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最新专利技术
  • 一种电操控垂直磁矩翻转方法、器件、磁随机存储器及电子设备
    一种电操控垂直磁矩翻转方法、器件、磁随机存储器及电子设备_上海交通大学_202511808308.3
    本发明公开了一种电操控垂直磁矩翻转方法，该方法利用自旋源层的高指数晶面的低对称性，实现自旋电子器件面外自旋极化电流的产生，并且在自旋源层/垂直铁磁层结构中翻转铁磁层的垂直磁矩。所述的低对称性是指仅存在一个一重旋转对称轴+一个镜面对称性，或者...
    2026-03-17
  • 一种自旋阀器件及其制备方法与检测方法
    一种自旋阀器件及其制备方法与检测方法_中国科学院化学研究所_202411226524.2
    本发明公开了一种自旋阀器件及其制备方法与检测方法。本发明提供了环化靛蓝类材料作为非磁性中间层在自旋阀器件中的应用。本发明还提供了利用环化靛蓝类材料作为非磁性中间层的自旋阀器件及其制备方法，以及针对所述自旋阀器件中非磁性中间层自旋扩散长度的检...
    2026-03-17
  • 磁性隧道结器件及自旋轨道矩磁阻式随机存储器
    磁性隧道结器件及自旋轨道矩磁阻式随机存储器_浙江驰拓科技有限公司_202411210697.5
    本申请提供了一种磁性隧道结器件，包括：依次层叠设置的势垒层、第二铁磁层、耦合层、第一铁磁层和自旋轨道层；所述自旋轨道层的材料为Bi1‑xSbx，0.1≤x≤0.3。本申请在Bi1‑xSbx构成的自旋轨道层和CoFeB、FeB、含CoFeB多...
    2026-03-17
  • 一种约瑟夫森结、版图结构及其制造方法
    一种约瑟夫森结、版图结构及其制造方法_本源量子计算科技(合肥)股份有限公司_202411166451.2
    本申请公开了一种约瑟夫森结、版图结构及其制造方法，属于量子芯片制造技术领域。制造版图结构的方法包括：获得与预设的标准参数对应的实际参数；根据实际参数，获得用于修正所述图形理论线宽的修正量；以及根据所述修正量，将蒸镀图形的宽度由所述图形理论宽...
    2026-03-17
  • 一种超导量子芯片及其制备方法和电子设备
    一种超导量子芯片及其制备方法和电子设备_深圳量旋科技有限公司_202511873003.0
    本申请提供了一种超导量子芯片及其制备方法和电子设备，涉及超导量子技术领域。超导量子芯片由第一量子裸片和第二量子裸片倒装键合形成，从而能够避免出现现有技术中所有超导量子比特和底层电路均制备在同一二维平面上所导致的问题，提高了超导量子芯片的性能...
    2026-03-17
  • 约瑟夫森结电阻调控方法、装置及电子设备
    约瑟夫森结电阻调控方法、装置及电子设备_本源量子计算科技(合肥)股份有限公司_202411166450.8
    本发明公开了一种约瑟夫森结电阻调控方法、装置及电子设备，属于量子芯片制备技术领域。该约瑟夫森结电阻调控方法中，根据待调控约瑟夫森结的第一位置信息，制备具有通孔的目标掩膜，利用目标掩膜的通孔仅暴露待调控约瑟夫森结，以对待调控约瑟夫森结进行定向...
    2026-03-17
  • 一种半导体结构及其形成方法
    一种半导体结构及其形成方法_北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司_202411253317.6
    本申请提供一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底，所述基底中形成有第一金属层；在所述第一金属层及所述第一基底的表面形成介质阻挡层；在所述介质阻挡层中形成暴露所述第一金属层的开口，其中，所述开口包括一体连接的第一段和第二段，所述第二段的宽度...
    2026-03-17
  • 一种仿视网膜全色神经突触器件及其制备方法
    一种仿视网膜全色神经突触器件及其制备方法_北京邮电大学_202411196380.0
    本发明提供了一种仿视网膜全色神经突触器件及其制造方法，包括：衬底层，构成器件支撑部分；电极层，位于衬底层之上，包括左边栅电极、中间栅电极、右边栅电极、源电极及漏电极；沟道层，位于衬底层和源电极、漏电极上，远离左边栅电极、中间栅电极及右边栅电...
    2026-03-17
  • 存储芯片、存储系统及电子设备
    存储芯片、存储系统及电子设备_华为技术有限公司_202411207711.6
    本申请公开的实施例属于存储技术领域，特别涉及一种存储芯片、存储系统及电子设备。其中，存储芯片的存储单元包括相叠置的存储层、第一金属层、第一电极层和第二电极层，其中，存储层和第一金属层位于第一电极层和第二电极层之间。在存储层处于高阻态的情况下...
    2026-03-17
  • 包含可变电阻式存储器和双电容的半导体结构及制作方法
    包含可变电阻式存储器和双电容的半导体结构及制作方法_联华电子股份有限公司_202411331354.4
    本发明提供一种包含有可变电阻式存储器和双电容的半导体结构以及其制作方法，其中包含有可变电阻式存储器(RRAM)和双电容的半导体结构包含一基底，基底上定义有一元件区以及一电容区位于元件区旁，一可变电阻式存储器位于元件区内，其中可变电阻式存储器...
