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最新专利技术
  • 一种石材边沿加工设备
    一种石材边沿加工设备_福建省锐丰源石业有限公司_202610361480.7
    本发明涉及石材加工技术领域，提供一种石材边沿加工设备，解决现有石材边沿加工设备由于设计缺陷易造成石材损伤、位置偏移，同时加工效率低下的问题。本发明包括：往返轨，包括两条间隔设置的输送轨；下压辊组，设于各所述输送轨一侧；驱动部件，用于使所述下...
    2026-05-02
  • 一种圆柱形耐磨条生产用抛光设备及方法
    一种圆柱形耐磨条生产用抛光设备及方法_山东瑞鑫钨业有限公司_202610163843.6
    本发明属于耐磨条抛光技术领域，涉及一种圆柱形耐磨条生产用抛光设备及方法，包括抛光机本体，抛光机本体上安装有滑台座和抛光轮，滑台座上固定连接有导轮，抛光机本体上设置有辅助组件，辅助组件包括对中部件与引导部件，对中部件用于将耐磨条约束并对准抛光...
    2026-05-02
  • 一种柱形木材表面抛光设备
    一种柱形木材表面抛光设备_九江翔博智能家居有限公司_202610344735.9
    本发明涉及木材加工领域，尤其涉及一种柱形木材表面抛光设备。现有圆木抛光难以精确控制平移速度，导致抛光均匀性差，表面一致性不佳，抛光产生的木屑需额外停机清理，降低了加工效率，圆木在转动时易发生跳动，缺乏有效的实时稳定抑制，影响抛光精度。一种柱...
    2026-05-02
  • 一种隔膜泵金属配件的自动加工机
    一种隔膜泵金属配件的自动加工机_嘉善边锋人工智能科技有限公司_202610354694.1
    本发明涉及隔膜泵配件加工技术领域，具体的是一种隔膜泵金属配件的自动加工机，本发明包括基座，所述基座的顶部转动连接有曲柄轮、橡胶摩擦辊和抛光辊，曲柄轮的外周开设有一个用于承接工件的V形下料槽；所述基座内部设置有下料仓，基座顶部开设有与下料仓连...
    2026-05-02
  • 一种阀体内孔抛光装置
    一种阀体内孔抛光装置_东莞市腾信精密制造股份有限公司_202610365530.9
    本发明涉及阀体磨削抛光技术领域，并公开了一种阀体内孔抛光装置，包括抛光部，所述抛光部包括工作台，所述工作台通过设置在其上表面的滑轨滑动连接有驱动座，所述驱动座的内部传动连接有主轴，所述主轴的外表面套设有传动轴，所述传动轴的外表面设置有对外部...
    2026-05-02
  • 一种桌子钢架抛光机
    一种桌子钢架抛光机_安徽弘昱智能科技有限公司_202610360394.4
    本发明属于抛光机技术领域，尤其为一种桌子钢架抛光机。本发明包括加工防护仓、加工防护仓内侧设置的钢板限定框、用于对钢管四个面进行抛光的抛光载板以及砂带抛光机组件；所述抛光载板上对应矩形钢管的上下左右四个平面分别设置有移动抛光盘和定位抛光盘，抛...
    2026-05-02
  • 一种流道内置球形磁场的磁流变高效抛光装置
    一种流道内置球形磁场的磁流变高效抛光装置_湘潭大学_202610335817.7
    本发明公开了一种流道内置球形磁场的磁流变高效抛光装置，包括串联球形磁场发生装置和磁流变液往复供给系统。所述串联球形磁场发生装置将多个磁性小球通过柔性绳索串联后置于流道内，磁性小球产生的磁场使往复运动的磁流变液发生流变效应，形成柔性“磁刷”，...
    2026-05-02
  • 一种深拉伸模具零件精加工抛光装置
    一种深拉伸模具零件精加工抛光装置_马鞍山三维智能制造有限公司_202610211169.4
    本发明公开了一种深拉伸模具零件精加工抛光装置，属于模具加工相关技术领域，包括抛光桶、固定基座和筛料器，所述抛光桶活动安装在固定基座的上端内侧，所述筛料器弹性安装在固定基座的上端位于抛光桶的下方位置，所述筛料器包括上盘体和下盘体，所述上盘体滑...
    2026-05-02
  • 支撑装置与珩磨设备
    支撑装置与珩磨设备_娄底市中兴液压件有限公司_202610253377.0
    本发明涉及珩磨设备技术领域，公开了一种支撑装置与珩磨设备。支撑装置包括支撑机构、调节机构和限位机构，支撑机构套设于珩磨设备的珩磨杆，在第一状态下，支撑机构随珩磨杆移动，在第二状态下，支撑机构与珩磨杆之间脱离连接，以使珩磨杆相对于支撑机构移动...
    2026-05-02
  • 一种多自由度补偿压力的四角加压研磨机
    一种多自由度补偿压力的四角加压研磨机_湖北智连光电科技有限公司_202610130036.4
    本发明公开了一种多自由度补偿压力的四角加压研磨机，属于精密研磨加工设备技术领域，其包括装置外壳，所述装置外壳的内底部固定安装有驱动电机，还包括：机盖，所述机盖固定连接于装置外壳的上端。通过驱动电机联动主动带轮、同步带、从动带轮及离心叶轮，产...
