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最新专利技术
  • 一种微型环隙双加脊纹波集成腔室
    一种微型环隙双加脊纹波集成腔室_南京航空航天大学_202511688652.3
    本发明公开了一种微型环隙双加脊纹波集成腔室，包括环隙双加脊纹波微波腔、MEMS原子气室、磁激励、介质匹配层和调谐结构，环隙双加脊纹波微波腔由内圈环隙结构和外圈空腔通过连接杆结合而成；内圈环隙结构用于形成谐振频率的等效电感和等效电容，外圈空腔...
    2026-03-22
  • 一种双共振原子钟的超微型基片集成波导腔室
    一种双共振原子钟的超微型基片集成波导腔室_南京航空航天大学_202511666648.7
    本发明公开了一种双共振原子钟的超微型基片集成波导腔室，包括：一基片集成波导环隙空腔，基片集成波导环隙空腔采用多层纵向缝隙基片集成波导纵向堆积而成，纵向缝隙基片集成波导包括金属化通孔和金属微带线，纵向缝隙基片集成波导设置有纵向缝隙；一MEMS...
    2026-03-22
  • 一种高精度电子表
    一种高精度电子表_福建众辰精密机芯有限公司_202511694949.0
    本发明涉及电子表技术领域，公开了一种高精度电子表，包括表壳，柄轴和转轴，表壳内侧壁一侧固定连接有外壳，外壳一侧固定连接有机芯，机芯中部固定连接有电子计时器，电子计时器内部设置有柄轴，柄轴一端固定连接有转盘二，转盘二一侧固定连接有多个磁铁二，...
    2026-03-22
  • 集成在机械机芯内的限位装置及机械机芯
    集成在机械机芯内的限位装置及机械机芯_淳安千岛湖波菲特电子科技有限公司_202511618424.9
    本发明公开了一种集成在机械机芯内的限位装置及机械机芯，涉及机械机芯技术领域，集成在机械机芯内的限位装置包括第一限位件、第二限位件和设置于所述上夹板上的至少一个止挡结构；所述第一限位件通过一紧固件活动地安装于所述上夹板上，并能绕该紧固件摆动；...
    2026-03-22
  • 一种基于幅相耦合调制的超分辨率声学全息成像方法及系统
    一种基于幅相耦合调制的超分辨率声学全息成像方法及系统_东南大学_202511485774.2
    本发明涉及声学全息成像技术领域，涉及一种基于幅相耦合调制的超分辨率声学全息成像方法及系统。获取目标图像，生成幅值全息图；基于声波传播的物理模型，建立幅值全息图的复声压幅值与相位之间的耦合关系模型；基于时间反演原理逆向反演幅值全息图，根据耦合...
    2026-03-22
  • 测量全息投影仪的对比度的方法
    测量全息投影仪的对比度的方法_恩维世科斯有限公司_202510784415.0
    提供了一种用于确定全息重放场的强度比率的方法。该方法包括在包括壳体的平面处形成全息重放场，其中全息重放场包括图像区域和非图像区域。该方法还包括在全息重放场的第一位置显示第一特征。该方法还包括使用第一光检测器测量第一特征的强度IA，其中第一光...
    2026-03-22
  • 基于光学一阶特性的关联光全息系统
    基于光学一阶特性的关联光全息系统_北京理工大学_202511526746.0
    本发明公开了基于光学一阶特性的关联光全息系统，属于关联光全息技术领域。本发明解决了现有量子系统非常脆弱，其结果容易受到环境噪声的影响，与环境的相互作用会导致纠缠态的退相干，降低与未增强的经典情况相比所具有的优势的问题，通过偏振纠缠实现的量子...
    2026-03-22
  • 全息图生成方法、全息图生成装置以及光照射装置
    全息图生成方法、全息图生成装置以及光照射装置_浜松光子学株式会社_202510783798.X
    本发明涉及全息图生成方法、全息图生成装置以及光照射装置。全息图生成方法具有图案设定步骤(S1)、强度图像计算步骤(S2)、评价值计算步骤(S3)等。在步骤(S2)中，对将在步骤(S1)中设定的候补图案提示于输入面时得到的复振幅分布进行零填充...
    2026-03-22
  • 保护层形成装置和图像形成装置
    保护层形成装置和图像形成装置_株式会社理光_202510593135.1
    本发明提供一种兼具长期的像承载体的保护性和清洁性的、能够形成像承载体保护层的保护层形成装置和图像形成装置。使用与像承载体表面抵接的润滑剂涂布刮板，在像承载体表面涂布润滑剂，形成像承载体保护层的保护层形成装置，其特征在于：所述润滑剂为脂肪酸金...
    2026-03-22
  • 打印头及打印机
    打印头及打印机_武汉华星光电技术有限公司_202511589256.5
    本申请提供一种打印头及打印机，打印头包括基板、设置在基板上的发光阵列和设置在基板上的温度传感器；发光阵列包括多个发光单元；温度传感器，用于监测发光单元在目标工况下的实时温度；时序控制器，用于基于目标工况和预测模型确定预测温度，根据实时温度和...
