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最新专利技术
  • 提高OPC运算效率的方法及系统、电子设备、计算机可读存储介质
    提高OPC运算效率的方法及系统、电子设备、计算机可读存储介质_重庆芯联微电子有限公司_202511732851.X
    本发明提供了一种提高OPC运算效率的方法及系统、电子设备、计算机可读存储介质，属于半导体领域。该提高OPC运算效率的方法包括提供一版图，将所述图形模块至少划分成高密度图形模块和低密度图形模块；将所述高密度图形模块进行划分，形成分割区域，将所...
    2026-04-10
  • 掩模版图修复方法、装置及产品
    掩模版图修复方法、装置及产品_东方晶源微电子科技(上海)有限公司_202610163512.2
    本申请公开了一种掩模版图修复方法、装置及产品，涉及半导体集成电路技术领域。掩模版图修复方法包括：采用光刻模型对掩模版图进行光刻模拟，获得掩模版图对应的预测图形；对预测图形进行光刻规则检查，获取预测图形中违反光刻规则的缺陷点的位置及其类型；根...
    2026-04-10
  • 光刻遮罩及制造光刻遮罩的方法
    光刻遮罩及制造光刻遮罩的方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202511646322.8
    本揭露的一实施方式涉及一种光刻遮罩及制造光刻遮罩的方法。此方法包括在基板上形成多层反射结构。在多层反射结构上方形成盖层。在盖层上方形成缓冲层，并在缓冲层上方形成吸收层。吸收层至少包括第一吸收层及第二吸收层，各吸收层均包括非合金元素，且第一吸...
    2026-04-10
  • 调整芯片不同结构层图形密度的方法及系统、版图、芯片
    调整芯片不同结构层图形密度的方法及系统、版图、芯片_重庆芯联微电子有限公司_202511791941.6
    本发明提供了一种调整芯片不同结构层图形密度的方法及系统、版图、芯片，属于半导体领域。该调整芯片不同结构层图形密度的方法包括提供一版图，所述版图中包括芯片不同结构层图形，在所述目标图层填充矩阵单元图形，所述矩阵单元图形包括多个子单元图形，所述...
    2026-04-10
  • 多结构拼版纳米压印模具及其制作方法
    多结构拼版纳米压印模具及其制作方法_清华大学_202610011921.0
    本发明提供一种多结构拼版纳米压印模具及其制作方法，模具，包括：承载基板，承载基板上开设有按预设阵列排布的定位槽；压印模板，设置于定位槽内，压印模板上形成有预设微纳结构；固定系统，固定系统设置于承载基板上，用于将各压印模板一一固定于对应定位槽...
    2026-04-10
  • 抗电镀组合物及其干膜、固化物和太阳能电池的电极
    抗电镀组合物及其干膜、固化物和太阳能电池的电极_太阳油墨(苏州)有限公司_202411368987.2
    提供具有优异的抗电镀性能和去膜性能的抗电镀组合物及其干膜、固化物和太阳能电池的电极。该抗电镀组合物包含(A)含羧基树脂、(B)感光性单体和(C)光聚合引发剂，所述(A)含羧基树脂包含酸改性甲酚酚醛清漆型环氧丙烯酸酯树脂，所述(C)光聚合引发...
    2026-04-10
  • 抗电镀组合物及其干膜、固化物和太阳能电池的电极
    抗电镀组合物及其干膜、固化物和太阳能电池的电极_太阳油墨(苏州)有限公司_202411368989.1
    提供曝光能量低且感光度高的抗电镀组合物和干膜、以及由其形成的具有优异的耐电镀性能、分辨率高、且无侧蚀、无渗镀现象产生的固化物和使用其的太阳能电池的电极。该抗电镀组合物包含(A)含羧基树脂、(B)感光性单体以及(C)光聚合引发剂，所述(C)光...
    2026-04-10
  • 一种光刻胶组成物、光刻胶和图案的形成方法
    一种光刻胶组成物、光刻胶和图案的形成方法_张江国家实验室_202411458246.3
    本申请公开了一种光刻胶组成物、光刻胶和图案的形成方法。该光刻胶组成物包括第一共聚物，第一共聚物包括第一重复单元和第二重复单元。光刻胶组成物还包括第二共聚物，第二共聚物包括第三重复单元。第一共聚物和第二共聚物均还包括第四重复单元和第五重复单元...
    2026-04-10
  • 转印膜、树脂图案的制造方法及导电图案的制造方法
    转印膜、树脂图案的制造方法及导电图案的制造方法_富士胶片株式会社_202511254650.3
    本发明提供一种转印膜等，该转印膜具有比以往更高的灵敏度，在通过使用直接描绘法的曝光在基板上形成树脂图案时，能够形成高分辨率的树脂图案。本发明提供一种转印膜及其应用，该转印膜具备临时支承体及配置于临时支承体上的感光性树脂层，感光性树脂层包含碱...
    2026-04-10
  • 感光性树脂组合物、转印膜、树脂图案的制造方法、导电图案的制造方法及聚合物
    感光性树脂组合物、转印膜、树脂图案的制造方法、导电图案的制造方法及聚合物_富士胶片株式会社_202511254660.7
    本发明提供一种感光性树脂组合物等，该感光性树脂组合物能够形成密合性优异的树脂图案。本发明提供一种感光性树脂组合物等，该感光性树脂组合物含有：聚合物，其包含具有由下述式(1)表示的基团的结构单元和具有选自由甲硅烷基及氟基组成的组中的至少1种的...