    2026-05-02
  • 一种掩模基板抛光用UPA压力的自动补偿系统及方法
    一种掩模基板抛光用UPA压力的自动补偿系统及方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202610222052.6
    一种掩模基板抛光用UPA压力的自动补偿系统及方法，包括压力执行模块、分布式传感反馈网络和智能控制单元；其中，压力执行模块用于直接对掩模基板进行抛光，包括施力轴、抛光头、气源、UPA气囊和电气比例阀，分布式传感反馈网络包括气路压力传感器和末端...
    2026-05-02
  • 一种球体研抛加工轨迹在线检测方法及装置
    一种球体研抛加工轨迹在线检测方法及装置_西南科技大学_202610381095.9
    本发明公开了一种球体研抛加工轨迹在线检测方法及装置，涉及精密加工在线检测领域，包括：S1、使用高速摄像机采集i时刻球体研抛加工过程中的连续图像序列；S2、对连续图像序列进行预处理和特征识别；S3、自转角速度测量模块解算自转角度和自转角速度以...
    2026-05-02
  • 复合界面的平坦化方法
    复合界面的平坦化方法_北京赛微电子股份有限公司_202610025072.4
    本申请公开了一种复合界面的平坦化方法。复合界面的平坦化方法包括提供一待研磨的初始晶圆，初始晶圆包括衬底及设于衬底一侧的复合层，复合层包括交错设置的金属部和有机部，金属部的初始高度大于有机部的初始高度；利用第一研磨液对初始晶圆进行第一阶段研磨...
    2026-05-02
  • 一种化学机械抛光设备和抛光方法
    一种化学机械抛光设备和抛光方法_华海清科股份有限公司_202610182595.X
    本发明公开了一种化学机械抛光设备和抛光方法，该化学机械抛光设备包括：前置单元；抛光单元，位于前置单元的侧方，其包括上方的抛光腔室和下方的传输腔室，所述抛光腔室配置有装载晶圆的承载头；传输机构，位于传输腔室中，包括水平导轨和夹持机构，夹持机构...
    2026-05-02
  • 一种化学机械抛光设备和抛光方法
    一种化学机械抛光设备和抛光方法_华海清科股份有限公司_202610188222.3
    本发明公开了一种化学机械抛光设备和抛光方法，属于半导体制造技术领域。该化学机械抛光设备包括：抛光机构，其包括位于上方的抛光腔室和位于下方的传输腔室，所述抛光腔室配置有装载晶圆的承载头；传输机构，位于传输腔室中，包括水平导轨和夹持机构，夹持机...
    2026-05-02
  • 一种玻璃双面同步研磨加工方法及系统
    一种玻璃双面同步研磨加工方法及系统_浙江罗克光电科技有限公司_202512006051.6
    本申请提供一种玻璃双面同步研磨加工方法及系统，涉及研磨技术领域，旨在解决现有技术中因控制策略粗放而导致的加工效率低、面形修正能力弱、精度一致性差以及易引入附加应力的问题。该方法包括：在研磨过程中，基于加工状态数据对上研磨盘施加第一压力，第一...
    2026-05-02
  • 一种铝合金宽板镜面生产设备及其生产工艺
    一种铝合金宽板镜面生产设备及其生产工艺_中国重型机械研究院股份公司_202610179152.5
    本发明属于金属表面处理技术领域，特别涉及一种铝合金宽板镜面生产设备及其生产工艺。该生产设备包括自动上料单元、粗抛光单元、精抛光单元、往复式真空吸附平台、输送单元、清洗烘干装置、自动下料单元以及控制器；精抛光单元包含沿板宽方向排列的多组打磨头...
    2026-05-02
  • 化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统
    化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统_华海清科股份有限公司_202610198479.7
    本发明提供一种化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统，化学机械抛光设备包括：沿化学机械抛光设备的长度方向顺序设置的前置单元、竖直传输单元和加工单元，竖直传输单元和加工单元具有独立的框架且相互间设置有缓震结构，加工单元包括位于下层的...
    2026-05-02
  • 一种多精度芯片研磨装置及芯片研磨设备
    一种多精度芯片研磨装置及芯片研磨设备_苏试宜特(深圳)检测技术有限公司_202610240002.0
    本申请提供一种多精度芯片研磨装置及芯片研磨设备，研磨装置包括固定座、导向杆、出针部和多个不同研磨尺寸的研磨探针。导向杆第一端与固定座连接，导向杆表面设有沿周向分布且沿轴向延伸的多条导向槽。出针部装在导向杆第二端，出针部设有与导向槽延伸方向一...
    2026-05-02
  • 半导体抛光方法及抛光头膜片
    半导体抛光方法及抛光头膜片_南亚科技股份有限公司_202610093580.6
    一种抛光头膜片包含圆形底壁以及多个环状隔间壁。多个环状隔间壁自底壁向上延伸，用以将底壁划分为至少四个同心区域。至少四个同心区域包含第一区域及第二区域，第一区域与第二区域分别为最靠近及次靠近底壁的中心的区域，且多个补强结构嵌设于底壁的第一区域...
    2026-05-02
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