    2026-03-17
  • 一种异质结基多模态光电突触器件及其制备方法
    一种异质结基多模态光电突触器件及其制备方法_杭州电子科技大学_202610162067.8
    本发明提供一种异质结基多模态光电突触器件及其制备方法，包括依次层叠的底电极、忆阻功能层、光敏层和顶电极；所述忆阻功能层包含富含氧空位的金属氧化物，且具有微纳结构表面；所述光敏层覆盖于忆阻功能层的微纳结构表面，与忆阻功能层形成异质结界面；所述...
    2026-03-17
  • 半导体元件及其制作方法
    半导体元件及其制作方法_联华电子股份有限公司_202411331445.8
    本发明公开一种半导体元件及其制作方法，其中该半导体元件包含一底电极层、一保护层、一绝缘层、一顶电极层、一第一接触结构以及一第二接触结构。底电极层包含一第一阶梯结构，其中第一阶梯结构包含一第一阶面以及一第二阶面低于第一阶面。保护层设置于第二阶...
    2026-03-17
  • 一种动态相变调控异质衬底、氮化镓外延制作方法
    一种动态相变调控异质衬底、氮化镓外延制作方法_南京邮电大学_202511852946.5
    本发明属于宽禁带半导体材料制备技术领域，涉及一种动态相变调控异质衬底、氮化镓外延制作方法。本发明通过调控异质衬底的晶格匹配和应力分布，提升GaN外延层的质量，降低缺陷密度，并增强其在高压、高功率应用中的可靠性。
    2026-03-17
  • 一种增强型二次谐波产生的复合结构及其制备方法与应用
    一种增强型二次谐波产生的复合结构及其制备方法与应用_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202610147631.9
    本发明提供了一种增强型二次谐波产生的复合结构及其制备方法与应用。所述复合结构包括衬底以及沿远离所述衬底的方向依次设置的GaN基结构、AlScN层；所述GaN基结构包括n型GaN层，所述AlScN层与所述n型GaN层异质结耦合；并且，所述Al...
    2026-03-17
  • 锑化铟芯片铍离子注入与快速热退火损伤修复方法及系统
    锑化铟芯片铍离子注入与快速热退火损伤修复方法及系统_北京龙知远科技发展有限公司_202511962126.1
    本发明提供一种锑化铟芯片铍离子注入与快速热退火损伤修复方法及系统，涉及半导体材料技术领域，包括通过对铍离子注入后的芯片进行深度损伤检测，基于损伤分布数据确定深度层结构，生成缺陷分布图谱，计算湮灭激活能，建立温度阶段序列，结合能量间隔生成分段...
    2026-03-17
  • 一种低成本消减硅片体内金属铜含量的方法
    一种低成本消减硅片体内金属铜含量的方法_上海中欣晶圆半导体科技有限公司_202511865429.1
    本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种低成本消减硅片体内金属铜含量的方法。该方法包括以下步骤：首先，通过自然存放或低温加热两种预处理方式之一，促使硅片体内的铜离子迁移至表面；其中，自然存放为在25~50℃洁净环境中密封放置1年以上，低温加热...
    2026-03-17
  • 采用微纳米气泡水对硅片表面进行清洁的方法
    采用微纳米气泡水对硅片表面进行清洁的方法_常州捷佳创精密机械有限公司_202511789869.3
    本发明属于硅片清洗技术领域，具体涉及一种采用微纳米气泡水对硅片表面进行清洁的方法，包括如下步骤：S1，将硅片加入机能水，所述机能水包括微纳米气泡且负载有与所述颗粒相反的电荷；S2，待微纳米气泡对硅片表面的颗粒形成吸附，使微纳米气泡脱离硅片表...
    2026-03-17
  • 一种在线翻转龙卷风吹扫装置及方法
    一种在线翻转龙卷风吹扫装置及方法_常州科瑞尔科技有限公司_202511856777.2
    本发明涉及半导体加工设备技术领域，尤其涉及一种在线翻转龙卷风吹扫装置及方法，包括：台面上开设有吹扫口；翻转机构包括固定在台面上的旋转组件，在旋转组件上旋转设置的机架，设置在机架上的送料组件与固定组件，固定组件朝向送料组件方向可相对靠近或远离...
    2026-03-17
  • 缺陷监测方法、设备、系统和存储介质
    缺陷监测方法、设备、系统和存储介质_上海光通信有限公司_202411188158.6
    本发明提供了一种缺陷监测方法、设备、系统和存储介质，在晶圆制造过程中，监测产线上的关键因素是否发生变化，关键因素包括产线上的使用物料、半导体机台的机况和半导体机台的使用程式中的至少一个；监测到关键因素发生变化时，将在变化后的产线状态下处理的...
    2026-03-17
  • 衬底处理设备
    衬底处理设备_细美事有限公司_202511280369.7
    提供了一种用于处理衬底的设备，所述设备包括：壳体，所述壳体内部具有用于处理衬底的处理空间；以及衬底支撑件，所述衬底支撑件用于支撑所述处理空间中的所述衬底，并且所述衬底支撑件包括第一支撑销和第二支撑销，所述第一支撑销的上端的高度被设置成高于所...
    2026-03-17
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