    2026-04-10
  • 感光性树脂组合物、遮光膜及显示装置
    感光性树脂组合物、遮光膜及显示装置_日铁化学材料株式会社_202511388873.9
    本发明的课题是提供可兼具高遮光性与降低玻璃基板面侧及膜面侧双方的反射率而且氟的使用量极少而也可对应PFAS的规范等的要求而环境友善的感光性树脂组合物、遮光膜及显示装置。本发明的感光性树脂组合物含有(A)至(F)成分且同时满足下述(i)及(i...
    2026-04-10
  • 一种交联密度梯度变化的光刻胶组合物及其图案化的方法
    一种交联密度梯度变化的光刻胶组合物及其图案化的方法_重庆芯联微电子有限公司_202511897592.6
    本发明提供一种交联密度梯度变化的光刻胶组合物及其图案化的方法，通过在光刻胶组合物中引入低分子量第一交联剂和高分子量第二交联剂，使得光刻胶组合物在形成光刻图案的曝光后烘烤过程中发生交联反应，由于第一交联剂的扩散速率大于第二交联剂，能够实现光刻...
    2026-04-10
  • 化学放大负性光刻胶组合物及应用
    化学放大负性光刻胶组合物及应用_苏州凯芯半导体材料有限公司_202512060749.6
    本发明提供了一种化学放大负性光刻胶组合物及应用。以重量份数计，该化学放大负性光刻胶组合物包括：5~25份的第一酚醛树脂、5~25份的第二酚醛树脂、3~8份的交联剂、0.5~1.5份的光致产酸剂、0.1~1.0份的碱性添加剂、0.5~1.5份...
    2026-04-10
  • 光阻结构、包含该光阻结构的半导体元件及其制造方法
    光阻结构、包含该光阻结构的半导体元件及其制造方法_南亚科技股份有限公司_202510332958.9
    本公开提供一种光阻结构、包括该光阻结构的半导体元件、以及包括该光阻结构的该半导体元件的制备方法。该光阻结构包括一下光阻层；以及位在该下光阻层上的一上光阻层。该上光阻层的一热膨胀系数大于该下光阻层的一热膨胀系数。
    2026-04-10
  • 光刻方法
    光刻方法_中国科学院半导体研究所_202511718434.X
    本发明提供一种光刻方法，该方法包括：通过第一光刻胶将待光刻的目标样片和衬底进行粘接；目标样片的尺寸小于阈值；通过第二光刻胶对粘接在衬底上的目标样片进行光刻胶匀胶，形成覆盖目标样片的光刻胶膜层；基于光刻胶膜层对目标样品进行光刻。本申请实施的方...
    2026-04-10
  • 多元金属中心-有机化合物光刻胶薄膜及其制备方法、器件
    多元金属中心-有机化合物光刻胶薄膜及其制备方法、器件_沈阳芯达科技有限公司_202512001008.0
    本申请实施例提供一种多元金属中心‑有机化合物光刻胶薄膜及其制备方法、器件。所述方法包括以下步骤：利用载气引入第一金属前驱体，使其吸附在衬底一侧表面，并通入惰性吹扫气体，移除未吸附的所述第一金属前驱体；利用所述载气引入有机前驱体，使其与所述第...
    2026-04-10
  • 一种感光材料板涂覆装置和感光材料板生产方法
    一种感光材料板涂覆装置和感光材料板生产方法_河南汇达印通科技股份有限公司_202610232204.0
    本发明涉及感光材料板生产设备技术领域，名称是感光材料板涂覆装置，包括装置架，在装置架上具有输送电机带动的输送辊轮，在装置架上还安装有连接电机的辊轮带动的覆盖带，所述的覆盖带是橡胶制成的，所述的覆盖带包括基层和基层上面的凸起，所述的凸起包括基...
    2026-04-10
  • 晶圆缺陷的处理方法
    晶圆缺陷的处理方法_成都新紫光半导体科技有限公司_202411330505.4
    本公开涉及一种晶圆缺陷的处理方法，该方法包括：将待处理晶圆进行无图案曝光，得到曝光后的晶圆；其中，所述待处理晶圆具有缺陷；将所述曝光后的晶圆与显影液接触进行显影，得到显影后的晶圆；使用清洗介质对所述显影后的晶圆进行清洗，得到清洗后的晶圆。本...
    2026-04-10
  • 位置测量装置、方法以及曝光设备
    位置测量装置、方法以及曝光设备_上海微电子装备(集团)股份有限公司_202411383675.9
    本发明提供了一种位置测量装置、测量方法、工件台位置补偿方法、曝光方法以及曝光设备，该测量装置包括第一反射镜、第二反射镜、第一干涉仪参考轴、第二干涉仪参考轴和数据处理模块，第一反射镜和第二反射镜均配置为安装于物镜的底部；第一干涉仪参考轴配置为...
    2026-04-10
  • 一种光源的光刻空间像的获取方法、装置、设备及介质
    一种光源的光刻空间像的获取方法、装置、设备及介质_中国科学院微电子研究所_202411385750.5
    本申请提供一种光源的光刻空间像的获取方法、装置、设备及介质。方法包括：对目标光源进行栅格化，每个栅格代表一个光源点，得到光源点矩阵；根据所述光源点矩阵中任意两个光源点之间的相干度，得到所述光源点矩阵对应的相干度矩阵；根据所述相干度矩阵从所述...
    2026-04-10
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