    2026-03-22
  • 对准结构、半导体结构以及半导体结构的制造方法
    对准结构、半导体结构以及半导体结构的制造方法_深圳市昇维旭技术有限公司_202511698385.8
    本申请属于半导体制造领域，具体涉及一种对准结构、半导体结构以及半导体结构的制造方法，对准结构设置于基底上，对准结构包括多个沿第一方向间隔排布的第一部分和连接于相邻第一部分之间的第二部分，第一部分包括底层和位于底层上的图案层，图案层包括多个间...
    2026-03-22
  • 光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法
    光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法_普雨科技(苏州)有限公司_202511545511.6
    本申请提供了一种光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法，可以应用于光刻对准技术领域。该光刻对准标记包括：在第一对准面的上表面沿第一方向周期性排列的多条第一直条纹；以及在第二对准面的下表面沿第一方向周期性排列的多条第二直条纹；第一直条纹与...
    2026-03-22
  • 光刻胶的去除方法和去除装置以及光刻工艺的返工方法
    光刻胶的去除方法和去除装置以及光刻工艺的返工方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202511666449.6
    本申请公开了光刻胶的去除方法和去除装置以及光刻工艺的返工方法，该光刻胶的去除方法包括：提供一衬底，衬底表面有光刻胶；利用不同方向有浓度差的刻蚀气体刻蚀光刻胶，形成不规则胶层结构；对不规则胶层结构进行湿法剥离处理；对剥离不规则胶层结构后的衬底...
    2026-03-22
  • 一种基于激光选区剥离辅助构建金属基微透镜阵列的方法
    一种基于激光选区剥离辅助构建金属基微透镜阵列的方法_北京理工大学_202511481755.2
    本发明公开了一种基于激光选区剥离辅助构建金属基微透镜阵列的方法，属于微纳光学结构制造技术领域，首先对金属基底进行表面预处理，随后旋涂光刻胶并进行紫外固化，形成抗蚀掩膜层；采用计算机程序控制的高分辨率激光束对掩膜层进行选区去除，实现无掩膜可编...
    2026-03-22
  • 一种光学邻近校正方法及装置
    一种光学邻近校正方法及装置_华芯程(杭州)科技有限公司_202511678316.0
    本发明公开了一种涉及集成电路生产领域，特别是涉及一种光学邻近校正方法及装置，通过接收晶片表面形貌图案、目标晶片图案及照射光强；将所述晶片表面形貌图案与预设的名义光刻胶厚度，输入预训练的光刻胶厚度分布模型，得到对应的光刻胶厚度分布；根据所述光...
    2026-03-22
  • 大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法
    大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法_北京工业大学_202511585419.2
    本发明提供一种大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法，应用于激光加工技术领域，包括：退卷辊用于承载并释放待加工的薄膜；盛料装置及同步上料部件用于储存直写浆料，并在薄膜经过时，将直写浆料均匀涂敷于薄膜的表面，形成浆料层；烘干区域用于对涂敷有浆...
    2026-03-22
  • 一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统
    一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511572780.1
    本发明公开了一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统，方法包括：S1.进行工件台移动路径规划、图形划分及曝光窗设计；S2.基于图形划分和曝光窗设计，进行工件台速度规划设计；S3.进行工件台位置速度测量及曝光设计；实时测量工件台的位...
    2026-03-22
  • 一种真空吸笔
    一种真空吸笔_美新半导体(绍兴)有限公司_202511569769.X
    本发明提供一种真空吸笔，其包括：笔柄；真空吸管，其设置于笔柄内；外软管，其位于笔柄外且位于笔柄的一端，外软管的一端与真空吸管的一端密封连接并内部连通；连接管，其位于笔柄的另一端，连接管的顶部设置有一个顶部端口，连接管的侧壁上依次间隔的设置有...
    2026-03-22
  • 曝光方法、系统及计算机存储介质
    曝光方法、系统及计算机存储介质_武汉新芯集成电路股份有限公司_202511564502.1
    本发明提供一种曝光方法、系统及计算机存储介质，曝光方法包括：获取历史曝光能量数据以及对应的历史生产信息；将所述历史曝光能量数据按照所述历史生产信息的不同种类进行分组，以建立数据库；将待曝光的光刻胶层的新生产信息与所述数据库中的各组对应的所述...
    2026-03-22
  • 曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机
    曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机_昆山龙腾光电股份有限公司_202511554120.0
    本发明实施例公开了一种曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机。该系统包括曝光工作台端检测模块、控制模块、位置调整模块以及入力功率调整模块；控制模块在第一曝光光照强度小于目标曝光光照强度时，控制位置调整模块调整聚光镜在第一移动范围内移动，...
    2026-03-22
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