锈锯条及锯条防锈处理方法
    一种防锈锯条及锯条防锈处理方法_山东黑旋风锯业有限公司_202511850444.9
    本发明提供一种防锈锯条及锯条防锈处理方法，本发明通过添加Cu、Ni元素以及热处理优化使得框架锯条基体组织均匀、内应力低、化学稳定性高之后通过表面预处理, 化学钝化, 高温扩散, 表面封闭的多重协同处理，在框架锯条表面构建了结构致密、结合力强...
    2026-03-24
  • 钝化溶液及其应用、不锈钢表面处理方法及其应用
    钝化溶液及其应用、不锈钢表面处理方法及其应用_深圳市镨芯高精设备有限公司_202511925409.9
    本发明公开了一种钝化溶液及其应用、不锈钢表面处理方法及其应用，涉及不锈钢制品加工技术领域，其中所述钝化溶液以质量份数计，包括以下组分：硝酸40～45份、磷酸3～5份、草酸1～2份、氟化氢铵0.5～1份、柠檬酸0.5～1份、柠檬酸铵0.5～1...
    2026-03-24
  • 一种金属包覆的碳化硅纳米线吸波材料及制备方法和应用
    一种金属包覆的碳化硅纳米线吸波材料及制备方法和应用_西北工业大学_202511929892.8
    本申请公开了一种金属包覆的碳化硅纳米线吸波材料及制备方法和应用，具体涉及吸波复合材料的领域。包括多根碳化硅纳米线相互搭接形成的三维网络结构，且每根碳化硅纳米线表面包覆有金属层；碳化硅纳米线和金属之间形成异质界面，并在异质界面产生界面极化；吸...
    2026-03-24
  • 一种基于无颗粒墨水制备超薄铜箔的方法
    一种基于无颗粒墨水制备超薄铜箔的方法_东北大学_202511573519.3
    本发明属于柔性电子与超薄铜箔制备技术领域，公开一种基于无颗粒墨水制备超薄铜箔的方法。本发明旨在克服现有超薄铜箔制备技术中依赖载体层、工艺复杂、成本高昂的缺陷，提供一种基于无颗粒墨水的简易方法。所述方法通过在高分子聚合物基底上涂覆无颗粒墨水，...
    2026-03-24
  • 一种纳米铜催化液及其制备方法和在化学沉铜中的应用
    一种纳米铜催化液及其制备方法和在化学沉铜中的应用_深圳市正天伟科技有限公司_202511495043.6
    本发明涉及化学沉铜工艺技术领域，尤其涉及一种纳米铜催化液及其制备方法和在化学沉铜中的应用。本申请提供一种纳米铜催化液为水相分散于油相中形成的乳液，所述水相为纳米铜催化核和高分子分散剂，油相为氨基改性硅油，通过惰性气氛保护和低温反应，生成纳米...
    2026-03-24
  • 一种钛基-铱钽氧化涂层阳极及其制备方法和应用
    一种钛基-铱钽氧化涂层阳极及其制备方法和应用_湖南常德纳菲尔新材料科技有限公司_202511897371.9
    本发明公开了一种钛基‑铱钽氧化涂层阳极及其制备方法和应用，属于阳极制备技术领域，所述钛基‑铱钽氧化涂层阳极的制备过程为：将含钽源A的溶液刷涂在钛基体上，再进行烧结，重复刷涂‑烧结，获得覆钽钛基体；将铱钽氧化涂层液刷涂在覆钽钛基体上，再进行烧...
    2026-03-24
  • 一种稀土掺杂氧化镓薄膜、其制备方法及在光电集成器件中的应用
    一种稀土掺杂氧化镓薄膜、其制备方法及在光电集成器件中的应用_黄河科技学院_202511505790.3
    本发明公开一种稀土掺杂氧化镓薄膜、其制备方法及在光电集成器件中的应用，基于Ga22O33的日盲紫外探测器在火焰和电弧检测领域具有重要应用潜力，但器件性能受高暗电流的限制。同时，集成多个光电功能有助于减小器件尺寸并提高反馈速度。稀土掺杂是一种...
    2026-03-24
  • 一种用于化学气相沉积设备的加热装置和化学气相沉积设备
    一种用于化学气相沉积设备的加热装置和化学气相沉积设备_浙江阿童木科技有限公司_202511899858.0
    本申请涉及化学气相沉积设备领域，公开了一种用于化学气相沉积设备的加热装置和化学气相沉积设备，其中的用于化学气相沉积设备的加热装置包括竖轴，所述竖轴的底端固定安装有横梁。本申请具有以下优点和效果：便于电阻加热器、感应加热器、红外加热器三种加热...
