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  • 本申请提供一种钼钛合金靶材的制备方法、钼钛合金靶材及其应用,属于难熔金属合金材料技术领域。所述钼钛合金靶材的制备方法,包括以下步骤:S1、制备钼钛母合金锭,并通过雾化工艺制成预合金粉末;S2、将所述预合金粉末与单质钼粉和/或单质钛粉进行混合...
  • 本申请涉及真空镀膜技术领域,具体公开了一种回片式溅射镀膜设备与进出片方法;其中,回片式溅射镀膜设备包括:镀膜腔室、装载腔室与传送机构;镀膜腔室与装载腔室相邻设置,且二者之间设置有能够开闭的室门;传送机构包括:旋转电机、推杆、升降驱动组件、推...
  • 本发明涉及靶材技术领域,具体为一种高纯钽旋转靶材及其制备方法,包括:主体成分:钽粉;改性成分:添加0.001‑0.005wt%的复合掺杂元素;复合掺杂元素为质量比1 : 2‑3混合的B、Zr;本发明技术方案各步骤相互配合,实现了杂质含量最低...
  • 本发明提供一种用于磁控溅射镀膜制备TCO薄膜的装置,所述装置的真空镀膜腔室内包括靶材和样品架,二者所在平面相互平行;靶材为圆形靶材;靶材的位置高于样品架;样品架用于放置镀膜衬底;样品架的上方设置有样品架挡板,且对应所述镀膜衬底设置,用于在关...
  • 提供一种溅射装置及薄膜的制造方法,其能够提高形成在基板上的薄膜的面内的膜厚分布的均匀性。根据本公开的溅射装置利用从靶的背面侧向着与所述靶的正面相对地设置的基板产生的磁场,使所述靶的溅射粒子附着在所述基板上,以形成薄膜,所述溅射装置具有:磁场...
  • 本发明公开了一种钼基钌银复合材料及其PVD制备方法与设备,属于钼基复合材料的技术领域。本发明的PVD制备方法包括以下步骤:将相同规格的钌靶材和银靶材设置于具有两个倾斜角度为30‑60°且对称设置、溅射区域相互重叠的阴极靶座的双座磁控溅射装置...
  • 本申请提供了一种物理气相沉积设备及沉积方法,该设备包括:反应腔室;相对设置在反应腔室两端的靶材及晶圆,分别用于提供沉积材料及形成沉积材料层;若干个磁场发生装置,位于反应腔室内部并环绕反应腔室排布,用于在反应腔室的内部空间产生局部磁场;控制系...
  • 本发明涉及腐蚀防护材料技术领域,针对现有的铅铋堆材料表面覆含铝涂层中,涂层材料与基体材料直接结合强度低,在铅铋堆服役环境中易出现开裂或脱落的问题,具体公开了一种预氧化耐高温铅铋腐蚀的Al/FeCrAl/Al/Al2O3涂层及其制备方法,所述...
  • 本发明涉及物理气相沉积技术领域,公开了一种液态靶材的高功率密度磁控溅射系统及方法,包括液态靶溅射模块用于盛放、加热靶材并产生高功率脉冲磁控溅射等离子体;温度监测模块用于监测靶材表面的温度分布;状态监测模块用于实时监测靶材的表面形貌与液面状态...
  • 本发明公开了一种耐磨疏水疏油镀层材料及其制备方法,属于功能保护镀层材料技术领域,所述耐磨疏水疏油镀层材料为Zr1‑xHfxN1‑yOy镀层,其中0≤x≤0.1, 0<y≤0.06。本发明通过调控镀层材料的微结构,能够协同提升镀层材料的硬度和...
  • 本发明公开了一种提高靶材利用率的磁控溅射设备,涉及磁控溅射设备技术领域,包括底撑座和横向对称调节组件;底撑座顶端沿其宽度方向滑动连接有滑座,滑座顶端竖向滑动连接有用于固定不锈钢片的卡座,滑座、卡座及不锈钢片构成可移动整体;横向对称调节组件包...
  • 本发明属于过渡层制备技术领域,具体来说是一种氮化硅陶瓷金属化用过渡层及其制备方法。本发明氮化硅陶瓷金属化用过渡层由自下而上依次层叠设置的TiN打底层、TiN‑Ti梯度过渡层和Ti层组成,提出一种基于磁控溅射技术、并设计用于氮化硅覆铜金属化的...
  • 一种双旋转靶真空镀膜机,包括镀膜机本体及其内部的真空腔,所述镀膜机本体上设置有抽真空组件,所述真空腔内设置有通过安装板安装在镀膜机本体上的遮蔽箱和设置在遮蔽箱两侧的离子源,遮蔽箱和离子源在真空腔内形成镀膜区和清洗及去应力区,所述遮蔽箱内设置...
  • 本发明提供了一种镀膜基底及其制备方法和应用,所述镀膜基底包括镀膜区域和边缘区域,所述边缘区域围绕所述镀膜区域设置有至少两个相邻的凹槽,所述相邻的凹槽之间设置隔离带,所述隔离带的顶部高于目标膜层与所述镀膜区域连接所在平面高度,所述隔离带的顶部...
  • 本发明公开一种固定模块以及处理装置。固定模块包括第一夹持组件、第二夹持组件、固定组件、转动组件以及弹性组件。第一夹持组件被配置成用于夹持物件。第二夹持组件对应于第一夹持组件,第二夹持组件被配置成用于夹持物件。固定组件对应于第二夹持组件。转动...
  • 本发明涉及晶圆镀膜用具技术领域,尤其是一种适用于多尺寸样品的镀膜仪磁吸支架,包括内置有磁吸机构的支撑体,所述支撑体的外侧对称配置有两个横移部件,两个所述横移部件共同支撑一个倾斜支架,并能通过自身的相对运动来调节所述倾斜支架的倾斜角度;其中,...
  • 本发明属于薄膜制备技术领域,公开了一种工件装载架和真空镀膜设备。工件装载架设置于真空腔体,工件装载架包括驱动件、行星主盘、二级行星结构、行星齿轮组件和载盘。驱动件安装于真空腔体上;行星主盘与驱动件传动连接,驱动件驱动行星主盘实现一级旋转;二...
  • 本发明涉及镀膜机技术领域,尤其涉及一种五金装饰镀膜机仿金铜炉体用挂具结构,包括转动连接在镀膜机炉体内的转架,所述转架的外壁上转动连接有若干个等距圆周分布的挂具杆,所述转架的顶部内壁上固定有若干个套装在挂具杆外壁上的固定套,每个所述固定套的底...
  • 一种应用于连续镀膜系统的进料系统、方法及连续镀膜系统,其中,所述进料系统包括:储料仓,与工艺仓连通,待镀膜的器件在所述工艺仓内进行镀膜,所述储料仓用于向所述工艺仓输送镀膜材料;补料仓,可选择地与所述储料仓连通或隔绝,所述补料仓用于向所述储料...
  • 本发明公开了一种用于卷对卷真空镀膜的高效水汽排除系统,包括腔体,腔体下部为蒸发区域,腔体上部通过挡板分为前置预处理区域和镀膜主腔体区域,蒸发区域与镀膜主腔体区域上下连通;所述前置预处理区域内设有复合加热系统和深冷捕集模块;所述镀膜主腔体区域...
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