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  • 本发明提供了一种具有超薄碳层包覆结构的吸波导热一体化材料及其制备和吸波导热片, 其中制备方法包括:将导热基底填料转移至气固流化床内垂直设置的石英管中, 组装气固流化床后检查气密性, 气密性符合要求后向石英管中通入惰性气体使导热基底填料处于流...
  • 一种外延沉积纳米界面层提高石墨烯‑铜复合材料电导率的方法, 采用化学气相沉积(CVD)技术在铜箔表面沉积石墨烯, 形成石墨烯/铜复合箔片;在此基础上经磁控溅射沉积纳米级别厚度的铜层并热压键合, 制备得到纳米铜层‑石墨烯/铜复合基元;然后将若...
  • 本发明提供了一种用于高超声速飞行器前缘的抗氧化/抗烧蚀碳化硅基复合陶瓷涂层及其化学气相沉积工艺, 可适用于高超声速飞行器外蒙皮的热防护。该涂层是由SiC以及稀土掺杂的铪基陶瓷复合而成, 涂层在基材上覆盖完整, 组织致密, 无裂纹等缺陷。通过...
  • 本发明提供一种二维硒氧化铋薄膜的转移方法及其异质集成方法, 涉及半导体材料技术领域。本发明提供的二维硒氧化铋薄膜的转移方法通过TRT层/支撑层/应力层/氧化物层的复合转移媒介, 实现硒氧化铋薄膜的无损、洁净转移, 在转移过程中氧化物层作为接...
  • 本申请提供一种锅具PVD镀膜连续生产设备。所述锅具PVD镀膜连续生产设备用于对锅具批量镀膜, 其包括:至少一个镀膜室, 其用于形成真空镀膜环境;以及承载装置, 其用于承载多个锅具并被输送至所述镀膜室内, 所述承载装置包括移动托盘和放置在该移...
  • 本发明公开了一种光学镜片镀膜厚度精准调控及智能加工方法及系统, 属于自动化过程控制技术领域, 其包括建立基于光学镜片三维模型与目标膜系结构的工艺过程数字孪生模型进行虚拟镀膜仿真, 生成理想厚度生长曲线;采集镀膜腔体内预设的多个光谱反射探头的...
  • 本发明属于真空镀膜技术领域, 公开一种膜厚监控机构及真空镀膜室。膜厚监控机构包括转动机构和监控机构, 转动机构被配置为设置于真空腔室, 转动机构包括驱动组件、公转盘和行星组件, 行星组件包括转动架, 转动架转动设于公转盘, 驱动组件用于驱动...
  • 本发明公开了一种超高真空双面镀膜立方光学腔的结构设计与优化方法, 涉及超高真空双面镀膜立方光学腔技术领域, 本发明通过结构‑算法‑工艺三重协同设计, 显著改善超高真空双面镀膜立方光学腔的可靠性:采用双级缓冲层, 纳米多孔镀膜和波纹管物理吸收...
  • 本发明公开了一种NCVM不导电真空镀膜工艺执行监控方法及系统, 涉及真空镀膜相关领域, 包括:对基材表面进行检测单元网格动态划分;通过红外热成像仪对自适应网格基材表面进行实时扫描, 得到基材动态温度分布矩阵;根据镀膜厚度与温度梯度的映射关系...
  • 本发明提供一种用于磁控溅射镀膜机的承载装置, 属于镀膜机技术领域, 包括箱体, 所述箱体的内底部设置有旋转电机, 所述旋转电机的上方设置有快换机构, 快换机构包括转轴、承载主轴和连接轴, 所述承载主轴的下端通过环形套块和插接块一插接在转轴上...
  • 本发明公开了一种基于镓离子注入铁及铁合金的改性涂层的制备方法, 包括:将铁基体预处理后固定于离子注入机的样品盘上, 将Fe‑Ga合金靶材安装在离子注入机中, 真空环境下设置离子注入参数, 进行离子注入后在所述铁基体表面形成所述改性涂层;其中...
  • 本发明公开了一种加强真空舱密封的磁控溅射镀膜机, 属于镀膜机技术领域, 包括真空箱, 真空箱内部一端固定安装有套块, 套块内部滑动安装有移动杆, 移动杆下端一侧开设有滑槽, 滑槽内部滑动安装有检测组件, 检测组件用于对靶材表面的粗糙度进行检...
  • 本申请涉及一种新型卷绕镀膜磁控阴极系统装置, 属于真空镀膜设备的领域, 其包括真空腔室、镀膜辊系、支撑架体、滑移架、阴极系统和锁定件, 镀膜辊系设置在真空腔室内且用于将基材卷料输送至阴极系统镀膜后再进行收卷, 支撑架体设置在真空腔室外部, ...
  • 本发明属于旋转氧化铌靶材技术领域, 公开一种旋转氧化铌靶材, 包括氧化铌主体层和内衬管, 氧化铌主体层包括氧化铌工作表层和金属过渡底层, 氧化铌主体层在氧化铌工作表层和金属过渡底层之间设有功能梯度中间层;该功能梯度中间层由Nb2O5和TiO...
  • 本发明公开了一种管内孔等离子体镀膜装置与工艺, 包括镀膜桶以及安装在镀膜桶上端的桶盖, 所述桶盖上安装有用于装载管件的旋转夹具, 所述镀膜桶内设置有用于改变管件相位位置的辅助真空室, 所述镀膜桶的下端连通有第一功能室、第二功能室和功能真空室...
  • 本发明属于铜基金属导热材料技术领域, 具体涉及一种铜基金刚石高导热系数复合材料及其制备方法。本发明提供的制备方法, 包括如下步骤:对金刚石颗粒进行超声清洗, 在金刚石颗粒表面沉积金属层;将金刚石颗粒与硅烷偶联剂混合, 然后加入铜粉和纳米碳化...
  • 本发明公开一种大尺寸椭球镜镀膜方法, 涉及光刻机零件制造技术领域, 通过设计铝制模拟镜并标记X/Y轴, 间隔张贴硅片作为测量点;采用直线式磁控溅射设备, 在优化真空及氩气压下, 依次溅射Mo/Si层形成[Mo/Si]10周期膜;通过XRR测...
  • 本发明公开了一种长寿命耐腐蚀Al/MAX复合涂层及其制备方法与应用, 属于防护涂层技术领域。该长寿命耐腐蚀Al/MAX复合涂层包括底层和面层;其中, 所述底层由至少一个底层单元组成, 每个底层单元均由Al层和MAX相层组成;相邻的2个底层单...
  • 本发明提供高硬度高耐温的AlCrN压电涂层材料及其制备和应用, 涉及压电薄膜材料技术领域。AlCrN压电涂层材料的制备方法包括:采用Al和Cr组成的合金靶材, 其中Al的含量高于70%, Cr的含量小于30%, 通过磁控溅射在基体表面形成A...
  • 本发明提供了一种优化YIG/Au薄膜异质界面结合强度的方法, 所述方法包括, 清洗YIG薄膜基底;对YIG薄膜基底表面做活化处理;磁控溅射打底层;磁控溅射过渡层;磁控溅射功能层。本发明采用离子源清洗并活化YIG薄膜基底表面, 再通过Cr打底...
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