    2026-03-24
  • 加热盘顶环及薄膜沉积设备
    加热盘顶环及薄膜沉积设备_拓荆科技(上海)有限公司_202511853090.3
    本发明提供了一种加热盘顶环和薄膜沉积设备。所述加热盘顶环包裹加热盘的外缘，所述加热盘顶环包括：内侧，所述内侧的表面贴合所述加热盘的外缘；外侧，所述外侧具有与一陶瓷环配合的结构，所述结构与所述陶瓷环之间的接触面互相配合。
    2026-03-24
  • 对基材进行热处理的方法和设备
    对基材进行热处理的方法和设备_艾克斯特朗欧洲公司_202511448296.8
    本发明涉及一种用于对基材进行热处理的方法，其中，基座(5)承载至少一个基材，由加热装置(13)加热，并且围绕转动轴线(A)被转动驱动，其特征在于，在相对于壳体(1)位置固定的热影响区(17)处，热量随着基座(5)的转动同步地从基座(5)导出...
    2026-03-24
  • 用于镀膜设备的防粒子沉积遮件
    用于镀膜设备的防粒子沉积遮件_无锡尚积半导体科技股份有限公司_202511915135.5
    本申请公开了一种用于镀膜设备的防粒子沉积遮件，设于镀膜腔内，包括设置呈环状的上板和下板，上板和下板之间通过上下交错并间隔排列的挡板形成有迷宫型气流通道；遮件外缘与镀膜腔内壁之间存在0‑2mm的间隙，镀膜腔的腔壁接地，将间隙构造成以正电荷为主...
    2026-03-24
  • 承载装置、半导体工艺腔室及半导体工艺设备
    承载装置、半导体工艺腔室及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202511913114.X
    本发明公开一种承载装置、半导体工艺腔室及半导体工艺设备，属于半导体工艺设备技术领域，所述的承载装置(100)包括舟加热件(140)以及在第一方向依次堆叠的底部承载舟(110)、中间承载舟(120)和顶部承载舟(130)，所述舟加热件(140...
    2026-03-24
  • 一种匀气结构和真空吸附系统
    一种匀气结构和真空吸附系统_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511629645.6
    本发明提供了一种匀气结构及多站真空吸附系统。匀气结构包括：第一端口，设于所述匀气结构的第一端，并连通气源和/或真空泵；第二端口，设于所述匀气结构的第二端，并至少连通真空规；多个第三端口，设于所述第一端口与所述第二端口之间，垂直所述第一端口与...
    2026-03-24
  • 半导体沉积工艺设备基座中心定位治具
    半导体沉积工艺设备基座中心定位治具_上海华力集成电路制造有限公司_202511483999.4
    本发明公开了一种半导体沉积工艺设备基座中心定位治具，包括：可形变主体，其形成为中空结构，其连接有气管，其充气后产生形变；气管，其一端连接气源，其另一端连接可形变主体，其用于向可形变主体充入压力气。本发明能提高对齐成功率，能减少PM Fail...
    2026-03-24
  • 一种混气结构及薄膜沉积设备
    一种混气结构及薄膜沉积设备_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511916710.3
    本发明提供了一种混气结构及薄膜沉积设备。混气结构包括：混气腔，设有出气口；至少一个进气罐，被设于所述混气腔内，并包括多个相互独立的缓冲腔，其中，每一所述缓冲腔分别具有对应的单向开口；以及多根进气管路，其中，每一所述进气管路的第一端分别连接至...
    2026-03-24
  • 一种等离子体辅助原子层沉积系统及工艺
    一种等离子体辅助原子层沉积系统及工艺_江苏迈纳德微纳技术有限公司_202511522588.1
    本发明公开了一种一种等离子体辅助原子层沉积系统及工艺，属于薄膜沉积技术领域。所述系统包括：工艺腔，所述工艺腔的顶部设有扩散口，所述工艺腔的底部通过升降机构连接样品台，所述工艺腔的底部还通过抽气管路连接真空泵，所述工艺腔上端通过等离子发生器上...
    2026-03-24
  • 一种衬套、拆装方法及工艺腔室
    一种衬套、拆装方法及工艺腔室_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511504921.6
    本发明提供了一种衬套、一种工艺腔室、一种衬套的拆装方法。所述衬套包括衬套本体及固定块。衬套本体设于工艺腔室传片口的内侧壁。所述衬套本体的外侧面设有纵向延伸的阶梯槽，所述阶梯槽包括多个台阶，各所述台阶与所述传片口内侧壁的间距自上而下地递减。固...
    2026-03-24
  • 一种抽气环组件及工艺腔室
    一种抽气环组件及工艺腔室_拓荆科技(上海)有限公司_202511695869.7
    本发明提供了一种抽气环组件包括：第一抽气环，环绕加热盘，所述第一抽气环上设有朝向第一方向的多个第一抽气孔，各所述第一抽气孔包括第一粗段及第一细段，并经由第一抽气路径连接真空机构，其中，所述第一粗段中设有第一堵头，所述第一堵头靠近或远离所述第...
    2026-03-24
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